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干涉图去包裹位相的二次校正
被引量：
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1
作者
于瀛洁
陈明仪
韦春龙
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期537-539,543,共4页
相位去包裹是移相干涉技术中关键的组成部分。一些去包裹算法在处理具有较多无效成像点的干涉图时,会在处理结果中引入较大的算法误差。提出了通过对去包裹位相进行二次校正的方法,实现去包裹位相算法误差的有效消除。文中通过基于DCT...
相位去包裹是移相干涉技术中关键的组成部分。一些去包裹算法在处理具有较多无效成像点的干涉图时,会在处理结果中引入较大的算法误差。提出了通过对去包裹位相进行二次校正的方法,实现去包裹位相算法误差的有效消除。文中通过基于DCT变换的最小二乘去包裹算法为例进行了说明,并通过一光学平晶表面的处理结果对方法进行了验证。
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关键词
移相干涉技术
去包裹算法
二次校正
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职称材料
题名
干涉图去包裹位相的二次校正
被引量：
1
1
作者
于瀛洁
陈明仪
韦春龙
机构
上海大学(延长校区)精密机械工程系
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期537-539,543,共4页
基金
上海市教育委员会青年基金资助项目。
文摘
相位去包裹是移相干涉技术中关键的组成部分。一些去包裹算法在处理具有较多无效成像点的干涉图时,会在处理结果中引入较大的算法误差。提出了通过对去包裹位相进行二次校正的方法,实现去包裹位相算法误差的有效消除。文中通过基于DCT变换的最小二乘去包裹算法为例进行了说明,并通过一光学平晶表面的处理结果对方法进行了验证。
关键词
移相干涉技术
去包裹算法
二次校正
Keywords
Phase-stepping interferometry Phase-unwrapping algorithm Double revising
分类号
TH744.3 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
干涉图去包裹位相的二次校正
于瀛洁
陈明仪
韦春龙
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
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参考文献
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