大面积金刚石自支撑膜机械抛光的优化工艺研究 被引量：4

1

作者 郭世斌 曲杨 +3 位作者 吕反修 唐伟忠 佟玉梅 宋建华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1173-1175,共3页

研究了一种用于抛光等离子体溅射CVD法制备的金刚石自支撑膜的高效安全的抛光工艺。试验探索了转盘转速、金刚石粉颗粒尺寸、磨盘表面形状对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响。研究表明:带槽盘对金刚石自支撑膜的粗研磨效果明显,速率较高,... 研究了一种用于抛光等离子体溅射CVD法制备的金刚石自支撑膜的高效安全的抛光工艺。试验探索了转盘转速、金刚石粉颗粒尺寸、磨盘表面形状对金刚石自支撑膜磨抛速率的影响。研究表明:带槽盘对金刚石自支撑膜的粗研磨效果明显,速率较高,平面盘对提高金刚石自支撑膜的表面粗糙度有利;不同颗粒的金刚石粉对应着各自合适的能充分利用其磨削能力的转速,在这个转速下,金刚石自支撑膜的磨抛速率在12μm/h左右。本文通过对新的工艺参数的探索,为金刚石自支撑膜后续加工提供有力的技术支持。 展开更多

关键词 金刚石自支撑膜 机械抛光 优化工艺

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大面积自支撑金刚石膜的机械研磨研究 被引量：3

2

作者 文星凯 魏俊俊 +3 位作者 刘金龙 陈良贤 黑立富 李成明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 2013年第5期22-26,共5页

用100 kW级直流等离子体喷射系统制备金刚石自支撑膜,采用机械研磨方法对其进行平坦化加工。实验研究了不同研磨盘转速和不同压力对研磨的影响,分别用扫描电镜、数显千分表和X射线光电子能谱仪对金刚石膜研磨前后的表面形貌、厚度和金... 用100 kW级直流等离子体喷射系统制备金刚石自支撑膜,采用机械研磨方法对其进行平坦化加工。实验研究了不同研磨盘转速和不同压力对研磨的影响,分别用扫描电镜、数显千分表和X射线光电子能谱仪对金刚石膜研磨前后的表面形貌、厚度和金刚石去除机理进行了表征和分析。结果表明:研磨的转速和压力对膜的表面形貌和磨削速率影响非常明显,研磨盘转速为40 r/min,压力为0.50 MPa时,研磨效果较佳,磨削速率达到了80.5μm/h;研磨后的金刚石表面未发现有铁元素存在,金刚石的去除机理主要为微切削和应力诱导的金刚石膜局部石墨化。 展开更多

关键词 大面积金刚石自支撑膜 机械研磨 应力诱导 局部石墨化

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大面积光学级金刚石自支撑膜研究进展 被引量：33

3

作者 吕反修 唐伟忠 +2 位作者 李成明 陈广超 佟玉梅 《红外技术》 CSCD 北大核心 2003年第4期1-7,共7页

大面积光学级金刚石自支撑膜的制备和加工是近年来在CVD金刚石研究领域的最重要的技术进展之一。综述了北京科技大学近年来在CVD金刚石膜光学应用领域的研究进展。给出了采用高功率直流电弧等离子体喷射 (DCArcPlasmaJet)CVD工艺制备大... 大面积光学级金刚石自支撑膜的制备和加工是近年来在CVD金刚石研究领域的最重要的技术进展之一。综述了北京科技大学近年来在CVD金刚石膜光学应用领域的研究进展。给出了采用高功率直流电弧等离子体喷射 (DCArcPlasmaJet)CVD工艺制备大面积光学级金刚石自支撑膜的研究结果 ,并报道了对所制备的光学级金刚石自支撑膜的光学、力学 (机械 )、热学和微波介电性能的最新研究结果。 展开更多

关键词 光学级金刚石 自支撑膜 高功率直流电弧等离子体喷射 光学性能 热学性能 机械性能 微波介电性能

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大面积自支撑CVD金刚石厚膜的应力研究 被引量：2

4

作者 卢文壮 左敦稳 +1 位作者 徐锋 王珉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1444-1447,共4页

