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制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法
被引量：
1
1
作者
冯伯儒
张锦
+1 位作者
宗德蓉
蒋世磊
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期5-7,共3页
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方...
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅。
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关键词
光纤光栅
相移掩模
双曝光技术
干涉光刻
PSM
微光刻
技术
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职称材料
题名
制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法
被引量：
1
1
作者
冯伯儒
张锦
宗德蓉
蒋世磊
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
四川大学物理系
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期5-7,共3页
基金
国家自然科学基金(60076019#)资助。
文摘
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅。
关键词
光纤光栅
相移掩模
双曝光技术
干涉光刻
PSM
微光刻
技术
Keywords
Phase-shifting mask
Two-beam exposure
Gratings in fibers
Interference lithography
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法
冯伯儒
张锦
宗德蓉
蒋世磊
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2003
1
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