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多模式组合抛光技术在光学加工中的应用
被引量：
9
1
作者
宣斌
谢京江
宋淑梅
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期41-50,共10页
介绍了将经典抛光方法与数控加工技术有机结合的多模式组合抛光技术。描述了多模式组合抛光的关键技术之一,材料去除率仿真模型的建立方法。通过设置抛光盘因子和元件因子,多模式组合抛光的材料去除模型不仅包含抛光模式、速度等加工参...
介绍了将经典抛光方法与数控加工技术有机结合的多模式组合抛光技术。描述了多模式组合抛光的关键技术之一,材料去除率仿真模型的建立方法。通过设置抛光盘因子和元件因子,多模式组合抛光的材料去除模型不仅包含抛光模式、速度等加工参数,还将抛光模形状、边角效应、元件面形误差等因素对材料去除的影响一并考虑入内,可以根据抛光阶段的不同,选择不同的仿真精度。实验发现,多模式组合抛光可以显著提高加工效率,并且具有较好的对中频误差的抑制和修正能力。多模式组合抛光目前的应用水平大致为球面、平面元件的面形误差达到20 nm（rms）,非球面元件的面形误差达到30~40 nm（rms）左右。结果表明,多模式组合抛光在大口径元件的光学加工方面具有较强的适用性和很大的发展空间。
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关键词
光学加工
多模式组合抛光
非球面
材料去除
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职称材料
题名
多模式组合抛光技术在光学加工中的应用
被引量：
9
1
作者
宣斌
谢京江
宋淑梅
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室
中国科学院研究生院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期41-50,共10页
基金
中科院第三期知识创新工程资助项目
文摘
介绍了将经典抛光方法与数控加工技术有机结合的多模式组合抛光技术。描述了多模式组合抛光的关键技术之一,材料去除率仿真模型的建立方法。通过设置抛光盘因子和元件因子,多模式组合抛光的材料去除模型不仅包含抛光模式、速度等加工参数,还将抛光模形状、边角效应、元件面形误差等因素对材料去除的影响一并考虑入内,可以根据抛光阶段的不同,选择不同的仿真精度。实验发现,多模式组合抛光可以显著提高加工效率,并且具有较好的对中频误差的抑制和修正能力。多模式组合抛光目前的应用水平大致为球面、平面元件的面形误差达到20 nm（rms）,非球面元件的面形误差达到30~40 nm（rms）左右。结果表明,多模式组合抛光在大口径元件的光学加工方面具有较强的适用性和很大的发展空间。
关键词
光学加工
多模式组合抛光
非球面
材料去除
Keywords
optical manufacturing
multi-mode combined polishing
aspheres
material removal
分类号
TQ171.684 [化学工程—玻璃工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多模式组合抛光技术在光学加工中的应用
宣斌
谢京江
宋淑梅
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
9
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