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电流体喷印电磁功能微阵列结构
1
作者
王大志
张结
+11 位作者
刘畅
欧阳景涛
付瀚卿
王俊瑶
刘茈涵
冯译文
赵祥露
锁刘佳
王铁胜
梁世文
孔令杰
唐彬
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期104-115,共12页
提出一种基于电流体喷印技术的复合材料衬底电磁功能微阵列结构制造工艺方法。通过间距补偿工艺策略,降低复合材料衬底功能结构线宽尺寸误差的47.4%,有效提高了复合材料衬底喷印精度。系统分析了电流体喷印参数对功能结构质量的影响关系...
提出一种基于电流体喷印技术的复合材料衬底电磁功能微阵列结构制造工艺方法。通过间距补偿工艺策略,降低复合材料衬底功能结构线宽尺寸误差的47.4%,有效提高了复合材料衬底喷印精度。系统分析了电流体喷印参数对功能结构质量的影响关系,实现复合材料衬底上多尺寸、多类型电磁功能微阵列结构的按需制造。确定了电磁功能微阵列结构的最优固化条件,得到线宽60μm金属结构电阻率为9.18×10^(-8)Ω·m。所制造的带阻型电磁功能微阵列结构在中心频率23.64 GHz处能够将电磁波有效抑制,透射系数为-42.89 dB,有效验证了电流体喷印技术制造电磁功能结构的能力与实现效果。
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关键词
电流体喷印
电磁功能
微阵列结构
电阻率
透射系数
复合材料衬底
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职称材料
题名
电流体喷印电磁功能微阵列结构
1
作者
王大志
张结
刘畅
欧阳景涛
付瀚卿
王俊瑶
刘茈涵
冯译文
赵祥露
锁刘佳
王铁胜
梁世文
孔令杰
唐彬
机构
大连理工大学机械工程学院
高性能精密制造全国重点实验室
大连理工大学宁波研究院
宁波永新光学股份有限公司
中国工程物理研究院电子工程研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期104-115,共12页
基金
国防基础科研项目。
文摘
提出一种基于电流体喷印技术的复合材料衬底电磁功能微阵列结构制造工艺方法。通过间距补偿工艺策略,降低复合材料衬底功能结构线宽尺寸误差的47.4%,有效提高了复合材料衬底喷印精度。系统分析了电流体喷印参数对功能结构质量的影响关系,实现复合材料衬底上多尺寸、多类型电磁功能微阵列结构的按需制造。确定了电磁功能微阵列结构的最优固化条件,得到线宽60μm金属结构电阻率为9.18×10^(-8)Ω·m。所制造的带阻型电磁功能微阵列结构在中心频率23.64 GHz处能够将电磁波有效抑制,透射系数为-42.89 dB,有效验证了电流体喷印技术制造电磁功能结构的能力与实现效果。
关键词
电流体喷印
电磁功能
微阵列结构
电阻率
透射系数
复合材料衬底
Keywords
Electrohydrodynamic printing
Electromagnetic function
Microarray structure
Resistivity
Transmittance coefficient
Composite material substrate
分类号
TN05 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电流体喷印电磁功能微阵列结构
王大志
张结
刘畅
欧阳景涛
付瀚卿
王俊瑶
刘茈涵
冯译文
赵祥露
锁刘佳
王铁胜
梁世文
孔令杰
唐彬
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
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