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复合膜吸杂技术在硅分立器件制造中的应用
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作者 孙以材 张储林 《河北工业大学学报》 CAS 1990年第2期48-55,共8页
利用复合膜吸杂技术处理硅晶体材料改善硅衬底及外延片质量的吸杂原理.通过三探针测量、DLTS 检测、MOS 电容器弛预时间、器件结特性的改善和成品率的提高显示了复合膜吸杂的吸杂效果.实验结果表明,复合膜吸杂枝术是有效、简便、可控、... 利用复合膜吸杂技术处理硅晶体材料改善硅衬底及外延片质量的吸杂原理.通过三探针测量、DLTS 检测、MOS 电容器弛预时间、器件结特性的改善和成品率的提高显示了复合膜吸杂的吸杂效果.实验结果表明,复合膜吸杂枝术是有效、简便、可控、稳定、成本低廉且与器件制造工艺是相容的.很有开发、推广价值. 展开更多
关键词 复合膜吸杂 外延 衬底 分立器件
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