一维光子晶体与光学多层介质膜 被引量：8

1

作者 陈慰宗 申影 +1 位作者 刘军 卜涛 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第9期1081-1084,共4页

本文阐述了一维光子晶体和光子禁带的概念，对比了一维光子晶体与光学多层介质膜在结构和特性方面的联系和差别，运用薄膜光学的理论和方法讨论了多层介质膜的高反射带与光子禁带和膜系结构参量的关系.

关键词 一维光子晶体 光子禁带 高反射带 光学多层介质膜 薄膜光学 膜系结构参量

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多层介质膜光谱调制反射镜的反应离子束刻蚀误差容限 被引量：3

2

作者 李铭 张彬 +2 位作者 戴亚平 王韬 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期761-766,共6页

在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与... 在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注。利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形。在光谱整形介质结构反射镜的设计与制造中,需要根据要求的反射率来合理提出反应离子束刻蚀误差容限指标。推导出反应离子束刻蚀误差容限的解析表达式。针对神光Ⅱ千焦拍瓦高功率放大系统设计中提出的多层介质光谱调制反射镜,分析了调制结构反射镜各层加工的容许误差,确定了反应离子束刻蚀误差容限指标。研究表明:刻蚀高折射率介质的加工误差容限为35 nm;刻蚀低折射率介质的加工误差容限为62 nm。此外,还从使用需要和加工难易的角度,对刻蚀方案进行了讨论。就加工难易程度而言,优选反应离子束刻蚀方案,且采用刻蚀并残留低折射率介质的方案更容易实现。 展开更多

关键词 光学器件 光谱整形 多层介质膜光谱调制反射镜 微纳超精细加工 误差容限

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杂乱层厚的多层介质膜干涉滤光片 被引量：1

3

作者 张道中 李兆霖 程丙英 《量子电子学》 CSCD 1996年第5期413-413,共1页

杂乱层厚的多层介质膜干涉滤光片张道中，李兆霖，程丙英（中国科学院物理所光物理实验室北京１００（）８０）利用光束在多层介质膜中的干涉效应，可以得到窄的透过带宽、一定透过率的干涉滤光片。这种干涉滤光片尽管理论上透过带宽十... 杂乱层厚的多层介质膜干涉滤光片张道中，李兆霖，程丙英（中国科学院物理所光物理实验室北京１００（）８０）利用光束在多层介质膜中的干涉效应，可以得到窄的透过带宽、一定透过率的干涉滤光片。这种干涉滤光片尽管理论上透过带宽十分窄，但由于存在镀膜材料的吸收和膜... 展开更多

关键词 干涉滤光片 多层介质膜 镀膜材料

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适用于WDM中高质量多层介质膜的设计和生长

4

作者 赵红东 辛国锋 等 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第Z01期182-184,共3页

我们利用有效反射率方法，研究了多层半导体介质膜的光传输特性，然后设计并生长了TiO2+ZrO2和SiO2组成的多层介质膜。测试结果表明45度入射时，滤长为0．85微米的大部分光被反向，而1．31微米波长的光能够透射，可以被应用在波分复用中。

关键词 波分复用 多层介质膜 有效反射率 设计 生长 光传输特性

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涡旋光辐照多层介质膜温升的模拟

5

作者 杜立峰 肖谦裔 张蓉竹 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2016年第7期116-120,共5页

搭建了涡旋光在多层介质膜中的传输模型,分析了涡旋光垂直入射下膜系内的温升分布。结果表明,膜系内的温升分布与涡旋光入射面密切相关。当涡旋光在初始面入射时,膜系的温升区域集中在入射中心。当涡旋光在空间中传输一定距离后再入射... 搭建了涡旋光在多层介质膜中的传输模型,分析了涡旋光垂直入射下膜系内的温升分布。结果表明,膜系内的温升分布与涡旋光入射面密切相关。当涡旋光在初始面入射时,膜系的温升区域集中在入射中心。当涡旋光在空间中传输一定距离后再入射膜系时,膜系温升区域向入射中心的两侧发散,且最大温升大于初始面入射时的温升。当传输距离足够远时,膜系最大温升随传输距离的增加而减小。另外,在一定传输距离内,膜系最大温升随拓扑荷数的增大而增加。传输距离足够远时,最大温升随拓扑荷数的增大而减小。 展开更多

