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常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究被引量：2: 1; 作者段钢锋赵高凌 +5 位作者林小璇吴历清杜丕一翁文剑汪建勋韩高荣《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期847-850,共4页; 在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜。对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究。随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形... 展开更多; 关键词氮化钛常压化学气相沉积法沉积时间结构阳光控制性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

重掺硅片表面APCVD法生长SiO_(2)薄膜的致密性: 2; 作者史延爽王浩铭 +2 位作者田原张旭武永超《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期544-548,共5页; 在硅片加工过程中,金属杂质的存在会增大pn结器件的漏电流,甚至直接导致pn结禁带宽度变窄,为防止出现硅外延过程中造成的自掺杂现象,通常在硅片表面生长一层高致密性的SiO_(2)薄膜。基于常压化学气相沉积(APCVD)法在6英寸(1英寸≈2.54 c... 展开更多; 关键词常压化学气相沉积(APCVD)法 SiO_(2)薄膜致密性自掺杂沉积速率; 在线阅读下载PDF 职称材料

HP40钢表面沉积SiO_2功能涂层工艺被引量：8: 3; 作者罗小秋黄志荣 +1 位作者孙启凤黄青《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期40-42,53,共4页; 以正硅酸乙酯为源物质,空气为载气,采用常压化学气相沉积法在HP40(25Cr35Ni)合金钢基体上制备了SiO2涂层;研究了沉积温度、源物质温度以及气体流量等工艺参数对沉积速率的影响,并通过XRD和SEM分析了涂层的物相组成及表面形貌。结果表明... 展开更多; 关键词常压化学气相沉积法 SiO2涂层 HP40钢沉积速率; 在线阅读下载PDF 职称材料

退役炉管内表面二氧化硅涂层的制备及抗结焦性能研究被引量：3: 4; 作者栾小建徐宏 +2 位作者王志远周建新朱巍《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期67-71,73,共6页; 采用常压化学气相沉积法在退役Fe-Cr-Ni炉管内表面制备了SiO2涂层,对其抗结焦性能进行了研究。运用扫描电子显微镜和能量色散谱仪分析了原始退役炉管及SiO2涂层的表面形貌和组织结构;考察了在乙烯裂解的工艺条件下SiO2涂层的抗结焦能力... 展开更多; 关键词退役炉管 SiO2涂层常压化学气相沉积法结焦热冲击; 在线阅读下载PDF 职称材料

反射红外及自清洁的多功能镀膜玻璃的制备被引量：2: 5; 作者鲍思权姜宏 +2 位作者赵会峰张振华王琦《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第11期3628-3632,共5页; 以钛酸异丙酯[Ti(OC_4H_7)_4,TTIP]、单丁基三氯化锡[C_4H_9SnCl_3,MBTC]及三氟乙酸[CF_3COOH,TFA]作为反应前驱体,利用常压化学气相沉积法制备具有反射红外及自清洁功能的多功能TiO_2/SnO_2∶F复合膜镀膜玻璃。通过扫描电镜、X射线衍... 展开更多; 关键词常压化学气相沉积法 TiO2/SnO2∶F复合膜反射红外光降解; 在线阅读下载PDF 职称材料

