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双重图形技术的优化设计
1
作者
潘意杰
陈晔
《机电工程》
CAS
2008年第12期35-38,共4页
作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一,双重图形技术(DPT)面临的诸多复杂过程将影响其在制造领域的迅速应用,其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用,在重分解...
作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一,双重图形技术(DPT)面临的诸多复杂过程将影响其在制造领域的迅速应用,其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用,在重分解修正后的版图与前次OPC数据-分段和段偏移量之间建立了关联,并进行了相关实验。实验结果表明,在保证版图校正精确度的同时,可节省大量的运行时间,同时也有效地缩短了DPT的流程。
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关键词
可制造性设计
双重图形技术
光学邻近校正
分辨率增强
技术
重用
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职称材料
题名
双重图形技术的优化设计
1
作者
潘意杰
陈晔
机构
浙江大学超大规模集成电路研究所
出处
《机电工程》
CAS
2008年第12期35-38,共4页
文摘
作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一,双重图形技术(DPT)面临的诸多复杂过程将影响其在制造领域的迅速应用,其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图分解问题和光学邻近校正(OPC)中的信息重用,在重分解修正后的版图与前次OPC数据-分段和段偏移量之间建立了关联,并进行了相关实验。实验结果表明,在保证版图校正精确度的同时,可节省大量的运行时间,同时也有效地缩短了DPT的流程。
关键词
可制造性设计
双重图形技术
光学邻近校正
分辨率增强
技术
重用
Keywords
design for manufacturability （DFM）
double patterning technology （DPT）
optical proximity correction（ OPC ）
resolution enhancement technology（RET）
reuse
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
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1
双重图形技术的优化设计
潘意杰
陈晔
《机电工程》
CAS
2008
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