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常压射频等离子体沉积TiO2纳米颗粒膜的空间均匀性
被引量：
3
1
作者
李灵均
戴林君
+6 位作者
徐雨
SIDDIG Eashara. A.A.
丁可
黄晓江
李惠
石建军
张菁
《东华大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期467-472,共6页
常压等离子体增强化学气相沉积(AP-PECVD)薄膜的均匀性是AP-PECVD技术成功应用的关键问题之一。为此,通过基片的微位移实现了TiO_2纳米颗粒薄膜的连续沉积,同时研究了基片的不同移动方式对沉积薄膜的均匀性、表面形貌、结晶结构的影响...
常压等离子体增强化学气相沉积(AP-PECVD)薄膜的均匀性是AP-PECVD技术成功应用的关键问题之一。为此,通过基片的微位移实现了TiO_2纳米颗粒薄膜的连续沉积,同时研究了基片的不同移动方式对沉积薄膜的均匀性、表面形貌、结晶结构的影响。研究结果表明:相比单向移动沉积的薄膜,来回移动沉积的薄膜均匀性会得到提高,沉积速率降低;单向移动沉积的薄膜为锐钛矿晶型,而来回移动沉积的薄膜为锐钛矿和金红石混晶结构,且随功率密度的提高,混晶结构中金红石含量提高。由紫外可见吸收光谱分析可知,相比锐钛矿单晶结构,混晶结构的TiO_2薄膜在紫外光区的吸收光谱宽度发生了明显的增宽和红移现象,且金红石含量越高,此现象越明显。根据Kubelka-Munk公式求取TiO_2薄膜的光学带隙可知,锐钛矿和金红石混晶结构会引起能带的错列分布,从而导致光学带隙降低。
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关键词
常压射频等离子体
连续沉积
TiO2纳米颗粒薄膜
空间均匀性
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职称材料
常压射频放电占空比对SiO_x薄膜形貌和成分的影响
2
作者
任吉达
张杰
+3 位作者
韩乾翰
赵文亮
郭颖
石建军
《东华大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第1期139-143,共5页
采用常压射频等离子体放电技术,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)和Ar的混合气体为反应源,成功制备了SiO_x薄膜.通过测量放电的电流-电压曲线以及发射光谱,研究不同占空比对射频放电段放电特性的影响;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS...
采用常压射频等离子体放电技术,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)和Ar的混合气体为反应源,成功制备了SiO_x薄膜.通过测量放电的电流-电压曲线以及发射光谱,研究不同占空比对射频放电段放电特性的影响;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)以及X射线光电子能谱(XPS)研究了不同占空比放电条件下沉积的SiO_x薄膜的表面形貌与化学成分.研究结果表明,占空比对射频放电段的放电特性影响不大,但是随着放电脉冲占空比的增加,薄膜表面变得不平滑,椭球形颗粒增多,薄膜中无机成分也相应增加.
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关键词
常压射频等离子体
脉冲调制
占空比
SIOX薄膜
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职称材料
题名
常压射频等离子体沉积TiO2纳米颗粒膜的空间均匀性
被引量：
3
1
作者
李灵均
戴林君
徐雨
SIDDIG Eashara. A.A.
丁可
黄晓江
李惠
石建军
张菁
机构
东华大学理学院
东华大学材料科学与工程学院
出处
《东华大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期467-472,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(10775031,10835004)
文摘
常压等离子体增强化学气相沉积(AP-PECVD)薄膜的均匀性是AP-PECVD技术成功应用的关键问题之一。为此,通过基片的微位移实现了TiO_2纳米颗粒薄膜的连续沉积,同时研究了基片的不同移动方式对沉积薄膜的均匀性、表面形貌、结晶结构的影响。研究结果表明:相比单向移动沉积的薄膜,来回移动沉积的薄膜均匀性会得到提高,沉积速率降低;单向移动沉积的薄膜为锐钛矿晶型,而来回移动沉积的薄膜为锐钛矿和金红石混晶结构,且随功率密度的提高,混晶结构中金红石含量提高。由紫外可见吸收光谱分析可知,相比锐钛矿单晶结构,混晶结构的TiO_2薄膜在紫外光区的吸收光谱宽度发生了明显的增宽和红移现象,且金红石含量越高,此现象越明显。根据Kubelka-Munk公式求取TiO_2薄膜的光学带隙可知,锐钛矿和金红石混晶结构会引起能带的错列分布,从而导致光学带隙降低。
关键词
常压射频等离子体
连续沉积
TiO2纳米颗粒薄膜
空间均匀性
Keywords
atmospheric pressure radio frequency plasma
continuous deposition
Ti02 nanoparticulate film
spatial uniformity
分类号
O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
常压射频放电占空比对SiO_x薄膜形貌和成分的影响
2
作者
任吉达
张杰
韩乾翰
赵文亮
郭颖
石建军
机构
东华大学理学院
出处
《东华大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第1期139-143,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(11475043
11375042)
文摘
采用常压射频等离子体放电技术,以六甲基二硅氧烷(HMDSO)和Ar的混合气体为反应源,成功制备了SiO_x薄膜.通过测量放电的电流-电压曲线以及发射光谱,研究不同占空比对射频放电段放电特性的影响;利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)以及X射线光电子能谱(XPS)研究了不同占空比放电条件下沉积的SiO_x薄膜的表面形貌与化学成分.研究结果表明,占空比对射频放电段的放电特性影响不大,但是随着放电脉冲占空比的增加,薄膜表面变得不平滑,椭球形颗粒增多,薄膜中无机成分也相应增加.
关键词
常压射频等离子体
脉冲调制
占空比
SIOX薄膜
Keywords
atmospheric radio frequency plasma
pulsed modulate discharge
duty cycle
SiOx thin film
分类号
O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
常压射频等离子体沉积TiO2纳米颗粒膜的空间均匀性
李灵均
戴林君
徐雨
SIDDIG Eashara. A.A.
丁可
黄晓江
李惠
石建军
张菁
《东华大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2018
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
常压射频放电占空比对SiO_x薄膜形貌和成分的影响
任吉达
张杰
韩乾翰
赵文亮
郭颖
石建军
《东华大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2017
0
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职称材料
已选择
0
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参考文献
引证文献
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