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4H-SiC(004)面双晶衍射摇摆曲线的分析 被引量:3
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作者 马永强 武一宾 +5 位作者 杨瑞霞 齐国虎 李若凡 商耀辉 陈昊 牛晨亮 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第7期581-584,共4页
用X射线双晶衍射法(XRD)对4H-SiC衬底和在该衬底上外延生长的4H-SiC单晶样品(004)面进行测试,在所有样品的测试结果中发现,摇摆曲线主峰左侧160″附近均出现傍肩,并且主峰衍射强度也较低。依据X射线衍射理论对系统射线在测试样品(004)... 用X射线双晶衍射法(XRD)对4H-SiC衬底和在该衬底上外延生长的4H-SiC单晶样品(004)面进行测试,在所有样品的测试结果中发现,摇摆曲线主峰左侧160″附近均出现傍肩,并且主峰衍射强度也较低。依据X射线衍射理论对系统射线在测试样品(004)面的衍射峰位展宽进行计算,并对4H-SiC原子结构进行了分析。研究结果证实,摇摆曲线中傍肩的存在与射线源中的Ka2射线参与衍射有关,而相对较低的衍射强度受其(004)面的特殊双层原子结构的影响。 展开更多
关键词 X射线双晶衍射 摇摆曲线 4H-SIC 双层原子结构
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