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功率超声对无掩膜定域性电沉积三维镍质微结构成型过程的影响
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作者 吴蒙华 姜炳春 +1 位作者 肖雨晴 贾卫平 《材料导报》 北大核心 2025年第1期235-240,共6页
提高高深宽比三维金属微结构成型精度一直是微电子信息制造、MEMS等领域的研究重点。以制备直径为60μm、长径比为8∶1的微镍柱为例,在无掩膜定域性电沉积(MLED)微镍柱过程中,施加一定强度、与电场作用方向相同的功率超声波,探讨超声波... 提高高深宽比三维金属微结构成型精度一直是微电子信息制造、MEMS等领域的研究重点。以制备直径为60μm、长径比为8∶1的微镍柱为例,在无掩膜定域性电沉积(MLED)微镍柱过程中,施加一定强度、与电场作用方向相同的功率超声波,探讨超声波对无掩膜定域性电沉积三维镍质微结构成型过程的影响。主要开展了无功率超声作用及有功率超声作用下MLED制备微镍柱过程中平均体积沉积速率、表面形貌及晶粒尺寸的对比研究。结果表明:相较于无功率超声作用,有功率超声作用下MLED的平均体积沉积速率可提高28%~39%,最高平均体积沉积速率可达15340.46μm^(3)/s;功率超声作用可进一步细化沉积体的晶粒尺寸,平均晶粒尺寸可达46.37 nm;同时,功率超声作用可在一定程度上改善MLED微镍柱的微观表面形貌。 展开更多
关键词 功率超声 无掩膜定域性电沉积(MLED) 三维镍质微结构 成型过程
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磁场对无掩模定域性电沉积-增材制造三维微结构生长模式的影响
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作者 吴蒙华 姜炳春 +1 位作者 肖雨晴 贾卫平 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第11期2035-2042,共8页
为研究磁场对无掩模定域性电沉积增材制造(MLED-AM)金属三维微结构生长模式的作用,以制备直径为50μm、长径比为10∶1的微镍柱为例,在MLED-AM过程中分别施加一定强度且与电场作用方向相同的顺向磁场和与电场作用方向相反的逆向磁场,通... 为研究磁场对无掩模定域性电沉积增材制造(MLED-AM)金属三维微结构生长模式的作用,以制备直径为50μm、长径比为10∶1的微镍柱为例,在MLED-AM过程中分别施加一定强度且与电场作用方向相同的顺向磁场和与电场作用方向相反的逆向磁场,通过对比实验探讨磁场对微镍柱平均体积沉积速率、表面形貌及晶粒尺寸的影响规律。实验结果表明,相较于无磁场作用,磁场作用可提高MLED-AM的平均体积沉积速率、细化沉积体的平均晶粒尺寸,且逆向磁场的作用更加显著(平均体积沉积速率提高25%~50%,平均晶粒尺寸达31.52 nm);同时,磁场作用可在一定程度上改善微镍柱的表面形貌,且顺向磁场作用的效果更好。根据实验结果及分析,逆向磁场作用对MLED-AM效率与质量的影响更大。 展开更多
关键词 磁场 无掩模定域性电沉积 增材制造 三维微结构 生长模式
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基于无掩模定域性电沉积的3D打印平面微结构工艺研究 被引量:2
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作者 苏晓冰 吴蒙华 +2 位作者 贾卫平 于昇元 贾婷婷 《现代制造工程》 CSCD 北大核心 2022年第5期18-23,共6页
