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2Cr13基体表面粗糙度对Ti掺杂MoS_(2)薄膜摩擦磨损性能的影响
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作者 丁子珊 赖泽标 +4 位作者 李一治 江小辉 刘京周 吉利 Ermakov Boris Sergeevich 《表面技术》 北大核心 2025年第13期96-106,共11页
目的探究基体表面粗糙度对Ti掺杂MoS_(2)薄膜摩擦磨损性能的影响及其磨损机理,为后续2Cr13基体配磨副表面状态设计提供参考。方法通过磁控溅射法在表面粗糙度(Ra)范围为0.2~0.7μm的2Cr13基体表面制备Ti掺杂的MoS_(2)薄膜,并在大气环境... 目的探究基体表面粗糙度对Ti掺杂MoS_(2)薄膜摩擦磨损性能的影响及其磨损机理,为后续2Cr13基体配磨副表面状态设计提供参考。方法通过磁控溅射法在表面粗糙度(Ra)范围为0.2~0.7μm的2Cr13基体表面制备Ti掺杂的MoS_(2)薄膜,并在大气环境下进行干摩擦摩擦磨损实验。通过扫描电子显微镜、金相显微镜、能谱仪、白光干涉仪对实验后的薄膜磨痕形貌及对摩球的磨斑形貌进行观察分析。结果通过分析基体粗糙度为0.2μm的薄膜的磨痕表面形貌可知,主要为黏着磨损,其平均摩擦因数和对摩球磨斑面积最大,而其磨损率在所有试样中处于居中位置;当基体的粗糙度增至0.5~0.6μm范围时,其平均摩擦因数、薄膜磨损率及对摩球磨斑面积都最小;当基体粗糙度进一步升至0.7μm时,薄膜的磨损率(8.79301×10^(-7)mm^(3)·N^(-1)·m^(-1))最大,而其平均摩擦因数(0.092)较小,对摩球磨斑面积(4.125×10^(4)μm^(2))略有升高,但比Ra 0.2μm下的对摩球的磨斑面积小。结论基于分子-机械摩擦理论,揭示了基体不同粗糙度对镀膜后表面摩擦磨损的影响机制,在低粗糙度(0.2μm)下,分子间的作用力主导摩擦阻力,黏着磨损显著;在中粗糙度(0.4~0.6μm),工件在不同摩擦阻力的作用下,其磨损机制为黏着磨损和磨粒磨损,其中Ra 0.4μm的工件仍以黏着磨损为主。随着基体粗糙度的增加,Ra 0.6μm工件表面的磨损机制逐渐转变为以磨粒磨损为主,在Ra 0.5~0.6μm范围内制备的Ti掺杂MoS_(2)薄膜展现出最优的综合性能;在高粗糙度(0.7μm)下,由机械啮合阻力主导,薄膜磨损剧烈,磨损机制主要为磨粒磨损。在不同基体表面粗糙度状态下,薄膜的摩擦磨损机制存在显著差别,为提升以摩擦磨损性能为目标的基体表面状态提供了关键依据。 展开更多
关键词 基体表面粗糙度 Ti掺杂MoS_(2)薄膜 2Cr13 摩擦磨损 磨损机制 干摩擦
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非金属材料化学镀工艺中基体表面活化方法的研究 被引量:12
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作者 刘建国 陈存华 郑家燊 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期5-8,共4页
简要介绍了非金属材料化学镀工艺中基体表面活化的几种方法 ,包括传统的基体表面活化法、气相沉积法、介电层放电法、光化学法、自催化活化法等。讨论了它们的原理、优缺点。
关键词 基体表面活化法 气相沉积法 DBD法 光化学活化法 自催化活化法
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基体表面状态对直流磁控溅射铬膜附着性的影响 被引量:2
3
作者 范洪远 李伟 +3 位作者 沈保罗 唐正华 向文欣 应诗浩 《四川大学学报(工程科学版)》 EI CAS CSCD 2003年第2期77-79,共3页
在锆合金基体上制备直流磁控溅射铬膜,研究了基体宏观粗糙度、膜层沉积前的离子轰击对膜/基附着性的影响,以探讨利用铬膜改善锆合金耐蚀性的可能性。实验中,使用扫描电镜(SEM)观察了界面形貌及Zr、Cr的界面分布,用划痕法测定了铬膜的附... 在锆合金基体上制备直流磁控溅射铬膜,研究了基体宏观粗糙度、膜层沉积前的离子轰击对膜/基附着性的影响,以探讨利用铬膜改善锆合金耐蚀性的可能性。实验中,使用扫描电镜(SEM)观察了界面形貌及Zr、Cr的界面分布,用划痕法测定了铬膜的附着性,结果表明:锆/铬界面结合良好,边界清晰,成分升降区依界面形貌不同而有差异;实验获得的铬膜附着性均超过20N;在本文条件下,机械锁紧力对附着性有重要影响;基体宏观粗糙度的增加对附着性无明显影响,但表面轻微粗化有利于膜的附着性;溅射前的基体离子轰击有利于提高铬膜与基体的附着力,但轰击时间过长并无意义。 展开更多
