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原子层沉积技术的发展现状及应用前景被引量：15: 1; 作者魏呵呵何刚 +2 位作者邓彬李文东李太申《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期413-420,共8页; 随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续减小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战,然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术,因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好,还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分,... 展开更多; 关键词原子层沉积技术薄膜沉积高K材料光学薄膜催化剂; 在线阅读下载PDF 职称材料

原子层沉积技术对纤维素膜功能化的影响被引量：1: 2; 作者黎俊妤蒋培清 +1 位作者张文奇李文斌《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期26-30,36,共6页; 为扩大纤维素膜的使用范围,使其可应用于医用、建筑等领域,利用纳米氧化锌具有紫外线屏蔽、抗菌等特性,采用原子层沉积(ALD)技术在纤维素膜表面沉积纳米氧化锌,制备具有紫外线阻隔以及抗菌功能的纤维素膜,并探讨不同ALD温度和循环次数... 展开更多; 关键词纤维素膜原子层沉积技术纳米氧化锌紫外线阻隔抗菌性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

一种用于MCP的新型防离子反馈膜被引量：1: 3; 作者张妮孙超 +7 位作者杨凯莉朱宇峰焦岗成邱洪金李朋博郝子恒黄武军王江浩《红外技术》北大核心 2025年第1期115-120,共6页; 传统技术制备的MCP防离子反馈膜在一定程度上会影响像管的信噪比,长时间的工作条件下也会降低像管的可靠性,基于传统防离子反馈膜缺陷导致的像管信噪比和可靠性性能亟需改善和提高的迫切需求,开展一种用于MCP的新型防离子反馈膜研究。... 展开更多; 关键词新型防离子反馈膜原子层沉积技术高长径比信噪比长寿命; 在线阅读下载PDF 职称材料

两种玻璃微通道阵列的制作技术及比较被引量：2: 4; 作者王亚丽崔开源 +3 位作者刘术林张骞栗重浩李晓峰《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第5期796-801,共6页; 微孔玻璃阵列是采用原子层沉积技术制作微通道板的基底板,其微孔阵列的分布均匀性以及每个通道内壁的光滑程度,对其后续制作合格微通道板至关重要。分别采用空芯工艺和实芯腐蚀工艺来制作上述基底板,分析了两种技术的优缺点,阐述了两种... 展开更多; 关键词微孔玻璃阵列微通道板原子层沉积技术空芯法实芯法均匀性内壁粗糙度信噪比; 在线阅读下载PDF 职称材料

基于ALD技术的高性能光电探测器研究进展被引量：2: 5; 作者胡鲲翟爱平 +4 位作者冯琳石林林冀婷李国辉崔艳霞《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第12期909-920,共12页; 采用原子层沉积(ALD)技术制备的薄膜具有致密性高、保形性高、平滑性好、缺陷密度低、厚度可精准调控等优势,被广泛应用于各类光电器件中。利用ALD技术制备的功能薄膜可以明显改善光电探测器的暗电流、探测率和线性动态范围等性能。以基... 展开更多; 关键词原子层沉积(ALD)技术光电探测器活性层钝化层界面层; 在线阅读下载PDF 职称材料

亚50 nm台阶高度标准物质的可控制备及定值研究被引量：2: 6; 作者张雅馨王琛英 +2 位作者景蔚萱施玉书蒋庄德《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第11期86-93,共8页; 纳米台阶高度标准物质可以传递准确、可溯源的纳米高度量值。针对我国缺乏可控的高质量亚50 nm台阶高度标准物质制备技术的问题,提出了基于原子层沉积结合湿法刻蚀的纳米台阶高度标准物质研制方法,通过工艺过程优化实现了台阶高度亚纳... 展开更多; 关键词台阶高度标准物质亚50 nm 原子层沉积技术(ALD) 计量学; 在线阅读下载PDF 职称材料

Bi/Er共掺石英玻璃光纤及其光谱特性被引量：1: 7; 作者詹海虹文建湘 +1 位作者陈丽君陈振宜《光通信技术》北大核心 2018年第8期60-62,共3页; 将原子层沉积技术(ALD)与改进的化学气相沉积工艺(MCVD)相结合,制备Bi/Er共掺石英玻璃光纤,测试并分析光谱性能。实验结果表明:Bi/Er共掺石英玻璃光纤存在铋离子和铒离子的典型吸收峰。当用980nm泵浦光激发时,Bi/Er共掺石英玻璃光纤在14... 展开更多; 关键词铋铒共掺石英玻璃光纤原子层沉积技术宽谱光纤光源; 在线阅读下载PDF 职称材料

