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分离式标准模拟眼定标装置的光路设计: 1; 作者王侠陈峻郑书信《光子学报》 EI CAS CSCD 1996年第9期841-846,共6页; 本文实质上是在介绍用漫反射面确定光学系统焦平面位置时的一些光学问题的处理思路，我们采用的光电法。由于漫反射面对入射光线的吸收和漫反射，使其反射信号十分弱，要想测得并提高其分辨力，单从电方面下工夫还不行，需在光路中采取... 展开更多; 关键词标准模拟眼离焦量衬比验光器定标装置; 在线阅读下载PDF 职称材料

用于脉冲激光能量表的自动定标装置: 2; 作者陈芳枝《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 1991年第5期233-236,共4页; 本文介绍了一种采用单板机来进行脉冲激光能量卡计定标的实验装置,并给出了装置的结构和流程图,及实验数据。; 关键词激光能量测量能量卡计定标装置; 在线阅读下载PDF 职称材料

辐射测量与装置: 3; 《中国光学》 EI CAS 2001年第2期6-6,共1页; O432.1 2001020787星载光谱辐射亮度绝对定标装置=Spectral radianceabsolute calibration systems for satellites[刊,中]/于家琳,代彩红(中国计量科学研究院.北京(100013))//现代计量测试.-2000,8(5).-28-31从光谱辐射亮度的定标原理... 展开更多; 关键词光谱辐射亮度计量科学研究计量测试定标原理星载辐射测量光谱范围溯源定标装置现代; 在线阅读下载PDF 职称材料

PCM设备电容参数整体校准方法研究被引量：2: 4; 作者乔玉娥刘霞美 +2 位作者丁晨朱超吴爱华《计量学报》 CSCD 北大核心 2023年第6期962-967,共6页; 半导体行业中普遍使用的工艺过程监控设备(PCM设备),是芯片产品中测环节必不可少的测量设备。PCM设备电容参数的准确测量,是保证与电容制作相关工艺参数的重要手段。针对国内PCM设备电容参数暂无溯源途径现状,根据其测试原理,研究了基... 展开更多; 关键词计量学在片电容标准件工艺过程监控设备整体校准定标装置溯源; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名分离式标准模拟眼定标装置的光路设计: 1; 作者王侠陈峻郑书信; 机构陕西省计量测试研究所; 出处《光子学报》 EI CAS CSCD 1996年第9期841-846,共6页; 文摘本文实质上是在介绍用漫反射面确定光学系统焦平面位置时的一些光学问题的处理思路，我们采用的光电法。由于漫反射面对入射光线的吸收和漫反射，使其反射信号十分弱，要想测得并提高其分辨力，单从电方面下工夫还不行，需在光路中采取一些重要的措施。; 关键词标准模拟眼离焦量衬比验光器定标装置; Keywords Standard simulation eyes Defocussing range Contrast; 分类号 TH786 [机械工程—精密仪器及机械] R778.2 [医药卫生—眼科]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名用于脉冲激光能量表的自动定标装置: 2; 作者陈芳枝; 机构中国科学院上海光机所; 出处《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 1991年第5期233-236,共4页; 文摘本文介绍了一种采用单板机来进行脉冲激光能量卡计定标的实验装置,并给出了装置的结构和流程图,及实验数据。; 关键词激光能量测量能量卡计定标装置; 分类号 TN24 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名辐射测量与装置: 3; 出处《中国光学》 EI CAS 2001年第2期6-6,共1页; 文摘 O432.1 2001020787星载光谱辐射亮度绝对定标装置=Spectral radianceabsolute calibration systems for satellites[刊,中]/于家琳,代彩红(中国计量科学研究院.北京(100013))//现代计量测试.-2000,8(5).-28-31从光谱辐射亮度的定标原理及其溯源出发,提出并讨论了四种光谱范围在500 nm～1000; 关键词光谱辐射亮度计量科学研究计量测试定标原理星载辐射测量光谱范围溯源定标装置现代; 分类号 O432.1 [机械工程—光学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名PCM设备电容参数整体校准方法研究被引量：2: 4; 作者乔玉娥刘霞美丁晨朱超吴爱华; 机构中国电子科技集团公司第十三研究所; 出处《计量学报》 CSCD 北大核心 2023年第6期962-967,共6页; 文摘半导体行业中普遍使用的工艺过程监控设备(PCM设备),是芯片产品中测环节必不可少的测量设备。PCM设备电容参数的准确测量,是保证与电容制作相关工艺参数的重要手段。针对国内PCM设备电容参数暂无溯源途径现状,根据其测试原理,研究了基于在片电容标准件的整体无损校准方法。采用增加绝缘层的半导体工艺,研制了高稳定性、频响至1 MHz、电容低至0.5 pF的在片电容标准件,满足了国内PCM设备电容参数自动校准需求,测量不确定度优于1%。研究了PCM设备电容参数溯源方法,从而保证了芯片产品PCM图形电容量值测量结果的准确一致,提高了计量效率。; 关键词计量学在片电容标准件工艺过程监控设备整体校准定标装置溯源; Keywords metrology on-wafer capacitor standards PCM whole-calibration calibration device traceability; 分类号 TB973 [机械工程—测试计量技术及仪器]; 在线阅读下载PDF 职称材料