关键词 基体表面状态 直流磁控溅射 铬膜 锆合金 附着性
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基体表面纳织构化对AlCrN涂层刀具界面结合强度影响的研究 被引量:7
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作者 张翔 邓建新 +3 位作者 张贵梁 葛栋梁 王伟 刘亚运 《工具技术》 北大核心 2017年第9期17-21,共5页
为了探讨基体表面不同预处理工艺对涂层界面结合强度的影响,利用研磨抛光、喷砂和织构化等三种不同的预处理工艺对基体表面进行处理后涂覆Al Cr N涂层,制备出三种不同的Al Cr N涂层试样。对试样进行划痕试验,研究并比较各试样的界面结... 为了探讨基体表面不同预处理工艺对涂层界面结合强度的影响,利用研磨抛光、喷砂和织构化等三种不同的预处理工艺对基体表面进行处理后涂覆Al Cr N涂层,制备出三种不同的Al Cr N涂层试样。对试样进行划痕试验,研究并比较各试样的界面结合强度。研究结果表明:与研磨抛光和喷砂两种预处理方式相比,织构化工艺能在基体表面有效加工出规则、连续的纹理,增加基体表面的粗糙度,有利于增加涂层与基体间的界面结合强度。 展开更多
关键词 基体表面 纳米级织构 AlCrN涂层 划痕试验 结合强度
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钨丝到基体表面距离对HFCVD金刚石薄膜质量的影响 被引量:2
5
作者 赵齐 代明江 +2 位作者 韦春贝 邱万奇 侯惠君 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第22期22-25,共4页
以紫铜为基体,在紫铜上先采用磁控溅射技术镀一层金属铬,再以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在铬过渡层上合成金刚石薄膜.利用X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)、扫描电镜(SEM)分析薄膜的结构、成分和... 以紫铜为基体,在紫铜上先采用磁控溅射技术镀一层金属铬,再以H2和CH4作为反应气体,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在铬过渡层上合成金刚石薄膜.利用X射线衍射(XRD)、激光拉曼光谱(Raman)、扫描电镜(SEM)分析薄膜的结构、成分和表面形貌,采用洛式硬度计压痕试验测量了膜基结合力,研究了钨丝-基体表面距离对金刚石薄膜质量的影响.研究发现:当钨丝-基体表面距离在5~9mm时,金刚石晶型很好,薄膜致密度较好,晶粒的平均尺寸为6~7μm,薄膜内应力为-2.15 GPa;当钨丝-基体表面距离在9~15 mm时,金刚石的晶型相对较好,但薄膜致密性不好,晶粒的平均尺寸为7~8 μm,薄膜内应力为-1.59 GPa;当钨丝-基体表面距离大于15mm后,金刚石的晶型较差,不能形成连续的金刚石薄膜,晶粒的平均尺寸为5~6μm,薄膜内应力约为0 GPa;铬过渡层不能有效提高金刚石薄膜与铜基体的结合力. 展开更多
关键词 金刚石薄膜 铬过渡层 钨丝-基体表面距离 热丝化学气相沉积
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基体表面粗糙度对MoS_(2)/Ti薄膜摩擦磨损性能的影响 被引量:3
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作者 陈爽 韩雪艳 +2 位作者 安帅帅 王勇杰 李仕华 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第8期169-177,共9页
为揭示基体表面粗糙度对MoS_(2)/Ti固体润滑薄膜摩擦磨损性能的影响规律,并探究其摩擦磨损机理,采用磁控溅射方法,在不同表面粗糙度的轴承钢基体上沉积MoS_(2)/Ti薄膜。通过划痕测试仪、X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜和粗糙度轮廓... 为揭示基体表面粗糙度对MoS_(2)/Ti固体润滑薄膜摩擦磨损性能的影响规律,并探究其摩擦磨损机理,采用磁控溅射方法,在不同表面粗糙度的轴承钢基体上沉积MoS_(2)/Ti薄膜。