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双路绝缘栅型场效应管亚微秒级电火花脉冲电源 被引量:4
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作者 裴景玉 郭常宁 +1 位作者 邓琦林 胡德金 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第7期1138-1142,共5页
以绝缘栅型场效应管 ( MOSFET)作为开关元件的独立式单路控制微能脉冲电源设计存在着缺陷 ,不利于稳定加工 .通过对实验中采集到的波形分析 ,找出了缺陷产生的原因 ,在此基础上 ,设计了双路控制的 MOSFET开关电路 ,并根据 MOSFET的开关... 以绝缘栅型场效应管 ( MOSFET)作为开关元件的独立式单路控制微能脉冲电源设计存在着缺陷 ,不利于稳定加工 .通过对实验中采集到的波形分析 ,找出了缺陷产生的原因 ,在此基础上 ,设计了双路控制的 MOSFET开关电路 ,并根据 MOSFET的开关特性 ,采用合理电路参数 ,计算出理论波形 .通过对比实验 ,不仅验证了实际波形与理论波形吻合 ,而且改进后的电源可以将波形有效压缩至亚微秒级 ,加工表面放电痕的形貌得到了极大改善 ,提高了加工的尺寸精度和表面精度 。 展开更多
关键词 绝缘栅场效应 放电加工 脉冲电源
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3000V 10A 4H-SiC结型场效应晶体管的设计与制造 被引量:6
2
作者 刘涛 陈刚 +6 位作者 黄润华 柏松 陶永洪 汪玲 刘奥 李赟 赵志飞 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期187-190,共4页
介绍了一种常开型高压4H-SiC JFET的仿真与制造工艺。通过仿真对器件结构和加工工艺进行优化,指导下一步的工艺改进。在N+型4H-SiC衬底上生长掺杂浓度(ND)为1.0×1015 cm-3,厚度为50μm的N-外延层,并采用本实验室开发的SiC JFET工... 介绍了一种常开型高压4H-SiC JFET的仿真与制造工艺。通过仿真对器件结构和加工工艺进行优化,指导下一步的工艺改进。在N+型4H-SiC衬底上生长掺杂浓度(ND)为1.0×1015 cm-3,厚度为50μm的N-外延层,并采用本实验室开发的SiC JFET工艺进行了器件工艺加工。通过测试,当栅极偏压VG=-6V时,研制的SiC JFET可以阻断3 000V电压;当栅极偏压VG=7V、漏极电压VD=3V时,正向漏极电流大于10A,对应的电流密度为100A/cm2。 展开更多
关键词 4HSiC 垂直沟道结场效应晶体管 沟槽刻蚀
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Trench型N-Channel MOSFET低剂量率效应研究
3
作者 徐海铭 唐新宇 +4 位作者 徐政 廖远宝 张庆东 谢儒彬 洪根深 《微电子学与计算机》 2024年第5期134-139,共6页
基于抗辐射100V Trench型N-Channel MOSFET开展了不同剂量率的总剂量辐射实验并进行了分析,创新性提出了器件随低剂量率累积以及不同偏置状态下的变化趋势和机理,给出了器件实验前后的转移曲线和直流参数,进行了二维数值仿真比较,证明... 基于抗辐射100V Trench型N-Channel MOSFET开展了不同剂量率的总剂量辐射实验并进行了分析,创新性提出了器件随低剂量率累积以及不同偏置状态下的变化趋势和机理,给出了器件实验前后的转移曲线和直流参数,进行了二维数值仿真比较,证明了实验和仿真的一致性。研究表明:随高剂量率的剂量增加,器件阈值电压(V_(TH))发生了明显负向漂移现象,导通电阻(R_(DSON))出现5%左右的降低,击穿电压(BV_(DS))保持基本不变;低剂量率下总剂量效应与高剂量率有明显不同,阈值电压漂移量减小,同时出现正向漂移现象;此时导通电阻(R_(DSON))和击穿电压(BV_(DS))较高剂量率变化量进一步下降。研究认为,低剂量率下器件界面缺陷电荷增加变多,使得阈值电压的漂移方向发生改变,同时低剂量率实验周期是高剂量率的500倍,退火效应也较高剂量率的明显,导致器件参数辐射前后差异性减小。 展开更多
关键词 场效应 总剂量电离效应 阈值漂移 低剂量率
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基于功率MOS型场效应管的4kV纳秒脉冲源 被引量:5
4
作者 陈静 陈敏德 《信息与电子工程》 2008年第3期230-232,共3页
