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基于可视化的真空镀膜装备专利竞争技术分析 被引量:1
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作者 叶俊文 黎子辉 +2 位作者 高峰 李晓刚 王鸿志 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期422-429,共8页
针对当前中国精密真空镀膜装备技术与国外差距甚远,存在核心技术缺失、技术发展方向不明确、研发意愿不足等问题,基于可视化技术分析真空镀膜装备国内外专利信息。探索数据处理过程中,通过字段创建与组合以可视化解析当前专利态势和技术... 针对当前中国精密真空镀膜装备技术与国外差距甚远,存在核心技术缺失、技术发展方向不明确、研发意愿不足等问题,基于可视化技术分析真空镀膜装备国内外专利信息。探索数据处理过程中,通过字段创建与组合以可视化解析当前专利态势和技术,聚焦技术壁垒背景下光学领域磁控溅射(MS)与半导体领域原子层沉积(ALD)国外重点装备制造厂商的技术关注,挖掘出关键部件专利布局、技术功效、专利空白、比较优势等竞争信息,由桑基图、实物图、簇状气泡图等可视化图像直观展现分析成果,以期为中国真空镀膜装备制造企业技术创新思路借鉴、企业并购、技术合作、人才引进及产业相关政策制定提供参考策略。 展开更多
关键词 数据可视化 真空镀膜 专利竞争 技术功效 光学镀膜 半导体镀膜
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