在HFCVD系统中制备了直径为100mm的自支撑CVD金刚石厚膜,利用XRD研究了自支撑CVD金刚石厚膜的应力。结果显示制备的大面积自支撑CVD金刚石厚膜处于较低的应力水平,应力分布较均匀,生长面应力状态为压应力,成核面应力状态为张应力。

关键词 应力 金刚石厚膜 自支撑 大面积 XRD

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用有限元模拟的方法研究大面积自支撑金刚石膜沉积过程中的热应力 被引量：2

5

作者 刘政 李成明 +5 位作者 牛得草 唐伟忠 陈广超 宋建华 佟玉梅 吕反修 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期345-349,355,共6页

建立了没有过渡层和有过渡层的有限元模型,对大面积自支撑金刚石膜沉积过程中的热应力进行了研究。分别计算了在常用金属材料钼、钨、镍作衬底和用镀有钛过渡层的钼作衬底的情况下,膜/衬底间的热应力分布情况。模拟与实验的结果表明,在... 建立了没有过渡层和有过渡层的有限元模型,对大面积自支撑金刚石膜沉积过程中的热应力进行了研究。分别计算了在常用金属材料钼、钨、镍作衬底和用镀有钛过渡层的钼作衬底的情况下,膜/衬底间的热应力分布情况。模拟与实验的结果表明,在大面积自支撑金刚石膜沉积过程中,采用镀有钛过渡层的钼作衬底有利于热应力的释放,从而可能制备出高质量的大面积无裂纹金刚石膜。 展开更多

关键词 有限元 热应力 钛过渡层 自支撑金刚石膜

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大面积高质量金刚石自支撑膜热导率的影响因素研究 被引量：2

6

作者 郭世斌 吕反修 +3 位作者 王耀华 牛得草 唐伟忠 佟玉梅 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期1935-1937,共3页

通过Raman、XRD、SEM分析方法分别对大面积高质量金刚石自支撑膜的质量、晶体结构、晶粒尺寸进行研究,分析它们对金刚石自支撑膜热导率的影响。研究结果表明,金刚石自支撑膜的质量对热导率的影响较大,质量越好,热导率越接近于天然金刚... 通过Raman、XRD、SEM分析方法分别对大面积高质量金刚石自支撑膜的质量、晶体结构、晶粒尺寸进行研究,分析它们对金刚石自支撑膜热导率的影响。研究结果表明,金刚石自支撑膜的质量对热导率的影响较大,质量越好,热导率越接近于天然金刚石的热导率;并且金刚石自支撑膜中晶体[220]取向度越高,热导率越高。形核面晶粒尺寸越大,晶粒间的晶界就减少,有利于提高金刚石自支撑膜的热导率。 展开更多

关键词 金刚石自支撑膜 热导率 晶体结构 晶粒尺寸

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激光沉积大面积均匀类金刚石膜的设计改进及实验 被引量：5

7

作者 陆益敏 黄国俊 +4 位作者 郭延龙 丁方正 陈霞 韦尚方 米朝伟 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期555-560,共6页

针对激光等离子体的边缘粒子对激光沉积类金刚石膜性能的不利影响,改进自转衬底一维变速平移技术的大面积均匀镀膜机构。利用开孔的挡板滤除等离子体边缘的粒子,同时在原有膜厚分布数学模型中加入相应的模块;通过优化模型中的机构运动参... 针对激光等离子体的边缘粒子对激光沉积类金刚石膜性能的不利影响,改进自转衬底一维变速平移技术的大面积均匀镀膜机构。利用开孔的挡板滤除等离子体边缘的粒子,同时在原有膜厚分布数学模型中加入相应的模块;通过优化模型中的机构运动参数,指导实验获得了直径200 mm的大面积均匀类金刚石膜。测试结果表明:该类金刚石膜的不均匀性为±4.5%,且膜厚分布特征与理论优化结果相同,同时纳米硬度和红外透过率较改进前显著提高;相对于改进前的大面积均匀镀膜技术,改进后的机构具有更实际的应用价值。 展开更多

关键词 机械制造工艺与设备 光学薄膜 脉冲激光沉积 类金刚石膜 大面积均匀薄膜

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氢气流量对大面积金刚石膜沉积的影响 被引量：6

8

作者 孙祁 汪建华 +1 位作者 刘繁 翁俊 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期75-84,共10页

