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硅碳氧薄膜光学性能研究被引量：4: 1; 作者李晨陈焘 +1 位作者王多书张平《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期732-735,共4页; 硅碳氧（SiCO）薄膜是一种三元玻璃状化合物材料,具有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高等特性,是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜材料。本文采用射频磁控溅射技术在Si（100）及K9玻璃上制备了硅碳氧薄膜。利用椭圆偏振仪、紫外... 展开更多; 关键词硅碳氧薄膜射频磁控溅射技术光学性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

不同组分La-Ni-O薄膜的红外光谱特性研究被引量：1: 2; 作者赵强胡志高 +2 位作者黄志明王根水褚君浩《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期95-98,共4页; 采用射频磁控溅射和组合靶在 2 6 0℃的 ( 111)Si上制备了不同Ni、La含量比的La Ni O薄膜 .通过拟合 2～ 12 .5 μm波长范围的反射和透射光谱 ,得出了薄膜在此区间的折射率和消光系数 .薄膜的折射率随波长的增长均呈现单调增大的变化趋... 展开更多; 关键词镍酸镧薄膜红外光谱导电性晶格常数射频磁控溅射技术折射率消光系数; 在线阅读下载PDF 职称材料

N2流量对N掺杂MgZnO薄膜结构和性能的影响被引量：1: 3; 作者高丽丽李永峰 +2 位作者徐莹张淼姚斌《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期689-694,共6页; 利用射频磁控溅射方法,使用Mg0.04Zn0.96O陶瓷靶材,选用不同流量比的氮气和氩气混和气体作为溅射气体,在石英基片上生长N掺杂MgxZn1-xO合金薄膜。研究了氮流量比对薄膜组分、结构、形貌、电学性质和拉曼光谱的影响。结果显示:随着溅射... 展开更多; 关键词射频磁控溅射技术 N掺杂MgZnO薄膜氮流量比光电性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

Ge-SiO_2与Si-SiO_2薄膜中颗粒形成的对比研究: 4; 作者成珏飞吴雪梅诸葛兰剑《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期245-248,共4页; 以Ge SiO2 和Si SiO2 复合靶作为溅射靶 ,分别采用射频磁控溅射技术和双离子束溅射技术制得了Ge SiO2 和Si SiO2 薄膜。然后分别在N2 气氛中经过 6 0 0℃— 10 0 0℃的不同温度的退火。通过X射线衍射 (XRD) ,透射电子显微镜 (TEM) ,光... 展开更多; 关键词 SIO2薄膜射频磁控溅射技术光电子能谱氧原子双离子束溅射颗粒溅射靶速率高温退火退火温度; 在线阅读下载PDF 职称材料

单元素半导体量子点制备及其光致发光性能的研究进展: 5; 作者刘俊朋杜希文 +1 位作者孙景鲁颖炜《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第F04期225-226,229,共3页; 单元素半导体量子点的制备成功使光电集成成为可能。介绍了单元素半导体量子点的制备方法，包括射频磁控溅射技术、硅离子注入技术、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法等；并且介绍了单元素半导体量子点的发光机理模型，包括量子限制效应模... 展开更多; 关键词半导体量子点光致发光性能元素研究进展射频磁控溅射技术化学气相沉积法离子注入技术溶胶-凝胶法量子限制效应光电集成制备方法机理模型效应模型激子效应复合发光发光中心发展前景界面层; 在线阅读下载PDF 职称材料

柔性衬底Zn-Sn-O透明导电膜的特性: 6; 作者黄树来姜永超 +2 位作者盖凌云孙玉林徐进栋《莱阳农学院学报》 2004年第3期245-248,共4页; 采用射频磁控溅射技术首次在有机薄膜衬底上低温制备出具有低电阻率和良好附着性的Zn-Sn-O透明导电膜。研究了有机衬底和玻璃衬底Zn-Sn-O薄膜的结构、表面形貌和组分。制备薄膜为非晶结构,有机衬底Zn-Sn-O透明导电膜的最低电阻率和可见... 展开更多; 关键词有机衬底锌-锡-氧透明导电膜射频磁控溅射技术结构表面形貌组分; 在线阅读下载PDF 职称材料

