TN252 2004064287 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究=Research on the deposition of thick silica on silicon substrate by flame hydrolysis deposition[刊,中]/郜定山（中科院半导体所光电子研究发展中心.北京（100083））,...TN252 2004064287 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究=Research on the deposition of thick silica on silicon substrate by flame hydrolysis deposition[刊,中]/郜定山（中科院半导体所光电子研究发展中心.北京（100083））,李建光…∥光学学报.—2004,24（9）.—1279-1282 用火焰水解和高温烧结的方法在单晶硅基片上制备了厚SiO<sub>2</sub>和B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>-SiO<sub>2</sub>光波导包层材料。并用扫描电镜（SEM）和X射线粉末衍射（XRD）方法对其微观形貌和物相结构进行了观察和检测。重点对硅基片上沉积厚SiO<sub>2</sub>时的龟裂和析晶问题进行了深入研究。从扫描电镜照片可以看出,火焰水解法形成的SiO<sub>2</sub>粉末呈多孔的蜂窝状结构。这种粉末具有很高的比表面积,因而很容易烧结成玻璃。X射线衍射图谱表明。展开更多
文摘TN252 2004064287 在硅片上沉积厚二氧化硅的火焰水解法研究=Research on the deposition of thick silica on silicon substrate by flame hydrolysis deposition[刊,中]/郜定山（中科院半导体所光电子研究发展中心.北京（100083））,李建光…∥光学学报.—2004,24（9）.—1279-1282 用火焰水解和高温烧结的方法在单晶硅基片上制备了厚SiO<sub>2</sub>和B<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-P<sub>2</sub>O<sub>5</sub>-SiO<sub>2</sub>光波导包层材料。并用扫描电镜（SEM）和X射线粉末衍射（XRD）方法对其微观形貌和物相结构进行了观察和检测。重点对硅基片上沉积厚SiO<sub>2</sub>时的龟裂和析晶问题进行了深入研究。从扫描电镜照片可以看出,火焰水解法形成的SiO<sub>2</sub>粉末呈多孔的蜂窝状结构。这种粉末具有很高的比表面积,因而很容易烧结成玻璃。X射线衍射图谱表明。
