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沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响
被引量：
3
1
作者
邓赞红
方晓东
+4 位作者
陶汝华
董伟伟
周曙
孟钢
邵景珍
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期281-284,共4页
采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2薄膜.在沉积激光能量100～180mJ范围内原位沉积的薄膜并在N2气氛下900℃异位退火1h处理后,所有薄膜均为高度c轴取向的单相CuAlO2薄膜,晶粒尺寸～49nm.随着沉积激光能量的增大,薄膜厚度增加,表面颗粒尺寸...
采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2薄膜.在沉积激光能量100～180mJ范围内原位沉积的薄膜并在N2气氛下900℃异位退火1h处理后,所有薄膜均为高度c轴取向的单相CuAlO2薄膜,晶粒尺寸～49nm.随着沉积激光能量的增大,薄膜厚度增加,表面颗粒尺寸明显增大,在可见光区的平均透射率下降.室温光致发光谱发现,CuAlO2薄膜在350nm附近有一个自由激子复合发光峰,说明在CuAlO2宽带隙半导体中存在直接带间跃迁,这对于该材料在光电子领域如发光二极管的应用具有重要意义.
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关键词
脉冲激
光
沉积
CuAlO2薄膜
光
学带隙
室温光致发光谱
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职称材料
题名
沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响
被引量：
3
1
作者
邓赞红
方晓东
陶汝华
董伟伟
周曙
孟钢
邵景珍
机构
中国科学院安徽光学精密机械研究所安徽光子器件与材料省级实验室
中国科学院新型薄膜太阳电池重点实验室
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期281-284,共4页
基金
安徽省自然科学基金(090414169)
中国科学院合肥物质科学研究院知识创新工程青年人才领域前沿项目~~
文摘
采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2薄膜.在沉积激光能量100～180mJ范围内原位沉积的薄膜并在N2气氛下900℃异位退火1h处理后,所有薄膜均为高度c轴取向的单相CuAlO2薄膜,晶粒尺寸～49nm.随着沉积激光能量的增大,薄膜厚度增加,表面颗粒尺寸明显增大,在可见光区的平均透射率下降.室温光致发光谱发现,CuAlO2薄膜在350nm附近有一个自由激子复合发光峰,说明在CuAlO2宽带隙半导体中存在直接带间跃迁,这对于该材料在光电子领域如发光二极管的应用具有重要意义.
关键词
脉冲激
光
沉积
CuAlO2薄膜
光
学带隙
室温光致发光谱
Keywords
pulsed laser deposition
CuAlO2 films
optical band energy
room-temperature photoluminescence spectra
分类号
TQ174 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响
邓赞红
方晓东
陶汝华
董伟伟
周曙
孟钢
邵景珍
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
3
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职称材料
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