关键词 涡旋光 多层介质膜 热传导

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一种多层介质膜光管及其对激光光场的影响研究

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作者 赵鹏飞 杨文豪 《科学技术与工程》 北大核心 2016年第25期185-189,共5页

带有光管的光学系统中,当采用激光光源时,光管对激光的特性影响应当被考虑到。利用ZEMAX仿真软件,对532nm激光通过一种71层高反射多层介质膜光管结构后特性进行了仿真分析;并搭建测量光路对仿真数据进行验证。实验结果表明,镀有多层介... 带有光管的光学系统中,当采用激光光源时,光管对激光的特性影响应当被考虑到。利用ZEMAX仿真软件,对532nm激光通过一种71层高反射多层介质膜光管结构后特性进行了仿真分析;并搭建测量光路对仿真数据进行验证。实验结果表明,镀有多层介质膜的光管可以有效增加光的反射率,使激光光源的偏振形状和方向多样化,因此,该类光管可被用于调制激光的偏振度。 展开更多

关键词 多层介质膜 光管 激光光源 偏振态

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提高多层介质膜脉宽压缩光栅阈值的清洗方法(英文) 被引量：6

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作者 陈上碧 盛斌 +5 位作者 邱克强 刘正坤 徐向东 刘颖 洪义麟 付绍军 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期2631-2636,共6页

采用HPM溶液(盐酸、双氧水和去离子水的混合液)结合氧等离子体对多层介质膜脉宽压缩光栅进行清洗研究。用X射线光电子能谱检测光栅表面的元素成分及其原子含量的变化。实验结果表明,氧等离子体处理能有效去除光栅表面残留光刻胶和碳氟... 采用HPM溶液(盐酸、双氧水和去离子水的混合液)结合氧等离子体对多层介质膜脉宽压缩光栅进行清洗研究。用X射线光电子能谱检测光栅表面的元素成分及其原子含量的变化。实验结果表明,氧等离子体处理能有效去除光栅表面残留光刻胶和碳氟化合物;再经HPM溶液清洗,反应离子束刻蚀和氧等离子体处理过程产生的金属污染物被进一步去除。经过上述清洗工艺处理后,光栅一级衍射效率仍保持在95%以上,光栅表面激光诱导损伤阈值达到1.6J/cm2(1053nm,10ps)。实验结果说明了氧等离子体和HPM溶液相结合能有效清洗多层介质膜脉宽压缩光栅,并显著提高光栅损伤阈值。 展开更多

关键词 多层介质膜光栅 HPM溶液 激光诱导损伤阈值

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HfO_2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅的Piranha溶液清洗 被引量：4

8

作者 陈上碧 盛斌 +5 位作者 邱克强 刘正坤 徐向东 刘颖 洪义麟 付绍军 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期2106-2110,共5页

为了提高HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅(PCG)的抗激光损伤性能,使用Piranha溶液(浓硫酸和双氧水的混合液)清洗PCG去除其制作工艺和使用过程中残留在表面的污染物,包括CHF3作为工作气体对HfO2进行反应离子束刻蚀生成的碳氟化合物及金... 为了提高HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅(PCG)的抗激光损伤性能,使用Piranha溶液(浓硫酸和双氧水的混合液)清洗PCG去除其制作工艺和使用过程中残留在表面的污染物,包括CHF3作为工作气体对HfO2进行反应离子束刻蚀生成的碳氟化合物及金属氟化物。对Piranha溶液的清洗温度、组成成分、清洗时间、清洗遍数等参数进行了系统研究,用扫描电子显微镜(SEM)观察清洗前后的PCG表面形貌,用X射线光电子能谱仪(XPS)检测清洗前后PCG表面的元素成分及其原子分数的变化,并分析了各残留污染物的去除机理。实验结果表明:Piranha溶液能有效去除PCG表面污染物,而且清洗温度越高,清洗遍数越多,对PCG表面残留污染物的去除效果越显著。在90℃下60min有效活性时间内,使用浓硫酸和双氧水体积比为2∶1的Piranha溶液清洗3遍以上,PCG表面残留的F元素的原子分数接近0.1%(XPS的分辨极限),达到良好的清洗效果。 展开更多