通过划痕测试仪、X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜和粗糙度轮廓仪,分别评价MoS_(2)/Ti薄膜的膜基结合力、物相成分、表面微观形貌以及表面粗糙度,并采用球-盘摩擦磨损实验研究干摩擦、固体-油复合润滑和固体-脂复合润滑条件下,MoS_(2)/Ti薄膜的摩擦磨损性能。结果表明:随着基体表面粗糙度的增加,MoS_(2)/Ti薄膜的表面粗糙度逐渐增加;薄膜中(002)_(MoS_(2))和(100)_(MoS_(2))衍射峰的强度先减弱后增加;薄膜与基体的结合性能降低。当基体表面粗糙度为0.01μm时,干摩擦条件下MoS_(2)/Ti薄膜具有良好的润滑特性,平均摩擦因数为0.101,磨痕浅且小;随基体粗糙度的升高,样品的平均摩擦因数和磨损率均是先增大后减小,薄膜的主要磨损机制由磨粒磨损转变为屑片形成和破碎。当基体粗糙度较大时(R_(a)=0.26μm),分子间相互作用的影响大于机械啮合作用。采用固体-油复合润滑,高基体粗糙度的薄膜磨损表面不再出现片层剥落现象,磨痕较浅,平均摩擦因数最高可减小19%。固体-脂复合润滑条件下,样品摩擦磨损性能较差,基体粗糙度对摩擦因数的影响不显著。 展开更多
关键词 基体表面粗糙度 MoS_(2)/Ti薄膜 干摩擦 复合润滑 阴影效应 磨损机制
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基体表面粗糙度对金刚石薄膜涂层刀具附着强度的影响 被引量:3
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作者 黄树涛 姚英学 袁哲俊 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2000年第2期44-45,共2页
应用扫描电镜和断续车削实验法研究了基体表面粗糙度对金刚石薄膜成核密度、成核状态及金刚石薄膜涂层刀具附着强度的影响 。
关键词 金刚石薄膜 涂层刀具 基体表面粗糙度 附着强度
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基体表面粗糙度对冷喷涂Ti6Al4V界面结合的数值模拟 被引量:3
8
作者 蒋圣威 周红霞 +1 位作者 李雪婷 王铀 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期262-272,共11页
在冷喷涂过程中,基体的表面粗糙度会影响涂层和基体之间的结合,目前对该问题关注还不够,且存在一定争议。以冷喷涂修复Ti6Al4V钛合金(TC4)过程为研究对象,利用有限元模拟手段,建立二维和三维单粒子在不同表面粗糙度基体上的撞击模型。... 在冷喷涂过程中,基体的表面粗糙度会影响涂层和基体之间的结合,目前对该问题关注还不够,且存在一定争议。以冷喷涂修复Ti6Al4V钛合金(TC4)过程为研究对象,利用有限元模拟手段,建立二维和三维单粒子在不同表面粗糙度基体上的撞击模型。通过分析粒子在撞击到光滑表面、研磨表面和喷砂表面三种情况下界面的温度、等效塑性应变及系统能量的变化,得出以下结论:随着基体表面粗糙度的增加,粒子的等效塑性应变和扁平率逐渐减小。界面温度和等效塑性应变在基体“波峰”处较高,在“波谷”处较低,在高的表面粗糙度下,粒子的塑性变形减弱,反弹趋势增强。研究结果表明,对冷喷涂TC4修复过程而言,基体的粗糙化不利于涂层与基体的结合。研究结果可为冷喷涂修复钛合金过程中基体预处理方式的选择提供理论指导。 展开更多
关键词 冷喷涂 基体表面粗糙度 TC4 数值模拟 结合
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基体表面粗糙度对HVOF粒子沉积行为的影响 被引量:1
9
作者 查柏林 贾旭东 +4 位作者 王金金 石易昂 苏庆东 曹晓恬 许可俊 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第7期233-242,共10页
目的研究超音速火焰喷涂时,45^(#)碳钢基体表面粗糙度对WC-12Co粒子在其表面的沉积变形行为的影响。方法基于Johnson-Cook塑性材料模型与Thermal Isotropy-Phase-Change热材料模型,采用LS-DYNA进行建模分析。结果不同45^(#)碳钢基体表... 目的研究超音速火焰喷涂时,45^(#)碳钢基体表面粗糙度对WC-12Co粒子在其表面的沉积变形行为的影响。方法基于Johnson-Cook塑性材料模型与Thermal Isotropy-Phase-Change热材料模型,采用LS-DYNA进行建模分析。结果不同45^(#)碳钢基体表面粗糙度下,WC-12Co粒子的沉积行为存在明显差异,波峰高度与波谷深度的差异造成粒子不同程度的不规则变形。