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双光束全息干涉法制备二维光子晶体的理论分析
1
作者
陈占林
熊玉卿
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第1期97-101,107,共6页
通过计算双光束全息干涉多次曝光产生的光强空间分布模拟干涉图案,理论分析了记录平面旋转精度、入射光束的偏振夹角和光束夹角以及光强阈值等参数对光学晶格的影响。归纳出入射光束偏振态改变时,相干干涉产生光学晶格的变化规律,并得...
通过计算双光束全息干涉多次曝光产生的光强空间分布模拟干涉图案,理论分析了记录平面旋转精度、入射光束的偏振夹角和光束夹角以及光强阈值等参数对光学晶格的影响。归纳出入射光束偏振态改变时,相干干涉产生光学晶格的变化规律,并得出激光全息技术中入射光参数的最佳组合,对激光全息技术制备理想的亚微米单晶结构有一定的理论价值和指导意义。
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关键词
光子晶体
双光束全息干涉
多次曝光
干涉
图案
光强阈值
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职称材料
题名
双光束全息干涉法制备二维光子晶体的理论分析
1
作者
陈占林
熊玉卿
机构
北方民族大学材料科学与工程学院
兰州物理研究所
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第1期97-101,107,共6页
基金
北方民族大学重点项目(2015KJ21)
文摘
通过计算双光束全息干涉多次曝光产生的光强空间分布模拟干涉图案,理论分析了记录平面旋转精度、入射光束的偏振夹角和光束夹角以及光强阈值等参数对光学晶格的影响。归纳出入射光束偏振态改变时,相干干涉产生光学晶格的变化规律,并得出激光全息技术中入射光参数的最佳组合,对激光全息技术制备理想的亚微米单晶结构有一定的理论价值和指导意义。
关键词
光子晶体
双光束全息干涉
多次曝光
干涉
图案
光强阈值
Keywords
photonic crystal
dual-beam holographic lithography
multi-step
interference pattern
intensity threshold
分类号
TN26 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
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1
双光束全息干涉法制备二维光子晶体的理论分析
陈占林
熊玉卿
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
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