关键词 多层介质膜脉宽压缩光栅 污染物 Piranha溶液 扫描电子显微镜 X射线光电子能谱

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多层介质膜偏振无关光栅的研制 被引量：6

9

作者 申碧瑶 曾理江 +1 位作者 李立峰 颜宏 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期73-74,共2页

介绍了一种应用于光纤激光光谱合束的高衍射效率多层介质膜偏振无关光栅的设计及制作,给出了设计参数、制作流程和最终制作的偏振无关光栅的测量结果,在1.044-1.084μm波长范围内,实验测得的TE偏振光、TM偏振光的平均衍射效率分别为89.7... 介绍了一种应用于光纤激光光谱合束的高衍射效率多层介质膜偏振无关光栅的设计及制作,给出了设计参数、制作流程和最终制作的偏振无关光栅的测量结果,在1.044-1.084μm波长范围内,实验测得的TE偏振光、TM偏振光的平均衍射效率分别为89.7%,93.8%。 展开更多

关键词 衍射光栅 偏振无关光栅 多层介质膜光栅 光谱合束

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多层介质膜脉宽压缩光栅清洗方法研究 被引量：2

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作者 邹溪 晋云霞 +3 位作者 孔钒宇 王勇禄 张益彬 邵建达 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第12期1285-1289,共5页

采用SPM(Sulfuric-Peroxide Mixtures,98wt%H2SO4+30wt%H2O2)+兆声(方法1)和氧等离子体+HPM(Hydrochloric/Peroxide Mixture,37wt%HCl+30wt%H2O2+DIH2O)+兆声(方法2)两种清洗方法对多层介质膜脉宽压缩光栅进行清洗,并对清洗前后样品的... 采用SPM(Sulfuric-Peroxide Mixtures,98wt%H2SO4+30wt%H2O2)+兆声(方法1)和氧等离子体+HPM(Hydrochloric/Peroxide Mixture,37wt%HCl+30wt%H2O2+DIH2O)+兆声(方法2)两种清洗方法对多层介质膜脉宽压缩光栅进行清洗,并对清洗前后样品的表面元素含量、衍射效率、表面粗糙度、表面温升以及激光损伤阈值等参数进行测量以评估两种清洗方法清洗效果。在入射角70°,脉宽12 ns,s偏振,波长1064 nm的激光辐照下,经过清洗方法1清洗后的光栅样品单脉冲激光损伤阈值为7.55 J/cm2,而方法2清洗后的样品损伤阈值为5.32 J/cm2。另外,虽然经过方法2清洗后样品表面杂质含量更低,但是在衍射效率、表面粗糙度和表面温升都劣于经方法1清洗后的样品,进一步分析发现方法2中氧等离子体清洗过程引入的Fe元素影响了其样品损伤性能和温升性能。因此,SPM清洗方法可以作为多层介质膜脉宽压缩光栅提升抗激光损伤性能的优化清洗方案。 展开更多

关键词 多层介质膜 脉宽压缩光栅 氧等离子体 SPM HPM

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多层介质膜脉冲压缩光栅激光损伤特性研究进展 被引量：2

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作者 邱志方 王敏辉 +1 位作者 蒲云体 马平 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期329-338,共10页

本文结合国内外研究情况,概括性介绍了用于啁啾脉冲放大系统中的多层介质膜脉冲压缩光栅的激光损伤特性研究进展,包括多层介质膜的损伤、表面浮雕结构的损伤,以及介质膜光栅损伤的影响因素。在关于介质膜光栅激光损伤的影响因素中又分... 本文结合国内外研究情况,概括性介绍了用于啁啾脉冲放大系统中的多层介质膜脉冲压缩光栅的激光损伤特性研究进展,包括多层介质膜的损伤、表面浮雕结构的损伤,以及介质膜光栅损伤的影响因素。在关于介质膜光栅激光损伤的影响因素中又分别介绍了槽型结构、制备工艺、激光参数、脉冲数量、热应力和杂质缺陷对其抗激光损伤阈值的影响。最后,从结构设计、制备工艺以及后期处理等方面,介绍了提高多层介质膜光栅抗激光损伤阈值的常用方法。 展开更多

关键词 多层介质膜脉冲压缩光栅 激光损伤 影响因素 损伤阈值

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光波经多层介质膜反射的时延表达式

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作者 兰岚 杨李茗 +2 位作者 林晓东 邱服民 陈建国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期643-646,共4页

