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检测薄膜压电形变的双光束探测干涉仪的设计
被引量：
2
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作者
黄傲
施柏煊
陈王丽华
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期45-48,共4页
为了检测压电薄膜的在电场作用下的微小形变,同时避免基底弯曲效应的影响,设计了一 种双光束探测干涉仪,通过反馈控制和锁相检测技术,实现了高稳定度、高分辨力的目标,最小可探测形变可达到0.001nm。系统采用计算机控制测量和数据处理,...
为了检测压电薄膜的在电场作用下的微小形变,同时避免基底弯曲效应的影响,设计了一 种双光束探测干涉仪,通过反馈控制和锁相检测技术,实现了高稳定度、高分辨力的目标,最小可探测形变可达到0.001nm。系统采用计算机控制测量和数据处理,使测量更加便捷、准确。
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关键词
双光束干涉仪
压电效应
弯曲效应
压电薄膜
变形测量
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职称材料
题名
检测薄膜压电形变的双光束探测干涉仪的设计
被引量：
2
1
作者
黄傲
施柏煊
陈王丽华
机构
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
香港理工大学应用物理系
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期45-48,共4页
基金
香港特区政府创新科技基金资助(ITF AF147/98)资助
文摘
为了检测压电薄膜的在电场作用下的微小形变,同时避免基底弯曲效应的影响,设计了一 种双光束探测干涉仪,通过反馈控制和锁相检测技术,实现了高稳定度、高分辨力的目标,最小可探测形变可达到0.001nm。系统采用计算机控制测量和数据处理,使测量更加便捷、准确。
关键词
双光束干涉仪
压电效应
弯曲效应
压电薄膜
变形测量
Keywords
Double beam interferometers
Piezoelectric effects
Bending effects
Thin film measurement 引
分类号
TH744.3 [机械工程—光学工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
检测薄膜压电形变的双光束探测干涉仪的设计
黄傲
施柏煊
陈王丽华
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2002
2
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