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激光沉积大面积均匀类金刚石膜的设计改进及实验
被引量：
5
1
作者
陆益敏
黄国俊
+4 位作者
郭延龙
丁方正
陈霞
韦尚方
米朝伟
《兵工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第3期555-560,共6页
针对激光等离子体的边缘粒子对激光沉积类金刚石膜性能的不利影响,改进自转衬底一维变速平移技术的大面积均匀镀膜机构。利用开孔的挡板滤除等离子体边缘的粒子,同时在原有膜厚分布数学模型中加入相应的模块;通过优化模型中的机构运动参...
针对激光等离子体的边缘粒子对激光沉积类金刚石膜性能的不利影响,改进自转衬底一维变速平移技术的大面积均匀镀膜机构。利用开孔的挡板滤除等离子体边缘的粒子,同时在原有膜厚分布数学模型中加入相应的模块;通过优化模型中的机构运动参数,指导实验获得了直径200 mm的大面积均匀类金刚石膜。测试结果表明:该类金刚石膜的不均匀性为±4.5%,且膜厚分布特征与理论优化结果相同,同时纳米硬度和红外透过率较改进前显著提高;相对于改进前的大面积均匀镀膜技术,改进后的机构具有更实际的应用价值。
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关键词
机械制造工艺与设备
光学
薄膜
脉冲激光沉积
类金刚石膜
大面积均匀薄膜
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职称材料
题名
激光沉积大面积均匀类金刚石膜的设计改进及实验
被引量：
5
1
作者
陆益敏
黄国俊
郭延龙
丁方正
陈霞
韦尚方
米朝伟
机构
武汉军械士官学校光电技术研究所
出处
《兵工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第3期555-560,共6页
基金
国家部委预先研究项目(51318060212)
文摘
针对激光等离子体的边缘粒子对激光沉积类金刚石膜性能的不利影响,改进自转衬底一维变速平移技术的大面积均匀镀膜机构。利用开孔的挡板滤除等离子体边缘的粒子,同时在原有膜厚分布数学模型中加入相应的模块;通过优化模型中的机构运动参数,指导实验获得了直径200 mm的大面积均匀类金刚石膜。测试结果表明:该类金刚石膜的不均匀性为±4.5%,且膜厚分布特征与理论优化结果相同,同时纳米硬度和红外透过率较改进前显著提高;相对于改进前的大面积均匀镀膜技术,改进后的机构具有更实际的应用价值。
关键词
机械制造工艺与设备
光学
薄膜
脉冲激光沉积
类金刚石膜
大面积均匀薄膜
Keywords
manufaturing technology and equipment
optical thin film
pulsed laser deposition
diamond-like carbon film
large area uniform film
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
激光沉积大面积均匀类金刚石膜的设计改进及实验
陆益敏
黄国俊
郭延龙
丁方正
陈霞
韦尚方
米朝伟
《兵工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
5
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