　利用基于多光束干涉原理的等效腔模型导出了多层介质膜的反射系数的递推式,在此基础上证明了在中心频率附近,复反射系数可表示为中心频率处的反射系数与相位因子的积,进而导出了相位角的函数和反射时延的表达式。

关键词 多光束干涉 等效腔模型 多层介质膜 复反射系数 相位因子 反射时延

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多层介质膜红外空芯光纤的传输特性

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作者 林宵 石艺尉 +1 位作者 隋可融 朱晓松 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期278-282,共5页

提出了一种计算多层介质膜空芯光纤损耗谱特性的方法,理论分析了介质—金属膜结构红外空芯光纤的传输损耗特性.将各层膜的厚度、材料色散和表面粗糙度等特性引入理论计算后,根据实测损耗谱估算了每层介质膜厚度.通过比较实测和理论计算... 提出了一种计算多层介质膜空芯光纤损耗谱特性的方法,理论分析了介质—金属膜结构红外空芯光纤的传输损耗特性.将各层膜的厚度、材料色散和表面粗糙度等特性引入理论计算后,根据实测损耗谱估算了每层介质膜厚度.通过比较实测和理论计算损耗谱,调整优化了工艺参数.采用液相镀膜法,制作了在中红外波长带有低损耗特性的Ag/SiO2/AgI/SiO2三层介质膜结构空芯光纤. 展开更多

关键词 光纤光学 多层介质膜 损耗谱 传输特性

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多层介质膜光栅激光预处理(英文)

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作者 高鹏鹏 晋云霞 +2 位作者 刘世杰 汪剑鹏 陈顺利 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期2589-2592,共4页

在N-on-1测试模式下研究了多层介质膜光栅的激光预处理效应。实验发现,激光预处理之后多层介质光栅膜的阈值能提高到处理前阈值的1.5～2.0倍。预处理机制可能是低能量密度激光辐照减少了光栅表面的污染物并降低了光栅表面的粗糙度。激... 在N-on-1测试模式下研究了多层介质膜光栅的激光预处理效应。实验发现,激光预处理之后多层介质光栅膜的阈值能提高到处理前阈值的1.5～2.0倍。预处理机制可能是低能量密度激光辐照减少了光栅表面的污染物并降低了光栅表面的粗糙度。激光预处理可以作为优化光栅结构、酸洗等一系列提高多层介质膜光栅阈值方法的一个补充。 展开更多

关键词 激光诱导损伤 多层介质膜光栅 激光预处理 抗激光损伤性 精密结构

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光电极值法测厚多层介质膜镀膜机性能的几点改进

15

作者 李之慧 陶然·瓦吉地 杨雅丽 《四川激光》 1981年第A02期120-120,共1页

我们对“光电极值法”测厚多层介质膜镀膜机的性能作了改进，取得了明显的效果，可以说几个主要指标；如保持基片和膜层的清洁，膜层厚度的相对精度、低消耗电量，设备简单上以及调整光电路的节省时间等，都达到了同类型镀膜机的先进水... 我们对“光电极值法”测厚多层介质膜镀膜机的性能作了改进，取得了明显的效果，可以说几个主要指标；如保持基片和膜层的清洁，膜层厚度的相对精度、低消耗电量，设备简单上以及调整光电路的节省时间等，都达到了同类型镀膜机的先进水平。另外，我们的实验还可能对要求保持高度清洁的其它镀膜器件提供一些解决问题的途径。此外，对改进本类型镀膜机的设计也提供了一些重要的参考。 展开更多

关键词 多层介质膜 光电极值法 镀膜机 测厚 膜层厚度 相对精度 先进水平 耗电量 膜器件 类型

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光控取向铁电液晶的多层介质膜反射镜空间光调制器

16

作者 雨竹 《液晶与显示》 CAS CSCD 2001年第3期169-169,共1页

关键词 光控取向 铁电液晶 多层介质膜 光调制器 反射镜

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退火温度对宽带脉冲压缩光栅载体金属/介质多层高反膜的影响 被引量：4

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作者 吴建波 晋云霞 +4 位作者 关贺元 孔钒宇 刘文文 刘世杰 易葵 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期1087-1092,共6页

