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题名WSP—1型摄谱仪的同步加流控制
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作者
邱晓露
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机构
赣州有色金属冶炼厂
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出处
《江西有色金属》
1992年第4期265-265,261,共2页
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文摘
本文根据赣州在色冶炼厂光谱仪摄谱条件的需要,针对WSP—1型平面光栅光谱仪光源,即天津WPF系列电弧发生器及控制部分,进行局部改进,使光源自动控制功能得到加强。进行光谱分析,须有与摄谱仪配合的光源,WSP—1型平面光栅摄谱仪是目前国内使用较多的一种,它的配合光源采用WPF系列电弧发生器(以下简称发生器)。发生器电流调节装置对一般分析条件均可满足,具有适应性大的特点。但对于要求不断电弧实现电流较大的跳变,以及电流变化与摄谱仪程序的同步控铷方面,原控制系统不作改进,则不能实现。
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关键词
摄谱仪
同步加流控制
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分类号
TH744.13
[机械工程—光学工程]
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