高质量新型多层复合储能薄膜研制成功: 7; 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2016年第12期36-36,共1页; 西安交通大学研究人员利用射频磁控溅射技术，制备出高质量的多层复合薄膜，并研究了其储能性能。; 关键词复合薄膜多层复合储能质量射频磁控溅射技术西安交通大学研究人员; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名硅碳氧薄膜光学性能研究被引量：4: 1; 作者李晨陈焘王多书张平; 机构兰州空间技术物理研究所表面工程技术重点实验室; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期732-735,共4页; 基金表面工程技术重点实验室基金项目(914C540107090C54)资助; 文摘硅碳氧（SiCO）薄膜是一种三元玻璃状化合物材料,具有热稳定性好、能带宽、折射率大、硬度高等特性,是一种具有潜在应用价值的新颖光学薄膜材料。本文采用射频磁控溅射技术在Si（100）及K9玻璃上制备了硅碳氧薄膜。利用椭圆偏振仪、紫外/可见/近红外光度计及X射线光电子能谱测试表征了薄膜的光学性能及薄膜组分。研究发现,通过改变基片温度、工作压强及溅射功率等工艺参数,所制备的硅碳氧薄膜均具有高折射率（大于1.80）,相比之下,K9玻璃基硅碳氧薄膜的折射率有着更大的变化范围（1.84~2.20）。通过对K9玻璃基硅碳氧薄膜的光学透射性能研究表明,以硅碳氧陶瓷作为溅射靶材,采用射频磁控溅射技术在K9玻璃基上可以制备出,在可见光及近红外区域有着较好光学透射性能,平均透过率能到达83%的硅碳氧薄膜。; 关键词硅碳氧薄膜射频磁控溅射技术光学性能; Keywords Silicon oxycarbide Thin films Rf-magnetron sputtering Optical properties; 分类号 TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名不同组分La-Ni-O薄膜的红外光谱特性研究被引量：1: 2; 作者赵强胡志高黄志明王根水褚君浩; 机构华东师范大学纳米功能材料与器件应用研究中心中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室; 出处《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期95-98,共4页; 基金上海市科研计划资助项目 (0 3 5 2NM0 77); 文摘采用射频磁控溅射和组合靶在 2 6 0℃的 ( 111)Si上制备了不同Ni、La含量比的La Ni O薄膜 .通过拟合 2～ 12 .5 μm波长范围的反射和透射光谱 ,得出了薄膜在此区间的折射率和消光系数 .薄膜的折射率随波长的增长均呈现单调增大的变化趋势 ,并且随组分的变化 ,此趋势没有大的变化 .而消光系数的色散却对薄膜的组分具有很大的依赖性 .实验结果同时表明 ,在La含量较高时 ,薄膜为无定型结构 ,并且具有较大的电阻率 .当Ni、La含量比大于1∶1.4 4后 ,薄膜具有 ( 10 0 )择优取向的赝立方钙钛矿结构 ,同时具有金属导电性 .薄膜的晶面间距、电导率、折射率和消光系数随着Ni含量的增加具有相似的变化规律 .并在Ni∶La =1∶1时 ,晶面间距和电阻率达到最小值 ,对所有实验现象 ,文中从LaNiO3 薄膜的导电机理出发给出了理论分析 ,并取得了比较一致的结果 .; 关键词镍酸镧薄膜红外光谱导电性晶格常数射频磁控溅射技术折射率消光系数; Keywords LaNiO 3 films optical properties electric conductivity lattice constant; 分类号 O484.41 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名N2流量对N掺杂MgZnO薄膜结构和性能的影响被引量：1: 3; 作者高丽丽李永峰徐莹张淼姚斌; 机构北华大学物理学院吉林大学物理学院; 出处《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期689-694,共6页; 基金国家自然科学基金(11274135) 吉林省教育厅“十二五”科学技术研究项目(2013189)资助; 文摘利用射频磁控溅射方法,使用Mg0.04Zn0.96O陶瓷靶材,选用不同流量比的氮气和氩气混和气体作为溅射气体,在石英基片上生长N掺杂MgxZn1-xO合金薄膜。研究了氮流量比对薄膜组分、结构、形貌、电学性质和拉曼光谱的影响。结果显示:随着溅射气氛中氮流量比的增加,薄膜中Mg含量增加,薄膜表面颗粒尺寸减小,结晶质量变差,电阻率逐渐增大,导电类型发生转变。在氮流量比为20%时,获得了最好的p型导电薄膜。另外,随着氮流量比的增加,拉曼光谱中与NO相关的位于272 cm-1、642 cm-1左右的振动峰逐渐增强,表明NO的浓度随着氮流量比的加大而有所增加。; 关键词射频磁控溅射技术 N掺杂MgZnO薄膜氮流量比光电性能; Keywords radio frequency magnetron sputtering technique N doped MgZnO films flux ratio of N2/(N2+ Ar) photoelectric properties; 分类号 O484.4 [理学—固体物理] O472 [理学—半导体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名Ge-SiO_2与Si-SiO_2薄膜中颗粒形成的对比研究: 4; 作者成珏飞吴雪梅诸葛兰剑; 机构苏州大学物理系苏州市职业大学苏州; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期245-248,共4页; 基金江苏省高校自然科学基金资助No .0 3kJB14 0 116; 文摘以Ge SiO2 和Si SiO2 复合靶作为溅射靶 ,分别采用射频磁控溅射技术和双离子束溅射技术制得了Ge SiO2 和Si SiO2 薄膜。