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题名PCM设备电容参数整体校准方法研究
被引量：2
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作者
乔玉娥
刘霞美
丁晨
朱超
吴爱华
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机构
中国电子科技集团公司第十三研究所
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出处
《计量学报》
CSCD
北大核心
2023年第6期962-967,共6页
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文摘
半导体行业中普遍使用的工艺过程监控设备(PCM设备),是芯片产品中测环节必不可少的测量设备。PCM设备电容参数的准确测量,是保证与电容制作相关工艺参数的重要手段。针对国内PCM设备电容参数暂无溯源途径现状,根据其测试原理,研究了基于在片电容标准件的整体无损校准方法。采用增加绝缘层的半导体工艺,研制了高稳定性、频响至1 MHz、电容低至0.5 pF的在片电容标准件,满足了国内PCM设备电容参数自动校准需求,测量不确定度优于1%。研究了PCM设备电容参数溯源方法,从而保证了芯片产品PCM图形电容量值测量结果的准确一致,提高了计量效率。
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关键词
计量学
在片电容标准件
工艺过程监控设备
整体校准
定标装置
溯源
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Keywords
metrology
on-wafer capacitor standards
PCM
whole-calibration
calibration device
traceability
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分类号
TB973
[机械工程—测试计量技术及仪器]
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