当基体表面粗糙度Ra=10.26μm时,粒子沉积位置不同将引起粒子最终沉积形貌不同,但粒子的冲击均引起波峰偏移变形,且粒子不同程度地填充弥补波谷。粒子沉积过程中,粒子中下部与粒子先接触基体处的屈服应力、等效塑性应变与温升均高于粒子顶部以及粒子后接触基体处。Ra=0μm时,粒子等效塑性程度最大,等于2.03,此时粒子温度峰值最高为1562 K,粒子-基体结合界面局部区域屈服应力迅速下降为0,但基体变形程度较低,二者结合面积有限,粒子-基体结合强度较弱。Ra=5.34μm时,粒子的屈服应力在非理想平面状态下最为稳定,且等效塑性应变与温升幅度最大,分别为1.83以及1496 K。结论理想表面状态下,粒子屈服应力、等效塑性应变以及温度变化最佳,但粒子-基体结合面积较低,并不利于粒子沉积。非理想表面状态下,一定程度增加Ra,可促进粒子塑性变形,提升粒子温度,增大结合面积,降低粒子屈服应力,但粒子沉积形貌相比理想表面沉积形貌更加多样复杂。此外,过度增加Ra将引起波峰变形偏移,消耗大量粒子动能,粒子主要用于填充弥补波谷,等效塑性变形程度与温升幅度下降,屈服应力增加,不利于粒子沉积。 展开更多
关键词 超音速火焰喷涂 粒子沉积 45^(#)碳钢 基体表面粗糙度 等效塑性变形 屈服应力 粒子温度
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有限元探究表面曲率和基体厚度对等离子喷涂层残余应力影响
10
作者 章凯羽 张能奇 +2 位作者 邓永胜 梁亚楠 于校通 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2024年第6期753-761,共9页
为探究基体表面曲率和基体厚度对等离子喷涂涂层残余应力的影响,文章建立不同表面曲率和基体厚度的模型,应用有限元方法,在控制喷涂工艺参数不变的情况下,对不同模型进行TC4钛合金表面喷涂NiCrAl涂层的仿真。结果表明,基体表面曲率及基... 为探究基体表面曲率和基体厚度对等离子喷涂涂层残余应力的影响,文章建立不同表面曲率和基体厚度的模型,应用有限元方法,在控制喷涂工艺参数不变的情况下,对不同模型进行TC4钛合金表面喷涂NiCrAl涂层的仿真。结果表明,基体表面曲率及基体厚度均不会影响残余应力的整体分布规律,而对其大小有影响。涂层与基体结合面上残余应力分布呈边缘位置应力大,而中心位置上较小的规律。当基体表面曲率κ从0 mm^(-1)增加到1/9 mm^(-1)时,结合面边缘位置的残余应力值降低明显。在基体表面曲率相同的情况下,基体厚度增大可使结合面上残余应力极值明显降低。在文章的参数选择范围内,增大基体表面曲率、增加基体厚度均可减小结合面上的等效残余应力的极值,有助于提高涂层与基体的结合质量。 展开更多
关键词 等离子喷涂 残余应力 基体表面曲率 体厚度 钛合金 NICRAL涂层
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复合电沉积过程中的界面调控和界面结合研究进展 被引量:3
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作者 饶晗 耿楠 +3 位作者 高旭 张陈扬 刘慧丛 李卫平 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期55-63,共9页
复合电沉积是一种获得功能镀层的表面防护技术。概述了界面调控与界面结合对复合镀层性能的重要影响。分析了提高界面结合能力的主要机理与方法,即:通过基体表面改性,如增加基体表面粗糙度、提高反应活性、提供外延生长条件和形成预镀... 复合电沉积是一种获得功能镀层的表面防护技术。概述了界面调控与界面结合对复合镀层性能的重要影响。分析了提高界面结合能力的主要机理与方法,即:通过基体表面改性,如增加基体表面粗糙度、提高反应活性、提供外延生长条件和形成预镀层或转化膜层等,增强镀层与基体之间的机械结合、化学键合作用,进而提高镀层与基体间的界面结合力;通过颗粒改性,包括颗粒表面清洁、修饰与吸附等,以改变颗粒微观结构形态和荷电状态,利用静电机制、空间位阻机制和电胶束空间等理论来增强颗粒与颗粒间的分散能力、颗粒与金属离子间结合能力和颗粒所受电化学作用力等,从而提高颗粒与镀层之间的异质相界面结合能力。鉴于镍基复合电沉积的重要性以及颗粒改性对提高其界面结合的关键作用,综述了其颗粒改性工艺研究和影响,包括细化镍基复合镀层晶粒、改变颗粒表面接触状态、增加颗粒沉积量与其对镍基复合镀层性能的影响。最后对复合电沉积的界面调控和界面结合研究做了总结,指出现阶段还存在的问题,并展望了复合电沉积技术在界面调控和界面结合方面的研究发展方向。 展开更多
关键词 复合电沉积 结合 调控 基体表面改性 颗粒表改性 复合电沉积
