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题名反应离子束刻蚀母盘研究
被引量：1
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作者
邹志强
陈国明
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机构
中国科学院上海冶金研究所
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出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1999年第A10期126-129,共4页
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文摘
对反应离子束刻蚀母盘和玻璃衬底光盘的工艺进行了探讨，在该工艺中，光刻胶用于图形掩膜，ＣＦ４气体用于反应离子束刻蚀并将预刻槽转移到玻璃衬底上，预刻槽的形状和深度由刻蚀机的设置条件控制。ＳＥＭ照片表明，刻蚀在玻璃衬底上的预刻槽的道间距为１．６μｍ，槽深０．１μｍ，槽宽０．６μｍ，符合光盘预刻槽的基本标准，说明该工艺是微细加工母盘凹坑和预刻槽的较好办法。
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关键词
反应离子束刻蚀
母盘
预刻槽
光盘
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分类号
TP333.4
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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题名微透镜阵列的飞秒激光加工方法
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作者
刘伟
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机构
陕西国防工业职业技术学院
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出处
《精密成形工程》
2016年第2期90-93,共4页
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基金
陕西国防工业职业技术学院科研项目(Gfy15-09)
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文摘
为研究常用的微透镜制造方法,通过熔融光刻胶法、反应离子束刻蚀技术、微喷打印法、飞秒激光加工法、热压印法等的对比,表明采用飞秒激光加工以及局部腐蚀的方法,能够加工各种形状的微透镜阵列,而且加工时间短,制造成本低,微透镜最小特征尺寸可以达到30μm以内。将飞秒激光加工的微透镜阵列作为模板,运用热压印技术进行复制,不仅能够获得质量良好的微透镜阵列,还能够批量化生产,减小制造成本。
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关键词
熔融光刻胶法
反应离子束刻蚀技术
微喷打印法
飞秒激光加工法
热压印法
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Keywords
melting photoresist
reactive ion etching technology
micro spray print method
femtosecond laser processing method
hot pressing method
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分类号
TG665
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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题名啁啾光纤光栅相位掩模槽形控制新方法研究
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作者
杨卫鹏
刘全
吴建宏
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机构
苏州大学信息光学工程研究所
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出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期51-52,共2页
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文摘
在啁啾光纤光栅相位掩模的制作中,针对光刻胶光栅槽形要求比较高的问题,提出离子束刻蚀和反应离子束刻蚀相结合的方法,来实现对相位掩模槽形占宽比的控制。运用高级线段运动算法模拟分析刻蚀中的图形演化,用Ar离子束刻蚀对光刻胶光栅掩模形貌进行修正,然后采用CHF3反应离子束刻蚀,实验和模拟均表明,Ar离子束刻蚀能很好的改善掩模与基片交界处的基片侧壁形貌,使得在CHF3反应离子束刻蚀下能得到较小的占宽比。对槽形控制提供了有意义的实验手段。
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关键词
离子束刻蚀
反应离子束刻蚀
槽形模拟
占宽比
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Keywords
ion beam etching
reactive ion beam etching
profile simulation duty cycle
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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