为了用固体开关器件替代国外氢闸流管,开展了大功率高速高压半导体固体开关及与其相配的高速高压组合电路研究。利用功率MOS型场效应管的开关原理,提出了对功率MOS型场效应管的栅极"过"驱动技术,提高了功率MOS型场效应管的开... 为了用固体开关器件替代国外氢闸流管,开展了大功率高速高压半导体固体开关及与其相配的高速高压组合电路研究。利用功率MOS型场效应管的开关原理,提出了对功率MOS型场效应管的栅极"过"驱动技术,提高了功率MOS型场效应管的开关速度,研制出基于功率MOS型场效应管的输出脉冲幅度大于4 kV,前沿小于10 ns,脉冲宽度大于100 ns的高压快脉冲驱动源。 展开更多
关键词 “过”驱动 功率MOS场效应 纳秒 高压 宽脉冲
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C3场效应管型超声波清洗机研制中的若干问题
5
作者 田修波 杨士勤 +1 位作者 董震 王小峰 《声学技术》 CSCD 1996年第4期187-188,共2页
C3场效应管型超声波清洗机研制中的若干问题田修波杨士勤董震王小峰(哈尔滨工业大学现代焊接国家重点实验室哈尔滨·150001)1引言在各种化学的、物理的以及机械的清洗方法中,超声波清洗是最理想、最有效的一种,尤其对... C3场效应管型超声波清洗机研制中的若干问题田修波杨士勤董震王小峰(哈尔滨工业大学现代焊接国家重点实验室哈尔滨·150001)1引言在各种化学的、物理的以及机械的清洗方法中,超声波清洗是最理想、最有效的一种,尤其对于深孔、盲孔、狭缝中的污物,以及形状复... 展开更多
关键词 场效应 清洗机 超声波清洗机
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液栅型石墨烯场效应管的缓冲液浓度和pH响应特性
6
作者 杜晓薇 成霁 +2 位作者 郭慧 金庆辉 赵建龙 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期167-171,共5页
本文使用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)石墨烯制作了高灵敏度、低噪声的液栅型石墨烯场效应管(Solution-Gated Graphene Field Effect Transistors,SGFETs),并测试了该器件对磷酸盐缓冲液(Phosphate Buffered Saline,PBS... 本文使用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)石墨烯制作了高灵敏度、低噪声的液栅型石墨烯场效应管(Solution-Gated Graphene Field Effect Transistors,SGFETs),并测试了该器件对磷酸盐缓冲液(Phosphate Buffered Saline,PBS)浓度和p H的响应特性.随缓冲液浓度的增大,SGFETs转移特性曲线的最小电导点向左偏移,偏移量与溶液浓度的自然对数呈线性关系.随p H的增大,其最小电导点向右偏移,偏移量与溶液p H呈线性关系.该响应特性对石墨烯生化传感器排除外界影响因素有一定的指导作用. 展开更多
关键词 化学气相沉积石墨烯 液栅石墨烯场效应 缓冲液浓度和pH
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25nm鱼鳍型场效应晶体管中单粒子瞬态的工艺参数相关性 被引量:3
7
作者 李达维 秦军瑞 陈书明 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期127-131,共5页
基于TCAD(Technology Computer-Aided Design)3-D模拟,研究了25 nm鱼鳍型场效应晶体管(Fin Field Effect Transistor,FinFET)中单粒子瞬态效应的工艺参数相关性。研究表明一些重要工艺参数的起伏会对电荷收集产生显著影响,从而影响到电... 基于TCAD(Technology Computer-Aided Design)3-D模拟,研究了25 nm鱼鳍型场效应晶体管(Fin Field Effect Transistor,FinFET)中单粒子瞬态效应的工艺参数相关性。研究表明一些重要工艺参数的起伏会对电荷收集产生显著影响,从而影响到电路中传播的SET(Single Event Transient)脉冲宽度。对于最佳工艺拐角,离子轰击后收集的电荷量可以降低约38%,而在最坏工艺拐角下,收集的电荷量则会增加79%。这些结论对FinFET工艺下的SET减缓及抗辐射加固设计提供了一种新的思路。 展开更多
关键词 鱼鳍场效应晶体管 单粒子效应 工艺参数相关性 电荷收集
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一种新型超级联碳化硅结型场效应管
8
作者 修强 董耀文 +2 位作者 彭子和 秦海鸿 游霞 《电子器件》 CAS 北大核心 2018年第5期1105-1109,共5页
