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基于双平面方式下陶瓷球抛光均匀性研究
被引量：
3
1
作者
冯凯萍
周兆忠
+1 位作者
倪成员
袁巨龙
《现代制造工程》
CSCD
北大核心
2016年第3期7-12,共6页
为了获得陶瓷球超光滑加工表面,提出一种新型的球体双平面抛光方法,通过使球体在上、下软质抛光盘面之间不断的自旋和滚动实现球面均匀抛光。通过建立球体运动模型和使用Matlab仿真软件对陶瓷球双平面抛光方法进行优化分析,研究表明影...
为了获得陶瓷球超光滑加工表面,提出一种新型的球体双平面抛光方法,通过使球体在上、下软质抛光盘面之间不断的自旋和滚动实现球面均匀抛光。通过建立球体运动模型和使用Matlab仿真软件对陶瓷球双平面抛光方法进行优化分析,研究表明影响球面轨迹均匀性的球体自转角变化范围和自转角速度的变化主要由行星轮保持架与抛光盘的转速比m、保持架中心到抛光盘中心的偏心距与球体球心到保持架中心的孔心距比n决定。同时使用双平面抛光设备对氮化硅陶瓷球进行抛光20h,表面粗糙度从15.95nm下降到3.90nm,球上各点粗糙度值相差1nm左右,证明了陶瓷球双平面抛光方法的有效性。
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关键词
陶瓷球
双平面方式
抛光均匀性
仿真
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职称材料
题名
基于双平面方式下陶瓷球抛光均匀性研究
被引量：
3
1
作者
冯凯萍
周兆忠
倪成员
袁巨龙
机构
衢州学院机械工程学院
浙江工业大学省部共建机械制造及自动化教育部重点实验室
出处
《现代制造工程》
CSCD
北大核心
2016年第3期7-12,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(51275272)
衢州学院校基金项目(KY1304)
文摘
为了获得陶瓷球超光滑加工表面,提出一种新型的球体双平面抛光方法,通过使球体在上、下软质抛光盘面之间不断的自旋和滚动实现球面均匀抛光。通过建立球体运动模型和使用Matlab仿真软件对陶瓷球双平面抛光方法进行优化分析,研究表明影响球面轨迹均匀性的球体自转角变化范围和自转角速度的变化主要由行星轮保持架与抛光盘的转速比m、保持架中心到抛光盘中心的偏心距与球体球心到保持架中心的孔心距比n决定。同时使用双平面抛光设备对氮化硅陶瓷球进行抛光20h,表面粗糙度从15.95nm下降到3.90nm,球上各点粗糙度值相差1nm左右,证明了陶瓷球双平面抛光方法的有效性。
关键词
陶瓷球
双平面方式
抛光均匀性
仿真
Keywords
ceramics ball
dual-plane method
polishing uniformity
simulation
分类号
TH133.3 [机械工程—机械制造及自动化]
TH161.1 [机械工程—机械制造及自动化]
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作者
出处
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被引量
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1
基于双平面方式下陶瓷球抛光均匀性研究
冯凯萍
周兆忠
倪成员
袁巨龙
《现代制造工程》
CSCD
北大核心
2016
3
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