在线APCVD镀膜玻璃渐变过渡层性能研究: 6; 作者胡铁石符有杰 +3 位作者赵会峰张振华潘国治姜宏《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第12期4157-4162,共6页; 通过在线常压化学相沉积镀膜手段制备了FTO玻璃的单层硅/锡混合过渡膜层,并通过各种分析手段测试了可见光透过率、方块电阻、膜层表面结构及纵向元素分布等性能,研究了其结构组成对各项性能的影响。结果表明:膜层中Sn含量由表面至基底... 展开更多; 关键词 FTO薄膜过渡层渐变膜层在线镀膜常压化学气相沉积法; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究被引量：2: 1; 作者段钢锋赵高凌林小璇吴历清杜丕一翁文剑汪建勋韩高荣; 机构浙江大学材料科学与工程系; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期847-850,共4页; 基金国家自然科学基金资助项目(50672086); 文摘在普通玻璃基板上利用常压化学气相沉积法在580℃条件下制备得到了氮化钛薄膜。对薄膜的结晶性能、断面形貌、方块电阻以及光学透过率和反射率进行了研究。随着沉积时间的增长,薄膜由单层结构变为一种特殊的双层结构,这种双层结构的形成是沉积过程中气相成核机制引起的。光谱结果显示制备得到的薄膜具备一定的阳光控制性能。然而,双层薄膜的红外反射率随沉积时间的增长迅速降低,影响了其阳光控制性能。; 关键词氮化钛常压化学气相沉积法沉积时间结构阳光控制性能; Keywords titanium nitride atmospheric pressure chemical vapor deposition deposition time structure solar control performance; 分类号 TQ134 [化学工程—无机化工]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名重掺硅片表面APCVD法生长SiO_(2)薄膜的致密性: 2; 作者史延爽王浩铭田原张旭武永超; 机构中国电子科技集团公司第四十六研究所; 出处《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期544-548,共5页; 文摘在硅片加工过程中,金属杂质的存在会增大pn结器件的漏电流,甚至直接导致pn结禁带宽度变窄,为防止出现硅外延过程中造成的自掺杂现象,通常在硅片表面生长一层高致密性的SiO_(2)薄膜。基于常压化学气相沉积(APCVD)法在6英寸(1英寸≈2.54 cm)n型硅片表面生长SiO_(2)薄膜,首先研究不同沉积温度、SiH_(4)和O_(2)的体积流量比对沉积速率和SiO_(2)薄膜致密性的影响,进一步探究了不同退火温度对SiO_(2)薄膜致密性的影响,以期获得致密性较高的SiO_(2)薄膜。采用HF腐蚀速率法表征其致密性,采用扫描电子显微镜(SEM)观察SiO_(2)薄膜的表面形貌,采用F50膜厚测试仪测试SiO_(2)薄膜的厚度。结果表明,沉积温度为400℃,SiH_(4)和O_(2)的体积流量比为1∶10,退火温度为1100℃时,制备的SiO_(2)薄膜的致密性为0.096 nm/s(采用体积分数为1%的HF腐蚀)。; 关键词常压化学气相沉积(APCVD)法 SiO_(2)薄膜致密性自掺杂沉积速率; Keywords atmospheric pressure chemical vapor deposition(APCVD)method SiO_(2)film com-pactness self-doping deposition rate; 分类号 TN305.5 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名HP40钢表面沉积SiO_2功能涂层工艺被引量：8: 3; 作者罗小秋黄志荣孙启凤黄青; 机构华东理工大学机械与动力工程学院; 出处《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期40-42,53,共4页; 文摘以正硅酸乙酯为源物质,空气为载气,采用常压化学气相沉积法在HP40(25Cr35Ni)合金钢基体上制备了SiO2涂层;研究了沉积温度、源物质温度以及气体流量等工艺参数对沉积速率的影响,并通过XRD和SEM分析了涂层的物相组成及表面形貌。结果表明:用此方法可在HP40钢表面沉积出表面均匀致密且与基体具有一定结合强度的涂层,较合理的工艺参数为源物质温度60℃、沉积温度800℃、气体流量3.33 L.min-1。; 关键词常压化学气相沉积法 SiO2涂层 HP40钢沉积速率; Keywords APCVD silicon dioxide coating steel HP40 disposition rate; 分类号 TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名退役炉管内表面二氧化硅涂层的制备及抗结焦性能研究被引量：3: 4; 作者栾小建徐宏王志远周建新朱巍; 机构化学工程联合国家重点实验室华东理工大学机械与动力工程学院中国石化扬子石化有限公司; 出处《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期67-71,73,共6页; 基金上海市重点学科建设项目(B503) 扬子石化有限公司资助; 文摘采用常压化学气相沉积法在退役Fe-Cr-Ni炉管内表面制备了SiO2涂层,对其抗结焦性能进行了研究。