提出了一种改进型超级联碳化硅结型场效应管。首先从传统超级联碳化硅结型场效应管入手,分析了其缺陷和不足之处。然后阐述了改进型超级联碳化硅结型场效应管的内部结构和工作原理,给出了元器件选择的依据与方法。对改进型超级联碳化硅... 提出了一种改进型超级联碳化硅结型场效应管。首先从传统超级联碳化硅结型场效应管入手,分析了其缺陷和不足之处。然后阐述了改进型超级联碳化硅结型场效应管的内部结构和工作原理,给出了元器件选择的依据与方法。对改进型超级联碳化硅结型场效应管的导通和开关特性进行了测试,实验测试得出改进型超级联碳化硅结型场效应管的阻断电压超过4 500 V,25℃时开关时间小于80 ns,开关损耗约为15 m J,具有良好的开关特性。 展开更多
关键词 半导体器件 碳化硅结场效应 高耐压 低损耗
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夹断电压可调的高压结型场效应管
9
作者 聂卫东 朱光荣 +1 位作者 易法友 于宗光 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期75-80,共6页
基于Double RESURF 700VBCD工艺平台,提出了一种夹断电压可调的高压结性场效应管(J-FET)。这种J-FET的夹断是通过栅源反偏引起的N阱(N-well)表面耗尽和衬源反偏引起的底部耗尽共同作用结果,故夹断电压可受J-FET的栅电位调制。同时通过... 基于Double RESURF 700VBCD工艺平台,提出了一种夹断电压可调的高压结性场效应管(J-FET)。这种J-FET的夹断是通过栅源反偏引起的N阱(N-well)表面耗尽和衬源反偏引起的底部耗尽共同作用结果,故夹断电压可受J-FET的栅电位调制。同时通过改变高压J-FET的P型埋层(P-buried)掩膜窗口的大小和间距,来改变P-buried和N-well的杂质浓度分布,达到改变J-FET夹断电压的目的。在不增加工艺步骤和改变原有工艺条件的情况下,通过实验得到击穿电压大于700V,夹断电压在8V和17V之间可自由调整的高压J-FET器件。该器件可以作为启动器件和供电模块的线性调整器件使用。由于其夹断电压受P-buried注入版图尺寸的影响,同时受栅电位调制,所以可以满足线路设计者的不同要求。 展开更多
关键词 高压结场效应 夹断电压可调 P埋层变掺杂 双重降低表面电场
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一种互补结型场效应管负阻器件
10
作者 舒小华 《现代电子技术》 2003年第11期11-13,共3页
介绍了一种利用集成互补结型场效应管的简单复合而构成的负阻器件 ,并且对该负阻器件的温度特性进行了分析 。
关键词 负阻器件 温度稳定性 互补结场效应 JFET 特性分析
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结型场效应晶体管低频噪声测试方法研究
11
作者 崔莹 包军林 《信息技术与标准化》 2009年第10期27-30,共4页
在深入研究JFET低频噪声特性及产生机理的基础上,提出了一种通过测试宽频带功率谱密度得到其规定频率处等效输入噪声电压功率谱密度和噪声系数的测试方法,并给出了低频噪声测试的偏置电路、测试设备和测试方法。结合3DJ4和3DJ6型JFET器... 在深入研究JFET低频噪声特性及产生机理的基础上,提出了一种通过测试宽频带功率谱密度得到其规定频率处等效输入噪声电压功率谱密度和噪声系数的测试方法,并给出了低频噪声测试的偏置电路、测试设备和测试方法。结合3DJ4和3DJ6型JFET器件的测试结果表明,采用本文提出的方法可适用于JFET的低频噪声的测试。 展开更多
关键词 场效应晶体管 低频噪声 等效输入噪声电压 噪声系数
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结型场效应晶体管的主要参数的探讨 被引量:3
12
作者 王克亮 闫萍 郭晓丽 《山东电子》 2002年第2期40-41,共2页
本文讨论了结型场效应晶体管的几个主要参数 。
关键词 场效应晶体管 夹断电压 饱和电流 沟道电阻 击穿电压 跨导 频率
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GeSn/Ge异质无结型隧穿场效应晶体管
13
作者 王素元 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第5期364-370,共7页