为了实现大面积金刚石膜的高速均匀沉积,在新型多模微波等离子体装置中,利用微波等离子体(Microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术,对大面积金刚石膜沉积过程中气体流场、电子密度和温度、基团分布及金刚石膜质量进行... 为了实现大面积金刚石膜的高速均匀沉积,在新型多模微波等离子体装置中,利用微波等离子体(Microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术,对大面积金刚石膜沉积过程中气体流场、电子密度和温度、基团分布及金刚石膜质量进行研究。流场模拟结果表明,多模MPCVD装置在高气体流量下依旧保持良好的流场稳定性。等离子体光谱结果表明,随着氢气流量的上升活性基团的强度上升。氢气流量在400 cm^3/min以内时,活性基团可在基底表面对称均匀分布。电子密度和电子温度随着氢气流量的上升先上升后下降,在500 cm3/min达到最大,分别为2.3×1019/m^3和1.65 eV。在氢气流量为300 cm^3/min时可在直径为100 mm的钼基底上实现大面积金刚石膜的均匀沉积,金刚石膜中心和边缘处拉曼光谱FWHM值为4.39 cm^(-1)和4.51 cm^(-1),生长速率为5.8μm/h。 展开更多

关键词 微波等离子体化学气相沉积 等离子体光谱 金刚石膜 大面积 均匀沉积

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大面积金刚石膜衬底温度数据融合研究 被引量：1

9

作者 汪洪波 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期839-842,859,共5页

针对大面积金刚石膜衬底温度测量要求精度高、稳定性好的特点,分析了大面积金刚石膜衬底温度多支路测量数据融合的必要性,采用不同数据融合方法对衬底温度采样数据进行数据融合研究。在此基础上,对融合方法的稳健性进行了详细分析。研... 针对大面积金刚石膜衬底温度测量要求精度高、稳定性好的特点,分析了大面积金刚石膜衬底温度多支路测量数据融合的必要性,采用不同数据融合方法对衬底温度采样数据进行数据融合研究。在此基础上,对融合方法的稳健性进行了详细分析。研究结果表明:大面积金刚石膜多路衬底温度数据融合不仅能更真实地反映衬底的实际温度,融合结果精度高,且在多路温度测量受到非正常扰动甚或出现传感器测量故障时,融合结果仍能具有高精度,温度测量的抗扰动和传感器抗故障性能大为提高。 展开更多

关键词 大面积金刚石膜 衬底温度 数据融合 稳健性

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微波功率和气压耦合作用对大面积金刚石膜沉积的影响 被引量：1

10

作者 孙祁 汪建华 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期43-48,共6页

使用新型多模MPCVD装置,通过耦合改变微波功率和沉积气压进行大面积金刚石膜均匀沉积研究。结果表明:微波功率一定时,电子密度随气压的上升先上升后下降;电子密度随气压和微波功率耦合上升而上升,其中微波功率起主导作用;当微波功率为5 ... 使用新型多模MPCVD装置,通过耦合改变微波功率和沉积气压进行大面积金刚石膜均匀沉积研究。结果表明:微波功率一定时,电子密度随气压的上升先上升后下降;电子密度随气压和微波功率耦合上升而上升,其中微波功率起主导作用;当微波功率为5 k W时,等离子体能量中心随着气压上升先靠近后远离沉积基底;当微波功率为5 k W、气压为15 k Pa时,在直径为75 mm的钼基片上实现了大面积金刚石膜的均匀沉积,中心和边缘区域的拉曼光谱FWHM值为4.69cm-1和4.83 cm-1。 展开更多

关键词 微波等离子体化学气相沉积 电子密度 金刚石膜 大面积

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大面积均匀的金刚石膜生长装置

11

作者 孙京林 彭汉德 张连宝 《人工晶体学报》 CSCD 1991年第3期441-441,共1页

稳定地生长大面积、均匀的金刚石薄膜是一些应用开发中急需解决的问题。本文叙述使用热灯丝CVD方法稳定地生长面积达φ76mm的均匀金刚石薄腆的方法。在以往的热灯丝CVD设备中,由于灯丝变形、寿命短、加热功率不稳定、温度场不均匀、气... 稳定地生长大面积、均匀的金刚石薄膜是一些应用开发中急需解决的问题。本文叙述使用热灯丝CVD方法稳定地生长面积达φ76mm的均匀金刚石薄腆的方法。在以往的热灯丝CVD设备中,由于灯丝变形、寿命短、加热功率不稳定、温度场不均匀、气流控制及状态不稳定等问题,严重影响高质量、大面积金刚石膜的生长。 展开更多

