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题名数字灰度光刻成像物镜设计
被引量：1
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作者
陈铭勇
杜惊雷
郭小伟
马延琴
王景全
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机构
四川大学纳米光子技术研究所
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期120-124,共5页
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文摘
为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA=0.3,工作波长λ=442nm,倍率10×,分辨率R≤1.2μm,焦深4μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.
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关键词
无掩模光刻
反射光调制器件
光刻物镜
光学设计
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Keywords
Maskless lithography
DMD
Lithography lens
Optical designing
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分类号
O438
[机械工程—光学工程]
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