平面微结构在偏振光栅、表面增强拉曼散射(Surface Enhanced Raman Scattering, SERS)等方面有着广泛的应用。基于无掩模定域性电沉积技术,采用尖锥状探针式微型阳极逐层扫描的方式,打印简单金属平面微结构;分别采用数字显微镜、扫描电... 平面微结构在偏振光栅、表面增强拉曼散射(Surface Enhanced Raman Scattering, SERS)等方面有着广泛的应用。基于无掩模定域性电沉积技术,采用尖锥状探针式微型阳极逐层扫描的方式,打印简单金属平面微结构;分别采用数字显微镜、扫描电子显微镜对平面微结构进行尺寸数据测量及微观形貌观测。研究了打印层数、电压和极间距对线条宽度及成型质量的影响规律,试验结果表明,当打印层数为80~220时,随着打印层数的增加,线条宽度保持在320μm左右,没有发生明显变化;当电压较小(<4.2 V)时,线条表面主要由粗大的胞状颗粒构成;电压增大至4.4~4.6 V时,可以打印出平滑均匀、直线度良好的线条;当电压增大至4.8 V时,线条高度方向上的均匀性变差,发生树枝晶状生长;当电压从4.2 V增大至4.8 V时,线条宽度先增大后减小;极间距从40μm增加至80μm时,线条成型质量没有发生明显变化,线条宽度在不断增大。综上所述,打印层数(>80层)并不会影响平面微结构的线条宽度,电压比极间距对平面微结构的线条宽度与成型质量有着更为显著的影响。 展开更多
关键词 无掩模定域性电沉积 3D打印 平面微结构 打印层数 极间距
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无掩模定域性电沉积三维微结构的仿真研究 被引量:2
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作者 吴建辉 吴蒙华 +1 位作者 佐姗姗 钱宁开 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第S01期427-432,共6页
为研究基于喷射状态的无掩模定域性电沉积的最佳工艺参数,采用COMSOL Multiphysics仿真软件和实验研究无掩模定域性电沉积三维微结构过程中电流密度、极间距、脉冲占空比对沉积部件表面形貌和沉积速率的影响。结果表明,电流密度对沉积... 为研究基于喷射状态的无掩模定域性电沉积的最佳工艺参数,采用COMSOL Multiphysics仿真软件和实验研究无掩模定域性电沉积三维微结构过程中电流密度、极间距、脉冲占空比对沉积部件表面形貌和沉积速率的影响。结果表明,电流密度对沉积部件形貌、晶粒尺寸、内部气孔和沉积速率有很大影响,当电流密度超过4.5 A/dm^2,表面形貌和气孔急剧变差;占空比越小,定域性越好,沉积的圆柱直径越小,极间距为5μm时,可得到均匀的沉积层。通过正交实验优化得到的工艺参数为:电流密度3.5 A/dm^2,极间距5μm,占空比10%。 展开更多
关键词 定域性电沉积 无掩模 多物理场仿真 三维微结构
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无掩模定域性电沉积三维微结构的工艺研究
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作者 吴建辉 吴蒙华 +1 位作者 王元刚 贾卫平 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期29-35,共7页
在无掩模定域性电沉积增材制造三维金属微结构的工艺试验过程中,针对成型质量、速度与可重复性的基本要求,采用控制单一变量法和正交实验法研究了极间电压、脉冲占空比、极间距等主要工艺参数对实验结果的影响。研究结果表明:极间电压... 在无掩模定域性电沉积增材制造三维金属微结构的工艺试验过程中,针对成型质量、速度与可重复性的基本要求,采用控制单一变量法和正交实验法研究了极间电压、脉冲占空比、极间距等主要工艺参数对实验结果的影响。研究结果表明:极间电压的大小对微区域电沉积速率一致性、脉冲电流占空比对微沉积速率大小、极间距大小对微沉积区域电场线分布均有不同程度的影响。通过正交实验优化得到的工艺参数为:极间电压2 V、脉冲电流占空比0.4、极间距20μm、脉冲频率2 kHz,三坐标工作台X和Y轴移动速度均为1μm/s、Z轴移动速度5μm/s。通过优化工艺参数取得较好的沉积效果,沉积速率可达300μm^3/s,获得的镍质简单三维微结构,最大深宽比12:1。 展开更多
关键词 无掩模 定域性电沉积 增材制造 三维金属微结构
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