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季铵型壳聚糖插层蒙脱土的制备及对Cr(Ⅵ)吸附作用的研究 被引量:5
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作者 胡芳 刘俊男 +3 位作者 郭雪莲 王德龙 高楠 倪明 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2016年第11期6-10,23,共6页
制备季铵型壳聚糖插层蒙脱土,采用红外光谱、X-射线图谱和扫描电镜分析研究表明,壳聚糖季铵盐—2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖进入到了蒙脱土的层间,使层间距增大,形成了插层复合物。利用所得产品对含Cr(Ⅵ)水样进行处理,在pH为4、吸附t为... 制备季铵型壳聚糖插层蒙脱土,采用红外光谱、X-射线图谱和扫描电镜分析研究表明,壳聚糖季铵盐—2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖进入到了蒙脱土的层间,使层间距增大,形成了插层复合物。利用所得产品对含Cr(Ⅵ)水样进行处理,在pH为4、吸附t为100 min、吸附剂质量浓度为2 g/L和Cr(Ⅵ)初始质量浓度为50 mg/L的优化条件下,季铵型壳聚糖插层蒙脱土复合吸附剂对Cr(Ⅵ)的吸附量为5.61 mg/g,去除率为89.73%。季铵型壳聚糖插层蒙脱土复合吸附剂对Cr(Ⅵ)的吸附符合Langmuir吸附模型。 展开更多
关键词 季铵型壳聚糖 插层蒙脱土 Cr(Ⅵ) 吸附
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印染废水的季铵型壳聚糖插层蒙脱土处理 被引量:4
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作者 胡芳 刘俊男 《印染》 北大核心 2016年第4期14-18,共5页
制备了季铵型壳聚糖插层蒙脱土(HTCC/MMT),通过X-射线图谱(XRD)、红外光谱(FT-IR)和扫描电镜(SEM)分析表明,2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖(HTCC)进入到MMT层间,使层间距增大。在60℃反应6h、HTCC与MMT物质的量比4:1的条件... 制备了季铵型壳聚糖插层蒙脱土(HTCC/MMT),通过X-射线图谱(XRD)、红外光谱(FT-IR)和扫描电镜(SEM)分析表明,2-羟丙基三甲基氯化铵壳聚糖(HTCC)进入到MMT层间,使层间距增大。在60℃反应6h、HTCC与MMT物质的量比4:1的条件下,层间距由1.23nm增加到2.41nm。利用所得产品对印染废水进行处理,在搅拌速率200r/min、搅拌时间30min、HTCC/MMT质量浓度3.5g/L和pH值6-7时,可获得最佳的处理效果,COD和色度的去除率分别达到94%和96%。 展开更多
关键词 印染废水 季铵型壳聚糖 蒙脱土
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