提出了一种新型GeSn/Ge异质无结型隧穿场效应晶体管(GeSn/Ge-hetero JLTFET)。该器件结合了直接窄带隙材料GeSn与传统JLTFET的优点,利用功函数工程诱导器件本征层感应出空穴(p型)或电子(n型),在无需掺杂的前提下,形成器件的源区、沟道... 提出了一种新型GeSn/Ge异质无结型隧穿场效应晶体管(GeSn/Ge-hetero JLTFET)。该器件结合了直接窄带隙材料GeSn与传统JLTFET的优点,利用功函数工程诱导器件本征层感应出空穴(p型)或电子(n型),在无需掺杂的前提下,形成器件的源区、沟道区和漏区,从而避免了使用复杂的离子注入工艺和引入随机掺杂波动。该器件减小了隧穿路径宽度,提高了开态电流,获得了更陡峭的亚阈值摆幅。仿真结果表明GeSn/Ge-hetero JLTFET的开态电流为7.08×10^-6 A/μm,关态电流为3.62×10^-14 A/μm,亚阈值摆幅为37.77 mV/dec。同时,GeSn/Ge-hetero JLTFET的相关参数(跨导、跨导生成因子、截止频率和增益带宽积)的性能也优于传统器件。 展开更多
关键词 无结隧穿场效应晶体管(JLTFET) GeSn Ge 带带隧穿(BTBT) 亚阈值摆幅
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结型场效应晶体管的主要参数的探讨
14
作者 单满春 《黑龙江科技信息》 2004年第9期26-26,共1页
本文讨论了结型场效应晶体管的几个主要参数,找出影响它们的主要因素。
关键词 场效应晶体管 技术参数 夹断电压 饱和电流 沟道电阻 击穿电压 跨导 频率
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1200V常开型4H-SiC VJFET 被引量:3
15
作者 倪炜江 李宇柱 +5 位作者 李哲洋 李赟 管邦虎 陈征 柏松 陈辰 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期103-106,共4页
用沟槽和离子注入方法在自主外延的4H导通型碳化硅晶圆上研制了垂直沟道结型场效应晶体管(VJFET)。在栅电压VG=-10 V时阻断电压达到1 200 V;在VG=2.5 V,VD=2V时的电流密度为395 A/cm2,相应的比导通电阻为5.06 mΩ·cm2。分析发现欧... 用沟槽和离子注入方法在自主外延的4H导通型碳化硅晶圆上研制了垂直沟道结型场效应晶体管(VJFET)。在栅电压VG=-10 V时阻断电压达到1 200 V;在VG=2.5 V,VD=2V时的电流密度为395 A/cm2,相应的比导通电阻为5.06 mΩ·cm2。分析发现欧姆接触电阻是导通电阻的重要组成部分,改善欧姆接触可以进一步降低导通电阻。 展开更多
关键词 4H碳化硅 常开 垂直沟道结场效应晶体管 比导通电阻
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一种新型P沟道VDMOS复合耐压终端 被引量:2
16
作者 蒲石 杜林 张得玺 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期70-74,共5页
针对终端结构耐压的提高,研究了高压P沟道垂直导电双扩散型场效应晶体管的场限环和场板复合耐压终端结构,提出了一种采用单N+偏移区场限环和多级场板复合的耐压终端结构.仿真发现,该结构能更有效地改善器件主结的边缘电场分布,从而提高... 针对终端结构耐压的提高,研究了高压P沟道垂直导电双扩散型场效应晶体管的场限环和场板复合耐压终端结构,提出了一种采用单N+偏移区场限环和多级场板复合的耐压终端结构.仿真发现,该结构能更有效地改善器件主结的边缘电场分布,从而提高了器件的整体击穿电压.根据以上理论,将该结构运用在一款大功率P沟道垂直导电双扩散型场效应晶体管器件上.经流片测试结果表明,该P沟道垂直导电双扩散型场效应晶体管器件样品的击穿电压为-90V,与仿真结果中主结击穿电压达到-91V有很好的吻合,证明了该结构设计的正确性. 展开更多
关键词 P沟道垂直导电双扩散场效应晶体管 终端结构 场限环 N+偏移区 多级场板
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一款具有过温指示功能的高速功率运算放大器
17
作者 冯仕豪 余德水 +1 位作者 马奎 杨发顺 《半导体技术》 北大核心 2025年第3期273-281,312,共10页
基于80 V双极型集成电路工艺,设计了一种具有过温指示功能的高速功率运算放大器。该设计采用源极驱动-共基放大的输入级电路结构,选用p沟道结型场效应晶体管(JFET)作为输入管,实现了低输入偏置电流和高转换速率。为防止输出功率晶体管... 基于80 V双极型集成电路工艺,设计了一种具有过温指示功能的高速功率运算放大器。该设计采用源极驱动-共基放大的输入级电路结构,选用p沟道结型场效应晶体管(JFET)作为输入管,实现了低输入偏置电流和高转换速率。为防止输出功率晶体管因过热而损坏,设计了过温指示及热关断模块,在139~164℃的温度区间内具有迟滞型热关断与过温指示功能。芯片测试结果显示,该电路的输入偏置电流为16.804 pA,输入失调电流为2.49 pA,开环电压增益为128.2 dB,转换速率为19.57 V/μs,增益带宽积为3.5 MHz。 展开更多
