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题名集成电路压印光刻中压印模具的保真度研究
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作者
王立永
李涤尘
李寒松
卢凤兰
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机构
西安交通大学
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出处
《电加工与模具》
2002年第6期34-36,共3页
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文摘
传统的光刻生产工艺 ,有不可克服的光学极限。压印光刻法为集成电路的生产提供了一种快速、经济的方案。采用电子束直写、步进制模、压印翻制的压印模具生产工艺 ,其模具的制造是目前面临的难点。为了获得高质量的压印模具 ,着重从固化剂的添加量、固化温度及时间等方面进行分析和研究。通过考查压印模具的平整度、均一性、特征尺寸及模具表面的固化收缩率等的变化 ,得到了压印模具制作的最佳工艺组合。
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关键词
保真度
集成电路
压印光刻
电子束直写
硅橡胶
压印模具
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Keywords
IC, imprint lithography, electron beam direct writing, silicone, imprint mold
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名电场诱导压印模具的套刻制备及其实验
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作者
黎相孟
田洪淼
祝锡晶
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机构
中北大学机械工程学院
西安交通大学机械工程学院
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出处
《电加工与模具》
2020年第1期70-74,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(51705479)
山西省青年科技研究基金资助项目(201701D001128)
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文摘
电场诱导压印技术的关键在于能实现压印光刻胶的正向复形,对电场诱导模具的制备提出了较大的挑战。提出一种基于光刻、刻蚀和SU-8胶套刻的方法,实现了电场诱导压印模具的制备,通过Comsol仿真分析了电场分布,设计了支架高度与模具微结构高度,展示了几种不同形状、尺寸的模具结构,并对结构进行了表征。基于电场诱导模具搭建了试验平台,并在导电模具和基材之间施加电场,通过SEM观察成形结果得到,该结果与预计的电场诱导压印复制结构相似,验证了电场诱导套刻模具的适用性。
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关键词
电场诱导
压印模具
紫外光刻
套刻
等离子体刻蚀
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Keywords
electric field induction
imprinting mold
ultraviolet photolithography
overlapping
plasma etching
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名一种提高压印光刻软模复制精度的方法
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作者
王立永
李涤尘
卢凤兰
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机构
西安交通大学先进制造技术研究所
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出处
《机械科学与技术》
CSCD
北大核心
2003年第4期627-628,631,共3页
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文摘
由于传统的光刻生产工艺有透镜光学极限性 ,压印光刻为集成电路的生产提供了一种新思路。在压印光刻中 ,模具的制造是重点。为了获得高精度的压印模具 ,在实验中着重从模具材料的选择、固化剂的添加量、真空压力大小、固化温度、固化时间等方面进行分析和研究。采用正交实验方式和数理方差分析 ,通过检测压印模具的平整度、一致性、特征尺寸及模具表面的固化收缩率等参数的变化 ,特别是模具的特征尺寸变化 。
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关键词
集成电路
压印光刻
硅橡胶
压印模具
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Keywords
Imprint lithography
Silicone
Imprint mold
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分类号
TG76
[金属学及工艺—刀具与模具]
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