Al2O3@5A沸石材料制备及其空间分子污染吸附性能被引量：2: 8; 作者宫向华祖丽颉 +2 位作者吴金珠李杨吴晓宏《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期14-22,共9页; 目的采用原子层沉积技术(ALD)制备了Al2O3@5A沸石分子筛复合材料,以提高材料的综合应用性能。方法采用三甲基铝为铝源,水为氧源,氮气为载气,工艺压力为26.6Pa,沉积温度为150℃,循环周期为300,在5A沸石分子筛球体表面生长膜厚约为30 nm的... 展开更多; 关键词沸石三氧化二铝原子层沉积技术空间分子污染吸附; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名原子层沉积技术的发展现状及应用前景被引量：15: 1; 作者魏呵呵何刚邓彬李文东李太申; 机构安徽大学物理与材料科学学院; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期413-420,共8页; 文摘随着微电子行业的发展,集成度不断提高、器件尺寸持续减小,使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战,然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术,因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好,还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分,仍然备受关注并被广泛应用于半导体、光学、光电子、太阳能等诸多领域。本文简要介绍了ALD技术的原理、沉积周期、特征、优势、化学吸附自限制ALD技术和顺次反应自限制ALD技术及ALD本身作为一种技术的发展状况(T-ALD,PEALD和EC-ALD等);重点叙述了ALD技术在半导体领域(高k材料、IC互连技术等)、光学薄膜方面、纳米材料方面、催化剂的应用和新成果。最后,对ALD未来的发展应用前景进行了展望。; 关键词原子层沉积技术薄膜沉积高K材料光学薄膜催化剂; Keywords Atomic layer deposition, Thin-film deposition, High-k materials, Optical thin films, Catalyst; 分类号 O487 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名原子层沉积技术对纤维素膜功能化的影响被引量：1: 2; 作者黎俊妤蒋培清张文奇李文斌; 机构武汉纺织大学惠州学院旭日广东服装学院湖北三江航天红阳机电有限公司; 出处《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期26-30,36,共6页; 文摘为扩大纤维素膜的使用范围,使其可应用于医用、建筑等领域,利用纳米氧化锌具有紫外线屏蔽、抗菌等特性,采用原子层沉积(ALD)技术在纤维素膜表面沉积纳米氧化锌,制备具有紫外线阻隔以及抗菌功能的纤维素膜,并探讨不同ALD温度和循环次数对纤维素膜性能的影响。借助紫外分光光度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、热重分析仪等对纤维素膜的结构和性能进行分析。结果表明:随着ALD温度和循环次数的增加,纤维素膜的紫外线透过率由74.50%下降至1.46%;ALD功能化纤维素膜对金黄色葡萄球菌的抑菌率高达99.9%;经改性的纤维素膜表面附着了六方晶系纤锌矿结构的纳米氧化锌层,残碳率由16.61%增加至31.20%。; 关键词纤维素膜原子层沉积技术纳米氧化锌紫外线阻隔抗菌性能; Keywords cellulose membrane atomic layer deposition technology nano-zinc oxide UV-blocking antibacterial property; 分类号 TS101 [轻工技术与工程—纺织工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名一种用于MCP的新型防离子反馈膜被引量：1: 3; 作者张妮孙超杨凯莉朱宇峰焦岗成邱洪金李朋博郝子恒黄武军王江浩; 机构微光夜视技术重点实验室昆明物理研究所; 出处《红外技术》北大核心 2025年第1期115-120,共6页; 文摘传统技术制备的MCP防离子反馈膜在一定程度上会影响像管的信噪比,长时间的工作条件下也会降低像管的可靠性,基于传统防离子反馈膜缺陷导致的像管信噪比和可靠性性能亟需改善和提高的迫切需求,开展一种用于MCP的新型防离子反馈膜研究。采用原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)在有较高长径比的MCP通道内壁及输入端的通道孔处制备一层连续的高质量U型结构的防离子反馈膜,经MCP综合检测装置测试,与传统技术制备的MCP部件性能相比,新型防离子反馈膜致密,增益值较高,部件含碳量低,新型防离子反馈膜的MCP部件经制管后像管信噪比高,寿命可靠性高,此技术制备的新型防离子反馈MCP部件对与像增强器信噪比和可靠性性能的提升具有重要意义。