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基于工艺控制与基体处理的类金刚石涂层性能优化技术研究综述 被引量:3
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作者 肖奕楼 颜培 +5 位作者 陈豪 焦黎 仇天阳 王西彬 张宝荣 赵志勇 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2021年第10期147-154,共8页
类金刚石涂层(DLC)因其高硬度、高耐磨性、低摩擦因数等特性被广泛用作机械零部件润滑防护涂层,但传统的DLC涂层在高速、重载及高温等苛刻工况下易发生摩擦因数升高、开裂及鼓包/起皮并从基材脱落进而导致涂层润滑防护失效。基于工艺控... 类金刚石涂层(DLC)因其高硬度、高耐磨性、低摩擦因数等特性被广泛用作机械零部件润滑防护涂层,但传统的DLC涂层在高速、重载及高温等苛刻工况下易发生摩擦因数升高、开裂及鼓包/起皮并从基材脱落进而导致涂层润滑防护失效。基于工艺控制及基体处理2个方面,从涂层的沉积工艺、元素掺杂、过渡层的添加及渗氮渗碳、改变粗糙度、加工表面微织构等手段对提升DLC涂层服役性能的优化措施进行综述;针对提高DLC涂层服役性能的措施进行理论分析,并提出未来的研究方向,如建立规范统一的高性能DLC涂层的制备工艺及性能表征方法,进一步探讨不同基体粗糙度对涂层机械啮合力的影响,以及微织构的尺寸效应及对DLC涂层的热应力缓释作用。 展开更多
关键词 类金刚石涂层 沉积工艺 基体表面状态 涂层服役性能
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表面张力与表面处理技术 被引量:1
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《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2011年第1期5-5,共1页
当采用电镀、化学镀或表面转化工艺等对各种零部件或材料表面进行镀(涂)覆时,必须进行必要的前处理,其中很重要的一道工序就是除油,检验除油彻底与否的方法是观察所处理的表面能否被水润湿。因为镀(涂)覆都是在基体与溶液界面问... 当采用电镀、化学镀或表面转化工艺等对各种零部件或材料表面进行镀(涂)覆时,必须进行必要的前处理,其中很重要的一道工序就是除油,检验除油彻底与否的方法是观察所处理的表面能否被水润湿。因为镀(涂)覆都是在基体与溶液界面问进行的,只有基体表面与溶液充分接触,反应才能正常进行。另外,为了防止或减少镀层产生针孔,经常在电解液中加入一定量的表面活性剂等,这些措施都是为了降低液相(包括电解液和其它溶液)与固相(欲镀覆的基体)间的表面张力。 展开更多
关键词 处理技术 张力 溶液界 基体表面 活性剂 材料表 转化工艺 一道工序
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激光熔覆原位析出Ni-Fe-Ti-B复合涂层组织结构研究 被引量:2
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作者 张维平 刘硕 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期351-356,共6页
选用合适的激光工艺参数及涂层成分,在45#钢基体表面得到了激光熔覆原位析出的Ni-Fe-Ti-B复合材料涂层.涂层中的粘结金属基体为γ-(Ni,Fe)和Nihcp,原位弥散析出相为呈现出颗粒状、细条状等分布的稳定相TiB2、Ni4B3及亚稳定相Ni2B、(Fe,N... 选用合适的激光工艺参数及涂层成分,在45#钢基体表面得到了激光熔覆原位析出的Ni-Fe-Ti-B复合材料涂层.涂层中的粘结金属基体为γ-(Ni,Fe)和Nihcp,原位弥散析出相为呈现出颗粒状、细条状等分布的稳定相TiB2、Ni4B3及亚稳定相Ni2B、(Fe,Ni)3B型化合物.前两者已经细化成为纳米晶,而后两者晶粒度相对较粗.γ-(Ni,Fe)是稳定的Ni、Fe固溶体,而Nihcp形成于基体金属内部的堆垛层错作用;原位析出相产生于激光熔覆过程中涂层表面发生的原位燃烧反应或合金系快速凝固过程中的低熔点共晶作用.在基体与析出相的界面上存在高密度位错堆积,从而引起基体金属亚结构细化. 展开更多
关键词 激光熔覆 原位析出 结构研究 涂层组织 复合材料涂层 体金属 45^#钢 低熔点共晶 析出相 工艺参数 金属 基体表面 TiB2 Ni2B 堆垛层错 凝固过程 燃烧反应 涂层表 稳定相 颗粒状 纳米晶 化合物 晶粒度 固溶体 高密度