关键词 热灯丝CVD 均匀生长 大面积 金刚石膜

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微波PCVD法大尺寸透明自支撑金刚石膜的制备及红外透过率(英文) 被引量：14

12

作者 李博 韩柏 +3 位作者 吕宪义 李红东 汪剑波 金曾孙 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期245-249,共5页

采用微波PCVD方法制备出直径50mm膜厚300μm的大尺寸透明自支撑金刚石膜。在甲烷体积分数2%的条件下制备的透明自支撑金刚石膜经过两面抛光后在500cm-1~4000cm-1红外波段范围内红外透过率达到70%,但是其生长速率只有1μm/h^2μm/h。在... 采用微波PCVD方法制备出直径50mm膜厚300μm的大尺寸透明自支撑金刚石膜。在甲烷体积分数2%的条件下制备的透明自支撑金刚石膜经过两面抛光后在500cm-1~4000cm-1红外波段范围内红外透过率达到70%,但是其生长速率只有1μm/h^2μm/h。在体积分数4%甲烷浓度下制备的自支撑透明金刚石膜,其生长速率达到7μm/h^8μm/h,经过两面抛光之后膜厚为260μm的金刚石膜的在500cm-1~4000cm-1红外波段范围内红外透过率达到60%左右,而且膜中心和边缘区的红外透过率基本相同。这些结果为大尺寸金刚石厚膜在红外窗口上的实际应用奠定了基础。 展开更多

关键词 微波PCVD 透明自支撑金刚石膜 红外透过率

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金刚石自支撑膜的高温红外透过性能 被引量：9

13

作者 黑立富 闫雄伯 +6 位作者 朱瑞华 陈良贤 刘金龙 魏俊俊 廉伟艳 张荣实 李成明 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期1-6,共6页

由于金刚石具有低吸收和优异的力学与导热性能使其成为长波(8~12μm)红外光学窗口材料的重要选择。对于许多极端条件的应用,化学气相沉积(CVD)金刚石自支撑膜的高温光学性质至关重要。应用直流电弧等离子喷射法制备光学级金刚石自支撑... 由于金刚石具有低吸收和优异的力学与导热性能使其成为长波(8~12μm)红外光学窗口材料的重要选择。对于许多极端条件的应用,化学气相沉积(CVD)金刚石自支撑膜的高温光学性质至关重要。应用直流电弧等离子喷射法制备光学级金刚石自支撑膜进行变化温度的红外光学透过性能研究,采用光学显微镜、X射线衍射、激光拉曼和傅里叶变换红外-拉曼光谱仪检测CVD金刚石膜的表面形貌、结构特征和红外光学性能。结果表明:在27℃时金刚石膜长波红外8~12μm之间的平均透过率达到65.95%,在500℃时8~12μm处的平均透过率为52.5%。透过率下降可分为3个阶段。对应于透过率随温度的下降,金刚石膜的吸收系数随温度的升高而增加。金刚石自支撑膜表面状态的变化,对金刚石膜光学性能的影响显著大于内部结构的影响。 展开更多

关键词 直流电弧等离子喷射 金刚石自支撑膜 高温红外透过

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直流等离子体喷射制备无裂纹自支撑金刚石膜体的晶体组织设计(英文) 被引量：6

14

作者 陈广超 周祖源 +6 位作者 周有良 杨胶溪 李成明 宋建华 佟玉梅 唐伟忠 吕反修 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期683-689,共7页

