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题名ZnO的激光分子束外延法制备及X射线研究
被引量：10
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作者
杨晓东
张景文
毕臻
贺永宁
侯洵
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机构
中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室
西安交通大学信息光子技术陕西省重点实验室
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第3期485-489,共5页
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基金
教育部985工程
教育部211工程二期
+1 种基金
河南省杰出人才基金
教育部博士点基金资助
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文摘
利用激光分子束外延(L-MBE)技术在α-Al2O3(0001)衬底上生长出了沿C轴高度择优取向的ZnO外延薄膜,并采用Philips四晶高分辨X射线衍射仪(Philip′s X′Pert HR-MRD)对ZnO薄膜的表面及结构特性进行了研究.应用小角度X射线分析方法(GIXA)对ZnO薄膜的表面以及ZnO/Al2O3界面状况进行了定量表征.X射线反射率(XRR)曲线出现了清晰的源于良好表面及界面特性的Kiessig干涉振荡峰,通过对其精确拟合求得ZnO薄膜的表面及界面粗糙度分别为0.34nm和1.12nm.ZnO薄膜与α-Al2O3(0001)衬底的XRD在面(in-plane)Φ扫描结果表明形成了单一的平行畴(Alignedin-plane Oriented Domains),其在面外延关系为ZnO[1010]||Al2O3[1120].XRDω-2θ扫描以及ω摇摆曲线半峰宽分别为0.12度和1.27度,这一结果表明通过形成平行畴及晶格驰豫过程,ZnO薄膜中的应力得到了有效的释放,但同时也引入了螺位错.
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关键词
氧化锌
激光分子束外延
小角度x射线分析
x射线反射率
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Keywords
ZnO
Laser molecular beam epitaxy
Glancing incidence x-ray analysis
x-ray reflectivity
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分类号
O484.1
[理学—固体物理]
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题名L-MBE法生长ZnO薄膜的退火研究
被引量：9
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作者
杨晓东
张景文
王东
毕臻
侯洵
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机构
中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室
西安交通大学信息光子技术省重点实验室
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期996-1000,共5页
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基金
教育部985工程基金资助
教育部211工程二期基金资助
+1 种基金
河南省杰出人才基金
教育部博士点基金资助
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文摘
研究了空气退火对于激光分子束外延(L-MBE)法制备的ZnO薄膜光学及结构特性的影响,报道了采用小角度X射线分析(GIXA)技术对于ZnO薄膜退火前后的表面及界面状况的定量分析结果.RHEED衍射图样表明,薄膜经过380℃及600℃原位退火后,其表面仍然较为粗糙.而XRD在面(in-plane)Φ扫描结果显示出经过800℃空气退火之后,薄膜具有更好的外延取向性.GIXA分析结果表明,800℃退火后ZnO薄膜的表面方均根粗糙度从退火前的1.13nm下降为0.37nm;同时ZnO/Al2O3界面粗糙度从2.10nm上升为2.59nm.ZnO室温PL结果显示,退火后薄膜紫外近带边发光强度比退火前增大了40倍,并出现了源于电子-空穴等离子体(EHP)复合的N带受激发射峰,激发阈值约为200kW/cm2.
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关键词
氧化锌
激光分子束外延
退火
光致发光
在面Φ扫描
小角度x射线分析
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Keywords
ZnO
Laser molecular beam epitaxy
Annealing process
Photoluminescence
In-plane Φscan
Glancing inciderice x-ray analysis
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分类号
O484
[理学—固体物理]
TG155.22
[金属学及工艺—热处理]
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