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夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜巨磁阻抗效应研究 被引量:2
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作者 商干兵 周勇 +3 位作者 余先育 丁文 周志敏 曹莹 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期194-196,199,共4页
采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,并在1~40MHz范围内研究了它的巨磁阻抗效应。纵向巨磁阻抗效应先随着外加磁场的增大而迅速增加,在某一磁场下达到最大值后随磁场的增加而逐渐减小。在频率为5MHz时,Hex... 采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,并在1~40MHz范围内研究了它的巨磁阻抗效应。纵向巨磁阻抗效应先随着外加磁场的增大而迅速增加,在某一磁场下达到最大值后随磁场的增加而逐渐减小。在频率为5MHz时,Hext为0.8kA/m时巨磁阻抗效应最大值达到32.06%。另外,夹心结构多层膜表现出较大的负巨磁阻抗效应,在频率5MHz,Hext=9.6kA/m时,负最大巨磁阻抗效应可达-24.50%。 展开更多
关键词 巨磁阻抗效应 夹心结构feni/cu/feni多层膜 MEMS技术
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