关键词 场效应晶体管(JFET)输入 功率运放 高转换速率 低失调 过温保护
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氧化槽隔离型RC-IGBT的设计与仿真 被引量:1
18
作者 马丽 李伟 +3 位作者 李佳豪 谢加强 康源 王馨梅 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第3期195-200,共6页
提出了一种新型的RC-IGBT器件,相比于常规RC-IGBT,新型的RC-IGBT在集电极侧引入了一个类似于栅极的多晶硅沟槽结构,不同之处是沟槽底部结构没有氧化层将多晶硅与硅体区相隔离,于是可将此重掺杂的多晶硅区作为新型的RC-IGBT的集电极的N+... 提出了一种新型的RC-IGBT器件,相比于常规RC-IGBT,新型的RC-IGBT在集电极侧引入了一个类似于栅极的多晶硅沟槽结构,不同之处是沟槽底部结构没有氧化层将多晶硅与硅体区相隔离,于是可将此重掺杂的多晶硅区作为新型的RC-IGBT的集电极的N+短路区,故称为TO-RC-IGBT(Trench oxide reverse conducting IGBT)。由于集电极P+阳极层与N+短路区之间的氧化层隔离,TO-RC-IGBT并未出现常规RC-IGBT导通时的回跳现象。为了避免产生回跳现象,常规RC-IGBT的元胞宽度通常达数百微米,而TO-RC-IGBT元胞宽度只有20μm,因而TO-RC-IGBT不会出现常规RC-IGBT的反向电流分布不均匀的问题。 展开更多
关键词 逆导绝缘栅双极场效应晶体管 回跳现象 器件仿真
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FinFET静电可靠性及新型Fix-base SOI FinFET研究
19
作者 姜一波 王晓磊 +4 位作者 徐曙 顾刘强 韩宇峰 魏义 李辉 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第4期271-274,共4页
在鳍型场效应晶体管(SOI FinFET)相关静电防护技术研究基础上,提出了一种新型的体区接触固定型绝缘体上硅鳍型场效应晶体管泄放钳位装置(Fix-base SOI FinFET Clamp)。该新型结构的器件解决了基区接触浮空在静电防护设计时引起的一系列... 在鳍型场效应晶体管(SOI FinFET)相关静电防护技术研究基础上,提出了一种新型的体区接触固定型绝缘体上硅鳍型场效应晶体管泄放钳位装置(Fix-base SOI FinFET Clamp)。该新型结构的器件解决了基区接触浮空在静电防护设计时引起的一系列问题,而且对正常的FinFET工艺具有良好的兼容性。通过计算机辅助工艺设计(TCAD)仿真论证了Fix-base SOI FinFET Clamp具有明显效果,详细阐述和讨论了SOI FinFET和Fix-base SOI FinFET Clamp工作状态下的电流和热分布。 展开更多
关键词 静电可靠性 绝缘体上硅 场效应晶体管 体区固定绝缘体上硅鳍场效应晶体管泄放钳位装
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一种高压精密低输入偏置电流JFET型放大器 被引量:1
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作者 张键 胡辉勇 +1 位作者 周远杰 何峥嵘 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2023年第6期527-532,共6页
基于40 V高压互补双极性结型晶体管(BJT)兼容结型场效应晶体管(JFET)工艺,设计了一种高压精密低输入偏置电流JFET型放大器,介绍了放大器总体架构以及工作原理。电路内部采用JFET输入器件降低输入偏置电流,提高带宽,用修调电阻降低输入... 基于40 V高压互补双极性结型晶体管(BJT)兼容结型场效应晶体管(JFET)工艺,设计了一种高压精密低输入偏置电流JFET型放大器,介绍了放大器总体架构以及工作原理。电路内部采用JFET输入器件降低输入偏置电流,提高带宽,用修调电阻降低输入失调电压;采用四核跨导结构优化中间级提高运放的压摆率;输出级采用互补推挽输出结构防止交越失真,同时提高功率驱动能力;偏置电路利用JFET作恒流源,保证在不同工作电压下稳定供电。芯片流片测试结果表明,该放大器在±5~±13 V工作电压条件下,输入失调电压≤80μV;输入偏置电流≤1.5 pA;开环增益≥107 dB;增益带宽积≥25 MHz;压摆率≥50 V/μs。 展开更多
关键词 低失调电压 低输入偏置电流 高精度 场效应管输入放大器
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