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Te团簇膜及其退火效应: 1; 作者陈平平洪建明 +5 位作者季亚林缪炳有俞圣雯李天信韩民王广厚《电子显微学报》 CAS CSCD 1998年第5期501-502,共2页; 新发展起来的低能团簇束流淀积技术（ＬＥＣＢＤ）由于其尺寸可控，以及分布均一而引起人们的关注。利用该技术已制备了高质量的Ｓｂ，Ｂｉ薄膜，并发现了许多新奇的现象［１］。Ｔｅ及其合金膜已在记忆开关元件等光电器件中得到大量的... 展开更多; 关键词薄膜退火效应碲团簇束流淀积团簇膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

Ni_xCu_(1-x)复合团簇镶嵌薄膜的微结构和磁特性被引量：1: 2; 作者宋学萍金震孙兆奇《安徽大学学报（自然科学版）》 CAS 2004年第2期34-39,共6页; 用直流磁控溅射的方法在室温Si基片上制备体积百分比分别为5%,10%,20%,40%的系列Ni Cu磁性复合团簇镶嵌薄膜样品,并利用X射线衍射技术、振动样品磁强计等方法对团簇的微结构和磁性能进行了测试研究。微结构分析表明:薄膜呈多晶状态,晶... 展开更多; 关键词 Ni-Cu镶嵌团簇膜微结构磁性直流磁控溅射铁磁材料; 在线阅读下载PDF 职称材料

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