然后分别在N2 气氛中经过 6 0 0℃— 10 0 0℃的不同温度的退火。通过X射线衍射 (XRD) ,透射电子显微镜 (TEM) ,光电子能谱 (XPS)分析等测试手段 ,将两种薄膜进行了比较。在Ge SiO2 样品中 ,随退火温度的升高 ,会发生GeOx 的热分解或者与Si发生化学反应 ,引起部分氧原子逸出和Ge原子的扩散和聚集 ,从而形成纳米Ge的晶粒。在Si SiO2 薄膜样品中 ,由于Si的成核长大速率较低 ,因而颗粒长大的速率较慢 ,薄膜内不易形成Si颗粒。只有经 10 0 0℃高温退火后样品中才有少量单质Si颗粒形成。; 关键词 SIO2薄膜射频磁控溅射技术光电子能谱氧原子双离子束溅射颗粒溅射靶速率高温退火退火温度; Keywords Ge-SiO 2 thin film,Si-SiO 2 thin film,nc-Ge particle,nc-Si particle; 分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程] O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名单元素半导体量子点制备及其光致发光性能的研究进展: 5; 作者刘俊朋杜希文孙景鲁颖炜; 机构天津大学材料学院; 出处《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第F04期225-226,229,共3页; 文摘单元素半导体量子点的制备成功使光电集成成为可能。介绍了单元素半导体量子点的制备方法，包括射频磁控溅射技术、硅离子注入技术、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法等；并且介绍了单元素半导体量子点的发光机理模型，包括量子限制效应模型、与氧有关的缺陷发光、量子限制效应-发光中心复合发光和界面层中的激子效应发光等；另外对单元素半导体量子点的发展前景进行了展望。; 关键词半导体量子点光致发光性能元素研究进展射频磁控溅射技术化学气相沉积法离子注入技术溶胶-凝胶法量子限制效应光电集成制备方法机理模型效应模型激子效应复合发光发光中心发展前景界面层; 分类号 O471.1 [理学—半导体物理] O631.24 [理学—高分子化学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名柔性衬底Zn-Sn-O透明导电膜的特性: 6; 作者黄树来姜永超盖凌云孙玉林徐进栋; 机构莱阳农学院理学院石油大学资源与信息学院; 出处《莱阳农学院学报》 2004年第3期245-248,共4页; 基金国家自然科学基金项目(No.60276044); 文摘采用射频磁控溅射技术首次在有机薄膜衬底上低温制备出具有低电阻率和良好附着性的Zn-Sn-O透明导电膜。研究了有机衬底和玻璃衬底Zn-Sn-O薄膜的结构、表面形貌和组分。制备薄膜为非晶结构,有机衬底Zn-Sn-O透明导电膜的最低电阻率和可见光平均透过率分别为1.3×10-2Ω·cm和82%。薄膜中的氧偏离理想化学配比,存在着较多的氧空位,氧空位是薄膜中载流子的主要来源。; 关键词有机衬底锌-锡-氧透明导电膜射频磁控溅射技术结构表面形貌组分; Keywords organic substrates Zn-Sn-O films r.f. magnetron sputtering PACC 6855 8155C 7360; 分类号 TM24 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名高质量新型多层复合储能薄膜研制成功: 7; 出处《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2016年第12期36-36,共1页; 文摘西安交通大学研究人员利用射频磁控溅射技术，制备出高质量的多层复合薄膜，并研究了其储能性能。; 关键词复合薄膜多层复合储能质量射频磁控溅射技术西安交通大学研究人员; 分类号 TQ320.721 [化学工程—合成树脂塑料工业]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	硅碳氧薄膜光学性能研究	李晨陈焘王多书张平	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2012	4	在线阅读下载PDF 职称材料
2	不同组分La-Ni-O薄膜的红外光谱特性研究	赵强胡志高黄志明王根水褚君浩	《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2004	1	在线阅读下载PDF 职称材料
3	N2流量对N掺杂MgZnO薄膜结构和性能的影响	高丽丽李永峰徐莹张淼姚斌	《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2014	1	在线阅读下载PDF 职称材料
4	Ge-SiO_2与Si-SiO_2薄膜中颗粒形成的对比研究	成珏飞吴雪梅诸葛兰剑	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2004	0	在线阅读下载PDF 职称材料
5	单元素半导体量子点制备及其光致发光性能的研究进展	刘俊朋杜希文孙景鲁颖炜	《材料导报》 EI CAS CSCD	2004	0	在线阅读下载PDF 职称材料
6	柔性衬底Zn-Sn-O透明导电膜的特性	黄树来姜永超盖凌云孙玉林徐进栋	《莱阳农学院学报》	2004	0	在线阅读下载PDF 职称材料
7	高质量新型多层复合储能薄膜研制成功		《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心	2016	0	在线阅读下载PDF 职称材料