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铬酸还原过程的阴极钝化膜性质研究
15
作者 江琳才 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS 1986年第2期174-176,共3页
铬酸还原为铬的阴极过程中,基体表面会生成固相膜,从而出现阴极钝化现象。我们在研究铬酸镀浓的电化学行为时,曾证实这种现象,本文报导的是对该钝化膜性质的研究结果。
关键词 钝化膜 阴极过程 铬酸 阴极钝化 电化学行为 还原过程 固相膜 基体表面
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接头件展开的快速实现
16
作者 李玉龙 《电加工与模具》 2005年第3期62-63,共2页
关键词 接头件 快速实现 展开图 现实生活 基体表面 产品 相贯线 计算法 图解法 加工
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含氢硅油制备SiC晶须的研究 被引量:2
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作者 王瑶 陈旸 +2 位作者 乔宁 李欣 张文婷 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期59-64,共6页
以高含氢硅油为原料,在石墨基体上生长出SiC晶须。主要研究石墨基体的表面状态和加热温度对SiC晶须生长的影响,探究SiC晶须形成过程。影响SiC晶须形核和生长的主要因素为热处理温度,随着热处理温度的升高,SiC晶须的结晶产量也相应增高... 以高含氢硅油为原料,在石墨基体上生长出SiC晶须。主要研究石墨基体的表面状态和加热温度对SiC晶须生长的影响,探究SiC晶须形成过程。影响SiC晶须形核和生长的主要因素为热处理温度,随着热处理温度的升高,SiC晶须的结晶产量也相应增高。石墨基体的表面状态对SiC晶须的形成也有一定的影响,随着石墨基体缺陷提供形核点的增多,SiC晶须的结晶产量提高,并且出现相互搭接的现象。SiC晶须的形成过程分为形核和生长两个部分,低温形核,高温生长,遵循VLS(气-液-固)生长机理。 展开更多
关键词 SIC晶须 热处理温度 基体表面状态 生长机理
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专利实例 
18
作者 覃奇贤 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2010年第3期44-46,共3页
关键词 实例 专利 金属薄膜 化学镀 基体表面 相互作用 亲水化 官能团
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一种用于制造光学玻璃产品的模具及其制造方法
19
作者 《表面技术》 EI CAS CSCD 2007年第3期6-6,共1页
本发明揭示一种用于制造光学玻璃产品的模具及其制造方法,此模具包括:模具基体及附着在模具基体表面的膜层,此膜层厚度为10—50nm,其材料为(ZrO2);(Y2O3),(Al2O3)z,其中x=0.77—0.92,y=0.05—0.15,z=0.03—0.08。... 本发明揭示一种用于制造光学玻璃产品的模具及其制造方法,此模具包括:模具基体及附着在模具基体表面的膜层,此膜层厚度为10—50nm,其材料为(ZrO2);(Y2O3),(Al2O3)z,其中x=0.77—0.92,y=0.05—0.15,z=0.03—0.08。本发明还提供一种制造上述模具的方法,其包括以下步骤:提供一模具基体;以0.33—0.83nm/s的沉积速率,沉积(ZrO2),(Y2O3)y(Al2O3):材料在上述模具基体的表面,经12—150s,使得厚度为10-50nm的膜层形成在模具基体表面。本发明的模具在模压时,不会因氧化而使得其表面变粗糙。 展开更多
关键词 制造方法 玻璃产品 模具 光学 种用 基体表面 膜层厚度 沉积速率
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NiAl金属间化合物镀层的制备
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作者 覃奇贤 《电镀与精饰》 CAS 2008年第3期12-12,共1页
关键词 金属间化合物 NIAL 制备 镀层 基体表面 陶瓷涂层 喷气发动机 零部件
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