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微米级金属箔电导率无损测试
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作者 杨蕴帆 姚松松 +1 位作者 刘悦 范同祥 《有色金属工程》 CAS 北大核心 2023年第9期1-11,共11页
高导电性薄金属箔电导率难以准确测定一直是该研究领域的痛点问题。研究了金属箔厚度对超薄金属箔-空气界面电场反射、金属箔表面阻抗、涡流线圈阻抗的影响,进而提出了一种适用于厚度小于100μm金属箔的电导率无损测试新方法。新方法利... 高导电性薄金属箔电导率难以准确测定一直是该研究领域的痛点问题。研究了金属箔厚度对超薄金属箔-空气界面电场反射、金属箔表面阻抗、涡流线圈阻抗的影响,进而提出了一种适用于厚度小于100μm金属箔的电导率无损测试新方法。新方法利用两片厚度不同的同种金属箔定义了“厚度系数”,从而规避了界面处电场反射对测试的影响。结果表明:新方法可应用到银、铜、铜铬锆箔等电导率处于80%~110%IACS范围内的箔类材料,测试偏差可控制在约3%以内,且可以通过厚度设计缩小误差至小于2%IACS,远小于叠层结构法误差(约20%)。该研究将有助于完善科学研究和工业领域所需要的高导电超薄金属箔测试标准。 展开更多
关键词 电导率 涡流法 反射电场 金属-空气界面 表面阻抗
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Zn_(0.95-x)Be_(0.05)Mn_xSe稀磁半导体的光谱特性分析
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作者 付奎 娄本浊 +2 位作者 孙彦清 龙姝明 黄朝军 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期135-139,共5页
为了研究稀磁半导体Zn0.95-xBe0.05MnxSe(x分别为0.05,0.10,0.15,0.20)随温度变化的光学特性,采用电场调制反射光谱、表面光电压光谱及光激发荧光光谱等测量技术,进行了理论分析与实验验证,取得了一系列数据。结果表明,除x=0.1的样品外... 为了研究稀磁半导体Zn0.95-xBe0.05MnxSe(x分别为0.05,0.10,0.15,0.20)随温度变化的光学特性,采用电场调制反射光谱、表面光电压光谱及光激发荧光光谱等测量技术,进行了理论分析与实验验证,取得了一系列数据。结果表明,除x=0.1的样品外,其它样品的能隙会随Mn掺杂摩尔分数的增加而增大,这是由价带和导电中的电子和Mn中的d层电子彼此交换的相互作用产生的微小位移所致;温度升高时跃迁信号会向低能量方向移动,则是晶格-声子散射效应增加所致。 展开更多
关键词 光谱学 光学特性 电场调制反射光谱 表面光电压光谱 激发荧光光谱 稀磁半导体 硒化锌铍锰 温度
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