在自支撑金刚石膜体中发现网状、河流状和环状三种裂纹形式 ,这几种裂纹形式依沉积温度不同而不同。首次采用了原子力显微镜分析了金刚石自支撑膜体裂纹断裂机制 ,发现了穿晶断裂和沿晶断裂两种机制 ,其中 ,在网状裂纹中 ,穿晶断裂机制... 在自支撑金刚石膜体中发现网状、河流状和环状三种裂纹形式 ,这几种裂纹形式依沉积温度不同而不同。首次采用了原子力显微镜分析了金刚石自支撑膜体裂纹断裂机制 ,发现了穿晶断裂和沿晶断裂两种机制 ,其中 ,在网状裂纹中 ,穿晶断裂机制占主要地位 ;环状裂纹中 ,沿晶断裂机制占主要地位 ,而河流状裂纹是两种机制的混合。对应X射线衍射结果 ,(111)晶面占优的膜体易于开启穿晶断裂机制 ,(2 2 0 )晶面占优的膜体易于开启沿晶断裂机制。使用Raman谱测试的膜体中的本征应力在几十到几百MPa之间 ,且在膜体中存在应力剖面分布。Raman谱的结果还显示低缺陷的膜体组织有利于阻挡裂纹扩展。通过建立简单力学分析模型 ,推测了膜体组织对断裂强度的作用。根据实验结果和力学模型 ,制备了最厚 2mm、最大直径 12 0mm的无裂纹自支撑金刚石膜。 展开更多

关键词 直流等离子体喷射 制备 无裂纹自支撑金刚石膜 组织设计 晶体结构 原子力显微镜

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用镀有钛过渡层的钼衬底制备无裂纹自支撑金刚石膜 被引量：3

15

作者 李浩 李成明 +4 位作者 吕反修 唐伟忠 陈广超 鲍学进 刘政 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期164-169,共6页

为了解决金刚石膜脱膜开裂的问题,尝试了一种复合衬底,即镀有钛过渡层的钼衬底。利用直流等离子体喷射法在复合衬底上制备了不同厚度无裂纹的自支撑金刚石膜。用扫描电镜(SEM)、拉曼谱和X射线衍射表征金刚石膜的特征,并检测了其断裂强... 为了解决金刚石膜脱膜开裂的问题,尝试了一种复合衬底,即镀有钛过渡层的钼衬底。利用直流等离子体喷射法在复合衬底上制备了不同厚度无裂纹的自支撑金刚石膜。用扫描电镜(SEM)、拉曼谱和X射线衍射表征金刚石膜的特征,并检测了其断裂强度。结果表明,用复合衬底制备的金刚石膜在950℃具有最小半高宽,在实验温度下所获得的金刚石自支撑膜的断裂强度均超过了500MPa。 展开更多

关键词 金刚石膜 复合衬底 钛过渡层 直流等离子体喷射法 自支撑金刚石膜

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无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制 被引量：4

16

作者 丁明清 陈长青 +3 位作者 白国栋 李含雁 冯进军 胡银富 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期661-665,共5页

利用引进的6 kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究。在800~1050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈（111）择优取向;基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要。制出0.25 mm厚Φ50 mm的无支撑... 利用引进的6 kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究。在800~1050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈（111）择优取向;基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要。制出0.25 mm厚Φ50 mm的无支撑金刚石膜。拉曼光谱和X射线衍射分析表明,合成的金刚石膜晶体结构完整,sp2含量极低;透过率测试结果说明了优良的光学性能：截止波长225 nm,光学透过率（λ≥2.5μm）≥70%。 展开更多

关键词 微波等离子体 化学气相沉积 无支撑金刚石膜 光学透过率

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直流电弧等离子体区域电弧分布特征对自支撑金刚石膜性质的影响 被引量：3

17

作者 李成明 王李梅 +3 位作者 陈良贤 刘金龙 黑立富 吕反修 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期900-905,共6页

直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜时,电弧区域可分为弧心、弧干和弧边三个区域。本文运用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱、正电子湮没寿命谱(PAL)和力学性能实验机研究了同一块自支撑金刚石膜不同区域的... 直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜时,电弧区域可分为弧心、弧干和弧边三个区域。本文运用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱、正电子湮没寿命谱(PAL)和力学性能实验机研究了同一块自支撑金刚石膜不同区域的生长面形貌、晶体取向、内应力、空位缺陷和断裂强度。结果表明:随着与直流电弧等离子体弧心距离增加金刚石膜生长更稳定,(220)取向晶粒减少,平均空位缺陷减少,内应力和断裂强度呈现先增大后减小的趋势。 展开更多

