O484.1 2002032055Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究=Study of Ge thin heterostructures by synchrotronradiation X-ray reflection[刊,中]/郑文莉,贾全杰,姜晓明(中科院高能物理所.北京(100039)),蒋最敏(复旦大学应用表面物...O484.1 2002032055Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究=Study of Ge thin heterostructures by synchrotronradiation X-ray reflection[刊,中]/郑文莉,贾全杰,姜晓明(中科院高能物理所.北京(100039)),蒋最敏(复旦大学应用表面物理国家重点实验室.上海(200433))//高能物理与核物理.-2001,25(12).-1231-1237用X射线反射方法研究了分子束外延生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性。根据X射线反射理论Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式,且分布形式与Ge原子层的厚度无关。讨论了不同结构参数对样品低角反射曲线的影响。图3表2参12(李瑞琴)O484.1 2002032056掺氨对类金刚石薄膜场发射的影响=Effect of nitrogenaddition on field emission of diamond-likecarbon films[刊,中]/马会中。展开更多
O484．1 2005010443 热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响=Thermal annealing effect on characteristics of surface morphology and ellipsometric of zinc oxide film[刊,中]／刘磁辉(中国科学技术大学物理系．安徽,合肥(23002...O484．1 2005010443 热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响=Thermal annealing effect on characteristics of surface morphology and ellipsometric of zinc oxide film[刊,中]／刘磁辉(中国科学技术大学物理系．安徽,合肥(230026))．林碧霞…∥发光学报．-2004,25(2)．-151-155 利用原子力显微镜(AFM)和椭偏仪对溅射制备的硅基ZnO薄膜的热退火表面形貌与椭偏特性进行了研究。展开更多
文摘O484.1 2002032055Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究=Study of Ge thin heterostructures by synchrotronradiation X-ray reflection[刊,中]/郑文莉,贾全杰,姜晓明(中科院高能物理所.北京(100039)),蒋最敏(复旦大学应用表面物理国家重点实验室.上海(200433))//高能物理与核物理.-2001,25(12).-1231-1237用X射线反射方法研究了分子束外延生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性。根据X射线反射理论Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式,且分布形式与Ge原子层的厚度无关。讨论了不同结构参数对样品低角反射曲线的影响。图3表2参12(李瑞琴)O484.1 2002032056掺氨对类金刚石薄膜场发射的影响=Effect of nitrogenaddition on field emission of diamond-likecarbon films[刊,中]/马会中。
文摘O484．1 2005010443 热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响=Thermal annealing effect on characteristics of surface morphology and ellipsometric of zinc oxide film[刊,中]／刘磁辉(中国科学技术大学物理系．安徽,合肥(230026))．林碧霞…∥发光学报．-2004,25(2)．-151-155 利用原子力显微镜(AFM)和椭偏仪对溅射制备的硅基ZnO薄膜的热退火表面形貌与椭偏特性进行了研究。