; 关键词新型防离子反馈膜原子层沉积技术高长径比信噪比长寿命; Keywords new type Ion Barrier Film atomic layer deposition(ALD)technology large aspect ratio signal-to-noise ratio long-life; 分类号 TN223 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名两种玻璃微通道阵列的制作技术及比较被引量：2: 4; 作者王亚丽崔开源刘术林张骞栗重浩李晓峰; 机构太原长城微光微通电子科技有限公司核探测与核电子学国家重点实验室中国科学院大学北方夜视技术股份有限公司; 出处《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第5期796-801,共6页; 基金国家自然科学基金(11535014) 核探测与核电子学国家重点实验室项目(SKLPDE-ZZ-202102)。; 文摘微孔玻璃阵列是采用原子层沉积技术制作微通道板的基底板,其微孔阵列的分布均匀性以及每个通道内壁的光滑程度,对其后续制作合格微通道板至关重要。分别采用空芯工艺和实芯腐蚀工艺来制作上述基底板,分析了两种技术的优缺点,阐述了两种方法中的关键技术,并对原子沉积技术制作的微通道板与常规工艺制作的微通道板进行了性能比较,前者的信噪比优于后者。; 关键词微孔玻璃阵列微通道板原子层沉积技术空芯法实芯法均匀性内壁粗糙度信噪比; Keywords micro-pore glass array micro-channel plate atomic-layer deposition technology hollow core glass method solid-core method uniformity roughness of inner wall signal-to-noise ratio; 分类号 TN223 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基于ALD技术的高性能光电探测器研究进展被引量：2: 5; 作者胡鲲翟爱平冯琳石林林冀婷李国辉崔艳霞; 机构太原理工大学物理与光电工程学院; 出处《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第12期909-920,共12页; 基金国家自然科学基金资助项目(61922060,61775156,61805172,61905173) 山西省重点研发国际合作项目(201803D421044) +4 种基金山西省平台与基地专项(201805D131012-3)。; 文摘采用原子层沉积(ALD)技术制备的薄膜具有致密性高、保形性高、平滑性好、缺陷密度低、厚度可精准调控等优势,被广泛应用于各类光电器件中。利用ALD技术制备的功能薄膜可以明显改善光电探测器的暗电流、探测率和线性动态范围等性能。以基于ALD技术的高性能光电探测器为主题,首先详细介绍了热ALD生长薄膜的基本原理,同时简要介绍了等离子体增强ALD技术生长薄膜的基本原理。然后依据光电探测器中薄膜的功能不同,依次总结了基于ALD技术制作的活性层、钝化层、界面层、电荷传输层等实现高性能光电探测器的研究进展。最后对ALD技术在光电探测器领域的发展趋势和挑战进行了展望。; 关键词原子层沉积(ALD)技术光电探测器活性层钝化层界面层; Keywords atomic layer deposition(ALD)technology photodetector active layer passivation layer interfacial layer; 分类号 TN36 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名亚50 nm台阶高度标准物质的可控制备及定值研究被引量：2: 6; 作者张雅馨王琛英景蔚萱施玉书蒋庄德; 机构西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室西安交通大学高端制造装备协同创新中心中国计量科学研究院; 出处《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第11期86-93,共8页; 基金国家自然科学基金(52175434)项目资助。; 文摘纳米台阶高度标准物质可以传递准确、可溯源的纳米高度量值。针对我国缺乏可控的高质量亚50 nm台阶高度标准物质制备技术的问题,提出了基于原子层沉积结合湿法刻蚀的纳米台阶高度标准物质研制方法,通过工艺过程优化实现了台阶高度亚纳米量级精确可控,制备出了最小公称高度仅为5 nm的亚50 nm台阶高度标准物质系列。其定值结果可溯源到米定义波长基准,扩展不确定度不超过2.0 nm,均匀性和稳定性较好,不同测试仪器一致性水平较高。研究结果表明,所研制的纳米台阶高度标准物质可以用于亚50 nm高度量值传递以及多种测量仪器之间量值的比对测量,其产业化批量生产的前景也将为半导体产业提供完善的计量保障。