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α-淀粉酶的应用及研究现状 被引量:12
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作者 孙晓菲 李爱江 《畜牧兽医科技信息》 2008年第6期13-14,共2页
α-淀粉酶分布十分广泛,遍及微生物至高等植物。其国际酶学分类编号为EC.3.2.1.1,作用于淀粉时从淀粉分子的内部随机切开α-1,4糖苷键,生成糊精和还原糖,由于产物的末端残基碳原子构型为α构型,故称α-淀粉酶。现在α-淀粉酶... α-淀粉酶分布十分广泛,遍及微生物至高等植物。其国际酶学分类编号为EC.3.2.1.1,作用于淀粉时从淀粉分子的内部随机切开α-1,4糖苷键,生成糊精和还原糖,由于产物的末端残基碳原子构型为α构型,故称α-淀粉酶。现在α-淀粉酶泛指能够从淀粉分子内部随机切开α-1,4糖苷键,起液化作用的一类酶。 展开更多
关键词 Α-淀粉酶 应用 原子构型 高等植物 分类编号 淀粉分子 液化作用 糖苷键
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氧化剂浓度对4H-SiC化学机械抛光效果的影响 被引量:4
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作者 高飞 李晖 徐永宽 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期10189-10192,共4页
以4H-SiC(0001)面为研究对象,采用原子力显微镜和X光电子能谱研究了抛光晶片表面的形貌和成分,讨论了氧化剂浓度对SiC化学机械抛光去除速率以及微观形貌的影响。结果表明,在化学机械抛光过程中SiC晶片的表面会生成二氧化硅,抛光液中氧... 以4H-SiC(0001)面为研究对象,采用原子力显微镜和X光电子能谱研究了抛光晶片表面的形貌和成分,讨论了氧化剂浓度对SiC化学机械抛光去除速率以及微观形貌的影响。结果表明,在化学机械抛光过程中SiC晶片的表面会生成二氧化硅,抛光液中氧化剂的浓度直接影响SiC的氧化进程,增大氧化剂的浓度可以显著提高抛光去除速率,当氧化剂浓度为0.15mol/L时,抛光去除速率可以达到约1 200nm/h,同时可以获得一个无划痕、超光滑、具有原子台阶构型的抛光表面,表面粗糙度值Ra低至0.0853nm。 展开更多
关键词 碳化硅 化学机械抛光 氧化剂浓度 原子台阶
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拉伸载荷作用下单晶铝柱动态断裂过程的分子动力学模拟研究(英文)
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作者 王路生 丁军 +2 位作者 陈松 黄霞 宋鹍 《机床与液压》 北大核心 2017年第24期90-95,112,共7页
运用LAMMPS中的Fortran语言自编程功能建立了单晶铝柱在拉伸载荷作用下的分子动力学仿真模型,采用镶嵌原子势(EAM)势函数模拟了室温下单晶铝柱的动态断裂过程。从应力应变关系、原子构型和相变等方面解释了拉伸过程中的力学性能。位错... 运用LAMMPS中的Fortran语言自编程功能建立了单晶铝柱在拉伸载荷作用下的分子动力学仿真模型,采用镶嵌原子势(EAM)势函数模拟了室温下单晶铝柱的动态断裂过程。从应力应变关系、原子构型和相变等方面解释了拉伸过程中的力学性能。位错是单晶铝塑性变形的主要原因,位错相互作用引起塑性硬化和晶体破坏,晶体在载荷作用下沿{111}面滑移,滑移面与理论结果相符合。 展开更多
关键词 单晶铝 分子动力学模拟 原子构型 位错
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“3d”与“4S”轨道的能量究竟谁高
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作者 董光华 《教学与管理(中学版)》 1998年第5期43-43,共1页
“3d”与“4S”轨道的能量究竟谁高●山西董光华许多中学化学教科书在叙述核外电子排布遵循三规律之能量最低原理是这样的:原子核外的电子总是尽先占有能量最低的轨道,然后依次排到能量较高的轨道。并且列出轨道能级顺序:1S,... “3d”与“4S”轨道的能量究竟谁高●山西董光华许多中学化学教科书在叙述核外电子排布遵循三规律之能量最低原理是这样的:原子核外的电子总是尽先占有能量最低的轨道,然后依次排到能量较高的轨道。并且列出轨道能级顺序:1S,2S,2P,3S,3P,4S,3d... 展开更多
关键词 原子构型 核外电子排布 原子轨道能 轨道能量 经验规律 电子能量 化学 d区元素 外层电子 光谱实验
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