关键词 直流电弧等离子体 区域电弧分布 自支撑金刚石膜

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自支撑金刚石厚膜表面外延掺硼金刚石薄膜研究 被引量：2

18

作者 魏俊俊 李成明 +4 位作者 文星凯 张建军 刘金龙 陈良贤 黑立富 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期3433-3438,共6页

采用微波等离子体化学气相沉积技术(MPCVD),在抛光厚度0.5 mm的高热导率自支撑金刚石厚膜表面沉积厚度10μm掺硼金刚石薄膜,通过热导率测试仪、扫描电子显微镜、激光拉曼光谱、X射线光电子能谱以及四探针仪等测试手段对材料的热导率、... 采用微波等离子体化学气相沉积技术(MPCVD),在抛光厚度0.5 mm的高热导率自支撑金刚石厚膜表面沉积厚度10μm掺硼金刚石薄膜,通过热导率测试仪、扫描电子显微镜、激光拉曼光谱、X射线光电子能谱以及四探针仪等测试手段对材料的热导率、形貌及微观质量、表面键合状态及导电性能等进行分析。结果表明,优化工艺后在自支撑金刚石厚膜表面外延形成了质量优异,结合力佳的掺硼金刚石薄膜,其电阻率最低为1.7×10^(-2)Ω·cm。同时,鉴于界面同质外延特性以及大尺寸晶粒特点,整体材料的热导率可高达1750 W/(m·K),显示这种层状复合材料良好的整体导热性能及表面导电性能。 展开更多

关键词 自支撑金刚石厚膜 掺硼金刚石薄膜 同质外延 热导率 电导率

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DC Arc Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜的质量对物理性能的影响 被引量：2

19

作者 郭世斌 王耀华 +3 位作者 陈飞 吕反修 唐伟忠 佟玉梅 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A10期3802-3805,共4页

本研究对Raman谱进行高斯（Gauss）和洛仑兹（Lorenz）分峰拟合，将金刚石自支撑膜Raman谱分成纯金刚石峰和非金刚石峰，对比两种方法的精度，结果显示高斯拟合的精度高些。运用经验公式计算出金刚石自支撑膜的质量因子，发现质量因子... 本研究对Raman谱进行高斯（Gauss）和洛仑兹（Lorenz）分峰拟合，将金刚石自支撑膜Raman谱分成纯金刚石峰和非金刚石峰，对比两种方法的精度，结果显示高斯拟合的精度高些。运用经验公式计算出金刚石自支撑膜的质量因子，发现质量因子主要受纯金刚石峰强度和无定型碳峰强度的影响，非金刚石峰强度与质量因子成反比，纯金刚石峰强与质量因子成正比，同时还受到内应力的影响。质量因子与热导率、断裂强度和红外透过率的关系表明，金刚石自支撑膜的以上物理性能与其质量成正比关系。 展开更多

关键词 金刚石自支撑膜 热学性能 力学性能 光学性能

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微/纳米多层金刚石自支撑膜的制备及生长特性的研究 被引量：4

20

作者 兰昊 陈广超 +7 位作者 戴风伟 李彬 唐伟忠 李成明 宋建华 J.Askari 黑立富 佟玉梅 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期166-169,共4页

在30kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在钼衬底上分别制备了普通微米自支撑膜及多层金刚石自支撑膜并对其进行研究。结果显示,同普通微米膜相比,多层膜体是由微米晶金刚石层和纳米晶... 在30kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在钼衬底上分别制备了普通微米自支撑膜及多层金刚石自支撑膜并对其进行研究。结果显示,同普通微米膜相比,多层膜体是由微米晶金刚石层和纳米晶金刚石层组成,表面光滑,微米层与纳米层间具有相互嵌套式的界面;多层膜中各层膜体的内应力沿生长方向有明显变化,出现一个从压应力到拉应力变化的过程;在沉积过程中,随着层数变化,膜体的生长速率也发生相应的变化。 展开更多

关键词 直流电弧等离子喷射化学气相沉积 自支撑金刚石膜 多层结构 内应力 生长速率

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