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大面积碳纳米管薄膜的低温制备与表征
被引量：
9
1
作者
刘兴辉
朱长纯
+1 位作者
田昌会
刘卫华
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期590-592,共3页
采用研制的大体积射频等离子体红外加热化学气相沉积设备,在600℃的低温下,在5cm×5cm大的Ni片上生长出碳纳米管薄膜。扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察显示,碳纳米管薄膜具有很好的均匀性,管径大约为70～90nm。随机地对样品的3...
采用研制的大体积射频等离子体红外加热化学气相沉积设备,在600℃的低温下,在5cm×5cm大的Ni片上生长出碳纳米管薄膜。扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察显示,碳纳米管薄膜具有很好的均匀性,管径大约为70～90nm。随机地对样品的3个不同区域进行了场发射特性的测试,结果表明这种薄膜具有良好的场发射特性及一致性。开启电场约为2.4V/μm,在电场为6.6V/μm时的发射电流密度达到1635μA/cm2。实验结果表明在低温条件下,大面积生长场发射用碳纳米管薄膜是可行的。
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关键词
碳纳米管
大面积ni衬底
化学气相沉积
场致发射特性
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职称材料
题名
大面积碳纳米管薄膜的低温制备与表征
被引量：
9
1
作者
刘兴辉
朱长纯
田昌会
刘卫华
机构
西安交通大学电信学院真空微电子与微电子机械研究所
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期590-592,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(60036010)
教育部博士点基金资助项目(2000069823)
国家高技术研究发展计划(863计划)重点基金资助项目(2001AA313090)
文摘
采用研制的大体积射频等离子体红外加热化学气相沉积设备,在600℃的低温下,在5cm×5cm大的Ni片上生长出碳纳米管薄膜。扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)观察显示,碳纳米管薄膜具有很好的均匀性,管径大约为70～90nm。随机地对样品的3个不同区域进行了场发射特性的测试,结果表明这种薄膜具有良好的场发射特性及一致性。开启电场约为2.4V/μm,在电场为6.6V/μm时的发射电流密度达到1635μA/cm2。实验结果表明在低温条件下,大面积生长场发射用碳纳米管薄膜是可行的。
关键词
碳纳米管
大面积ni衬底
化学气相沉积
场致发射特性
Keywords
Electric fields
Electron emission
ni
ckel
Plasma enhanced chemical vapor deposition
Scan
ni
ng electron microscopy
Substrates
Thin film devices
Transmission electron microscopy
分类号
TN412 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
大面积碳纳米管薄膜的低温制备与表征
刘兴辉
朱长纯
田昌会
刘卫华
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
9
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