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FIB/SEM双束系统在微纳米材料电学性能测试中的应用
被引量：
6
1
作者
彭开武
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2016年第1期75-80,共6页
电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点,采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸...
电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点,采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸多因素。此外,选择适当的制样方法对后续的电学性能测试也很关键。本文以一台配备了电子束曝光功能附件的聚焦离子束(FIB)/扫描电子显微镜(SEM)双束系统为工具,结合光学光刻等其它加工技术,详细介绍了其针对不同类型微纳米材料进行电极制备的过程和方法。
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关键词
聚焦离子束
双束系统
微纳米材料
电学性能
电极制备
电子束曝光
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职称材料
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
被引量：
3
2
作者
彭开武
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013年第12期728-734,751,共8页
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积...
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
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关键词
聚焦离子束
双束系统
纳米材料表征
纳米结构加工
电子束曝光
透射电镜样品制备
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职称材料
新型高亮度、高分辨率双束电子光学系统
3
作者
吴华夏
洪光烈
沈旭东
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002年第4期307-309,共3页
由三基色显示管投影来实现大屏幕显示仍是首选方案 ,为了提高投影质量 ,缓解亮度与分辨率间的矛盾 ,采取了三项主要措施 :1、采用双束扫描荧光屏 ;2、在发射系统采用层流枪的优点 ;3。
关键词
双束
电子光学
系统
双束
扫描
层流枪
电阻螺旋线
亮度
分辨率
三基色显示管
投影
大屏幕显示
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职称材料
题名
FIB/SEM双束系统在微纳米材料电学性能测试中的应用
被引量：
6
1
作者
彭开武
机构
国家纳米科学中心
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2016年第1期75-80,共6页
文摘
电学性能测试是微纳米材料物性研究的重要组成部分,测试电极的制备是其中一个难点。光学光刻、电子束曝光或聚焦离子束加工是三种不同的电极制备技术。每种技术都有自己的特点,采用何种技术取决于微纳米材料的尺寸、形态及测试目的等诸多因素。此外,选择适当的制样方法对后续的电学性能测试也很关键。本文以一台配备了电子束曝光功能附件的聚焦离子束(FIB)/扫描电子显微镜(SEM)双束系统为工具,结合光学光刻等其它加工技术,详细介绍了其针对不同类型微纳米材料进行电极制备的过程和方法。
关键词
聚焦离子束
双束系统
微纳米材料
电学性能
电极制备
电子束曝光
Keywords
focused ion beam
dual beam system
micro / nanomaterial
electrical property
electrode fabrication
electron beam lithography
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
被引量：
3
2
作者
彭开武
机构
国家纳米科学中心纳米检测实验室
出处
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013年第12期728-734,751,共8页
文摘
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
关键词
聚焦离子束
双束系统
纳米材料表征
纳米结构加工
电子束曝光
透射电镜样品制备
Keywords
focused ion beam （FIB）
dual beam system
micro-nanofabrication
nanocharacterizatiou
electron beamlithography （EBL）
TEM sample preparation
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
新型高亮度、高分辨率双束电子光学系统
3
作者
吴华夏
洪光烈
沈旭东
机构
芜湖电真空研究所
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002年第4期307-309,共3页
文摘
由三基色显示管投影来实现大屏幕显示仍是首选方案 ,为了提高投影质量 ,缓解亮度与分辨率间的矛盾 ,采取了三项主要措施 :1、采用双束扫描荧光屏 ;2、在发射系统采用层流枪的优点 ;3。
关键词
双束
电子光学
系统
双束
扫描
层流枪
电阻螺旋线
亮度
分辨率
三基色显示管
投影
大屏幕显示
Keywords
Double electron beam scanning,Laminar flow gun,Resistance screw line,Luminance,Definition
分类号
TN141 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
FIB/SEM双束系统在微纳米材料电学性能测试中的应用
彭开武
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2016
6
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用
彭开武
《中国材料进展》
CAS
CSCD
2013
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
新型高亮度、高分辨率双束电子光学系统
吴华夏
洪光烈
沈旭东
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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