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In掺杂MoO_(3)纳米带的室温氢敏性能研究 被引量:1
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作者 殷涛 刘宇航 +2 位作者 薛倩倩 杨树林 王钊 《功能材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第8期8118-8123,共6页
通过水热法成功制备了In掺杂的MoO_(3)纳米带,并探究了In掺杂浓度对其物相、形貌和室温氢敏性能的影响。结果表明,In掺杂后产物均为正交相MoO_(3)纳米带,平均长度约为5μm,直径约为200 nm。随着In掺杂浓度从2%(原子分数)提高到6%,材料... 通过水热法成功制备了In掺杂的MoO_(3)纳米带,并探究了In掺杂浓度对其物相、形貌和室温氢敏性能的影响。结果表明,In掺杂后产物均为正交相MoO_(3)纳米带,平均长度约为5μm,直径约为200 nm。随着In掺杂浓度从2%(原子分数)提高到6%,材料的室温氢敏性能逐渐增强,但当掺杂浓度进一步提高到10%时,室温氢敏性能反而恶化。其中,6%掺杂的MoO_(3)纳米带表现出最佳的室温氢敏性能,对3000×10^(-6) H_(2)的响应度约为1.84,响应时间约为42 s。此外,所得In掺杂MoO_(3)纳米带具有良好的重复性、选择性和稳定性。 展开更多
关键词 气传感器 三氧化钼 纳米带 铟掺杂 室温氢敏
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