运用扫描电子显微镜和能量色散谱仪分析了原始退役炉管及SiO2涂层的表面形貌和组织结构;考察了在乙烯裂解的工艺条件下SiO2涂层的抗结焦能力,并对其抗热冲击性能进行了研究。结果表明,所制备的涂层表面完整、粒子结合致密,结焦试验2 h的结焦抑制率为70.6%;涂层可以经受7次900℃高温水冷热冲击试验。采用常压化学气相沉积法在炉管内表面制备SiO2涂层是行之有效的抑制结焦的方法。; 关键词退役炉管 SiO2涂层常压化学气相沉积法结焦热冲击; Keywords cracking tube after service SiO2 coating atmospheric pressure chemical vapor deposition coking thermal shock; 分类号 TK227.2 [动力工程及工程热物理—动力机械及工程] TF124.85 [冶金工程—粉末冶金]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名反射红外及自清洁的多功能镀膜玻璃的制备被引量：2: 5; 作者鲍思权姜宏赵会峰张振华王琦; 机构海南大学海南省特种玻璃重点实验室海南中航特玻材料有限公司特种玻璃国家重点实验室海南中航特玻科技有限公司; 出处《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第11期3628-3632,共5页; 基金国家科技支撑计划课题项目(2013BAJ15B04); 文摘以钛酸异丙酯[Ti(OC_4H_7)_4,TTIP]、单丁基三氯化锡[C_4H_9SnCl_3,MBTC]及三氟乙酸[CF_3COOH,TFA]作为反应前驱体,利用常压化学气相沉积法制备具有反射红外及自清洁功能的多功能TiO_2/SnO_2∶F复合膜镀膜玻璃。通过扫描电镜、X射线衍射及近红外光区反射光谱等技术手段对其进行分析,研究了反应物TTIP的流量变化及SnO_2∶F薄膜对TiO_2薄膜性能的影响。结果表明:随着TTIP流量的增大,TiO_2/SnO_2∶F在高频近红外波段的反射率逐渐提高,但其光降解甲基橙的性能先提高后降低;SnO_2∶F薄膜可以改善复合膜中TiO_2的致密性,提高TiO_2在近红外的反射率,同时TiO_2/SnO_2∶F复合膜可以有效延长电子-空穴对的复合时间,从而提高了TiO_2薄膜的光降解性能。; 关键词常压化学气相沉积法 TiO2/SnO2∶F复合膜反射红外光降解; Keywords atmospheric pressure chemical vapor deposition TiO2/SnO2 ： F composite films reflectinginfrared photodegradation; 分类号 TB321 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名在线APCVD镀膜玻璃渐变过渡层性能研究: 6; 作者胡铁石符有杰赵会峰张振华潘国治姜宏; 机构海南中航特玻材料有限公司特种玻璃国家重点实验室海南中航特玻科技有限公司海南大学南海海洋资源利用国家重点实验室; 出处《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第12期4157-4162,共6页; 基金中航工业通飞科技发展研究项目(TFKY2015002); 文摘通过在线常压化学相沉积镀膜手段制备了FTO玻璃的单层硅/锡混合过渡膜层,并通过各种分析手段测试了可见光透过率、方块电阻、膜层表面结构及纵向元素分布等性能,研究了其结构组成对各项性能的影响。结果表明:膜层中Sn含量由表面至基底玻璃逐渐减小同时Si含量逐渐增加,为良好的SiO_2/SnO_2渐变结构膜层;膜层可见光透过率主要由其膜层结构决定,在一定的范围内,可以通过调整膜层的渐变结构来改变其可见光透过率;表层致密程度及膜层结构渐变可以改善膜层的导电性;可作为FTO镀膜玻璃的过渡层使用。; 关键词 FTO薄膜过渡层渐变膜层在线镀膜常压化学气相沉积法; Keywords FTO film transition layer gradient film online coating APCVD; 分类号 TB43 [一般工业技术]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究	段钢锋赵高凌林小璇吴历清杜丕一翁文剑汪建勋韩高荣	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2010	2	在线阅读下载PDF 职称材料
2	重掺硅片表面APCVD法生长SiO_(2)薄膜的致密性	史延爽王浩铭田原张旭武永超	《半导体技术》 CAS 北大核心	2024	0	在线阅读下载PDF 职称材料
3	HP40钢表面沉积SiO_2功能涂层工艺	罗小秋黄志荣孙启凤黄青	《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心	2008	8	在线阅读下载PDF 职称材料
4	退役炉管内表面二氧化硅涂层的制备及抗结焦性能研究	栾小建徐宏王志远周建新朱巍	《现代化工》 CAS CSCD 北大核心	2010	3	在线阅读下载PDF 职称材料
5	反射红外及自清洁的多功能镀膜玻璃的制备	鲍思权姜宏赵会峰张振华王琦	《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心	2016	2	在线阅读下载PDF 职称材料
6	在线APCVD镀膜玻璃渐变过渡层性能研究	胡铁石符有杰赵会峰张振华潘国治姜宏	《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心	2017	0	在线阅读下载PDF 职称材料