; 关键词台阶高度标准物质亚50 nm 原子层沉积技术(ALD) 计量学; Keywords step height reference material sub-50 nm atomic layer deposition(ALD) metrology; 分类号 TH711 [机械工程—测试计量技术及仪器]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名Bi/Er共掺石英玻璃光纤及其光谱特性被引量：1: 7; 作者詹海虹文建湘陈丽君陈振宜; 机构上海大学特种光纤与光接入网重点实验室特种光纤与先进通信国际合作联合实验室; 出处《光通信技术》北大核心 2018年第8期60-62,共3页; 基金国家自然科学基金重点国际合作研究项目(61520106014)资助上海市科委国际合作项目(15220721500)资助; 文摘将原子层沉积技术(ALD)与改进的化学气相沉积工艺(MCVD)相结合,制备Bi/Er共掺石英玻璃光纤,测试并分析光谱性能。实验结果表明:Bi/Er共掺石英玻璃光纤存在铋离子和铒离子的典型吸收峰。当用980nm泵浦光激发时,Bi/Er共掺石英玻璃光纤在1400~1700nm波段获得宽的发光谱;非饱和吸收与小信号吸收的比值达到64%,泵浦效率较高,且荧光寿命达到11.2ms。; 关键词铋铒共掺石英玻璃光纤原子层沉积技术宽谱光纤光源; Keywords Bi/Er co-doped silica optical fiber atomic layer deposition broadband fiber source; 分类号 TN253 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名Al2O3@5A沸石材料制备及其空间分子污染吸附性能被引量：2: 8; 作者宫向华祖丽颉吴金珠李杨吴晓宏; 机构哈尔滨工业大学化工与化学学院; 出处《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期14-22,共9页; 基金国家自然科学基金(51702067)。; 文摘目的采用原子层沉积技术(ALD)制备了Al2O3@5A沸石分子筛复合材料,以提高材料的综合应用性能。方法采用三甲基铝为铝源,水为氧源,氮气为载气,工艺压力为26.6Pa,沉积温度为150℃,循环周期为300,在5A沸石分子筛球体表面生长膜厚约为30 nm的Al2O3非晶薄膜,探究Al2O3薄膜对5A沸石分子筛的机械强度和吸附性能的影响。结果Al2O3薄膜均匀牢度地包覆在5A沸石分子筛表面,有效抑制了分子筛的破裂掉粉。非晶态Al2O3薄膜呈现均匀粗糙的纳米岛状形貌,具有优异的疏水性。此外,Al2O3薄膜提供更多的活性铝,有利于与有机污染物分子发生化学吸附。结论采用ALD技术制备了形貌均匀、结构致密的Al2O3非晶薄膜,实现了对基底材料5A沸石分子筛的表面改性,不但改善了材料的机械强度和使用稳定性,而且提高了材料对有机污染物的吸附能力。; 关键词沸石三氧化二铝原子层沉积技术空间分子污染吸附; Keywords zeolite aluminum oxide atomic layer deposition technology space molecular contamination adsorption; 分类号 TB33 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	原子层沉积技术的发展现状及应用前景	魏呵呵何刚邓彬李文东李太申	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2014	15	在线阅读下载PDF 职称材料
2	原子层沉积技术对纤维素膜功能化的影响	黎俊妤蒋培清张文奇李文斌	《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2020	1	在线阅读下载PDF 职称材料
3	一种用于MCP的新型防离子反馈膜	张妮孙超杨凯莉朱宇峰焦岗成邱洪金李朋博郝子恒黄武军王江浩	《红外技术》北大核心	2025	1	在线阅读下载PDF 职称材料
4	两种玻璃微通道阵列的制作技术及比较	王亚丽崔开源刘术林张骞栗重浩李晓峰	《应用光学》 CAS CSCD 北大核心	2021	2	在线阅读下载PDF 职称材料
5	基于ALD技术的高性能光电探测器研究进展	胡鲲翟爱平冯琳石林林冀婷李国辉崔艳霞	《半导体技术》 CAS 北大核心	2021	2	在线阅读下载PDF 职称材料
6	亚50 nm台阶高度标准物质的可控制备及定值研究	张雅馨王琛英景蔚萱施玉书蒋庄德	《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2022	2	在线阅读下载PDF 职称材料
7	Bi/Er共掺石英玻璃光纤及其光谱特性	詹海虹文建湘陈丽君陈振宜	《光通信技术》北大核心	2018	1	在线阅读下载PDF 职称材料
8	Al2O3@5A沸石材料制备及其空间分子污染吸附性能	宫向华祖丽颉吴金珠李杨吴晓宏	《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心	2020	2	在线阅读下载PDF 职称材料