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巨磁阻隔离器的设计与工艺制备
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作者 李尧 吴回州 《电子科技大学学报》 北大核心 2025年第5期700-705,共6页
为了保证信号完整且高速地传输,必须要在电子系统之间实施电气隔离。首先通过磁控溅射法制备了结构为Sub(Si/SiO_(2))(300 nm)/Ta(5 nm)/NiFe(4.5 nm)/CoFe(1.5 nm)/Cu(2.5 nm)/CoFe(5.5 nm)/IrMn(10 nm)/Ta(5 nm)的顶钉扎自旋阀巨磁阻... 为了保证信号完整且高速地传输,必须要在电子系统之间实施电气隔离。首先通过磁控溅射法制备了结构为Sub(Si/SiO_(2))(300 nm)/Ta(5 nm)/NiFe(4.5 nm)/CoFe(1.5 nm)/Cu(2.5 nm)/CoFe(5.5 nm)/IrMn(10 nm)/Ta(5 nm)的顶钉扎自旋阀巨磁阻薄膜,在制备薄膜的基础上,通过光刻、离子束(IBE)刻蚀、金属剥离等半导体工艺制备了一种巨磁阻隔离器,通过等离子体化学气相沉积法(PECVD)生长SiO_(2)隔离栅的厚度为4μm,其耐压强度可达2 kV。利用吉时利多功能探针台进行晶圆级测试,当平面线圈的输入电流为6 mA时,巨磁阻隔离器输出电压约为20 mV,对晶圆切片引线后进行电路级测试,巨磁阻隔离器工作频率为25 MHz。整个工艺流程需要6次光刻,工艺参数稳定,对于巨磁阻隔离器的制备具有参考价值。 展开更多
关键词 巨磁阻隔离器 控溅射法 光刻 SiO_(2)隔离栅 耐压强度
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基于Ansys Maxwell巨磁阻隔离器结构中线圈磁场的研究 被引量:1
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作者 吴回州 李尧 +2 位作者 卢启海 刘良朋 宋玉哲 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第8期64-67,共4页
巨磁阻(GMR)隔离器中平面线圈的主要作用是将电信号转化为磁信号,为了确定平面线圈的具体参数,基于Ansys Maxwell/2D对GMR隔离器结构中平面线圈的磁场影响参数进行扫描分析,确定了GMR隔离器的输入电流为5.94 mA,结合现有工艺条件,确定... 巨磁阻(GMR)隔离器中平面线圈的主要作用是将电信号转化为磁信号,为了确定平面线圈的具体参数,基于Ansys Maxwell/2D对GMR隔离器结构中平面线圈的磁场影响参数进行扫描分析,确定了GMR隔离器的输入电流为5.94 mA,结合现有工艺条件,确定了平面线圈线宽5μm,线间距2μm,厚度2μm及线圈中心间距100μm。进一步利用Maxwell/3D建立平面线圈的3D模型,对该模型进行静磁场下的磁场强度分析,平面线圈在正下方13μm厚度的SiO_(2)隔离栅处产生的磁场强度为4.18 Oe左右,满足GMR隔离器的制作要求,为GMR隔离器平面线圈的设计提供参考。 展开更多
关键词 巨磁阻隔离器 平面线圈 Ansys Maxwell 场强度
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