分别以金(Au)作为金属层材料,氧化铪(HfO2)与氧化硅(SiO2)作为高低折射率层材料,利用物理气相沉积方法制备了用于宽带脉冲压缩光栅制作的金属/介质多层高反膜,研究了退火温度对其表面均方根粗糙度、反射率及抗化学清洗破坏能力的影响。... 分别以金(Au)作为金属层材料,氧化铪(HfO2)与氧化硅(SiO2)作为高低折射率层材料,利用物理气相沉积方法制备了用于宽带脉冲压缩光栅制作的金属/介质多层高反膜,研究了退火温度对其表面均方根粗糙度、反射率及抗化学清洗破坏能力的影响。实验结果表明:退火前后样品表面均方根粗糙度变化很小;提高退火温度能提高金属/介质多层膜的抗化学清洗破坏能力,但反射率会随之下降。250℃退火10 h后金属/介质多层膜不仅可以承受住化学清洗过程,而且反射率下降也比较小,可以作为金属/介质多层膜的最佳退火工艺。 展开更多

关键词 金属/介质多层膜 脉冲压缩光栅 退火 化学清洗 反射率

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金属-电介质多层膜结构亚波长成像特性分析(英文) 被引量：1

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作者 郑改革 蒋立勇 +1 位作者 强海霞 李相银 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期2011-2014,共4页

分析了由Ag和Si3N4多层纳米薄膜组成的特异材料的模式特性,使用本征模展开法(EME)结合完全匹配层(PML)边界条件模拟了该结构的亚波长成像行为,在法布里-珀罗(Fabry-Perot)条件(结构的长度是半波长的整数倍)条件下,研究发现邻近系统的点... 分析了由Ag和Si3N4多层纳米薄膜组成的特异材料的模式特性,使用本征模展开法(EME)结合完全匹配层(PML)边界条件模拟了该结构的亚波长成像行为,在法布里-珀罗(Fabry-Perot)条件(结构的长度是半波长的整数倍)条件下,研究发现邻近系统的点源会在另一侧成实像,这种成像基于自准直而并不是负折射.研究结果证实了金属-电介质多层膜结构可以在光波段实现近场成像. 展开更多

关键词 亚波长成像 自准直 金属-电介质多层膜 本征模展开法

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介质多层膜的热吸收 被引量：1

19

作者 齐文宗 张云洞 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期33-36,共4页

根据薄膜光学基本理论,利用一级近似数学方法,给出了S,P偏振态平行光在两弱吸收介质边界反射率及透射率的简单表达式,并依此研究了弱吸收介质单层膜及多层膜的热吸收。结果表明,单一膜层的热吸收率,在膜层参数确定的条件下,不仅取决于... 根据薄膜光学基本理论,利用一级近似数学方法,给出了S,P偏振态平行光在两弱吸收介质边界反射率及透射率的简单表达式,并依此研究了弱吸收介质单层膜及多层膜的热吸收。结果表明,单一膜层的热吸收率,在膜层参数确定的条件下,不仅取决于此膜层材料的消光系数,而且取决于相邻膜层的消光系数。 展开更多

关键词 热吸收率 介质多层膜 薄膜光学

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介质膜光栅槽形无损检测方法的研究 被引量：4

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作者 陈新荣 耿康 吴建宏 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期423-425,共3页

为了从理论上探究介质膜基底光刻胶光栅掩模槽形的检测方法,对此种光栅掩模建立了以C方法为理论基础的衍射效率理论计算的数学模型,并将从实际光栅掩模的SEM照片得出的光栅槽形参数带入到该模型中,得到了一系列-1级衍射光的光谱分布曲线... 为了从理论上探究介质膜基底光刻胶光栅掩模槽形的检测方法,对此种光栅掩模建立了以C方法为理论基础的衍射效率理论计算的数学模型,并将从实际光栅掩模的SEM照片得出的光栅槽形参数带入到该模型中,得到了一系列-1级衍射光的光谱分布曲线,这些曲线的变化趋势与一定光栅槽形相对应,提出了通过测量衍射光的光谱分布曲线判断光栅槽形的无损检测方法。分析表明,该方法在光栅槽形的检测过程中,可以较为有效地判断光刻胶是否到底,而这一点在掩模的制作工艺中至关重要。 展开更多

关键词 光栅 多层介质膜 脉冲压缩 C方法

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