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半导体行业废水处理工程实例与效果分析
被引量：
2
1
作者
涂凌波
《工业水处理》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期188-192,共5页
半导体行业废水水质复杂,携带大量重金属、有毒氰化物、氟化物、氮、磷等污染物,同时具有可生化性差、C/N低的特点,难以直接采用生物方法处理。某高新技术产业园区污水处理厂采用“格栅+曝气沉砂池+高效沉淀池+改良型A^(2)/O+MBR+接触...
半导体行业废水水质复杂,携带大量重金属、有毒氰化物、氟化物、氮、磷等污染物,同时具有可生化性差、C/N低的特点,难以直接采用生物方法处理。某高新技术产业园区污水处理厂采用“格栅+曝气沉砂池+高效沉淀池+改良型A^(2)/O+MBR+接触消毒池”的处理工艺,探究了该工艺实际运行5个月期间的进出水水质变化情况。运行结果表明,该处理工艺对进水中污染物均具有较好的去除效果,运行期间出水悬浮物、COD、NH_(4)^(+)-N、TN、TP和氟化物等污染物分别维持在4、26、1、8、0.1、1.5 mg/L以下,始终满足《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB 18918—2002)一级A类标准。此外,水处理电费约0.536元/m^(3),药剂费用约0.220元/m^(3),直接运行成本约0.756元/m^(3)。
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关键词
半导体行业废水
氟化物
可生化性
改良型A^(2)/O-MBR
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职称材料
半导体行业废水的反渗透膜污堵机制与控制策略
被引量：
10
2
作者
徐雨晴
巫寅虎
+5 位作者
吴乾元
王文龙
熊江磊
罗嘉豪
肖卓远
胡洪营
《环境科学研究》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第3期535-545,共11页
半导体行业是我国大力发展的高精尖产业,废水产生量大、再生处理难度高.半导体行业废水再生处理过程中,反渗透(reverse osmosis,RO)是重要的污染物去除单元,但面临的膜污堵问题严重影响了其效率与经济性.本文梳理了半导体行业废水的种...
半导体行业是我国大力发展的高精尖产业,废水产生量大、再生处理难度高.半导体行业废水再生处理过程中,反渗透(reverse osmosis,RO)是重要的污染物去除单元,但面临的膜污堵问题严重影响了其效率与经济性.本文梳理了半导体行业废水的种类与典型污染物,总结了半导体行业废水导致反渗透膜污堵的主要机制及控制手段,提出了针对半导体行业废水特点的膜污堵控制策略.半导体生产的不同工序会产生多种废水,包括含氟废水、含磷废水、含氨废水、重金属废水、有机废水与酸碱废水等.废水中污染物种类多且可生化性普遍较差.通常,不同种类废水分类经分质收集后,进行相应的预处理,之后部分合流处理并进入RO系统.半导体行业废水中的金属离子或氟离子易在反渗透膜面形成无机结垢,表面活性剂易形成有机污堵.反渗透膜污堵可通过预处理、膜清洗与运行条件调控等手段进行控制,如超滤、EDTA清洗剂与pH调节等,但大部分现有手段对半导体行业废水造成的污堵控制能力有限.建议未来开发针对关键污染物的预处理技术与定制化的膜清洗方案;并结合半导体生产工序,提出针对污染物关键相互作用关系的废水收集与再生处理整体策略.
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关键词
半导体行业废水
反渗透膜
膜污堵
关键污染物
重金属
表面活性剂
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职称材料
半导体废水中N-甲基-2-吡咯烷酮的潜在风险及去除特性
3
作者
陈晓雯
巫寅虎
+8 位作者
黄南
张倬玮
王琦
王文龙
吴乾元
熊江磊
罗嘉豪
于红
胡洪营
《工业水处理》
北大核心
2025年第4期10-16,26,共8页
N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)作为半导体行业废水中的典型有机物,具有浓度高、降解难等特点,已成为行业重点关注的污染物,所以探明NMP在废水中的赋存特征、潜在风险及降解特性对行业废水的高效低耗处理具有重要意义。总结了半导体废水中NMP...
N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)作为半导体行业废水中的典型有机物,具有浓度高、降解难等特点,已成为行业重点关注的污染物,所以探明NMP在废水中的赋存特征、潜在风险及降解特性对行业废水的高效低耗处理具有重要意义。总结了半导体废水中NMP的来源、浓度和毒性风险,梳理了NMP的主要处理工艺、去除效果和降解规律,探讨了现有处理工艺存在的主要问题及解决建议。NMP主要来源于半导体制造过程的清洗剂,在半导体废水中具有较高的浓度和较强的生物毒性。现有技术对NMP的处理包括物理分离、生物处理和化学降解等,但存在去除不彻底、产生高毒性中间产物等问题。建议从NMP脱毒工艺开发及强化去除机理等方面开展研究,并着眼于行业链条,结合源头工艺革新和资源化回收,实现对NMP风险的全过程控制。
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关键词
半导体行业废水
N-甲基-2-吡咯烷酮
风险控制
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职称材料
题名
半导体行业废水处理工程实例与效果分析
被引量：
2
1
作者
涂凌波
机构
福建省环境保护设计院有限公司
出处
《工业水处理》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期188-192,共5页
文摘
半导体行业废水水质复杂,携带大量重金属、有毒氰化物、氟化物、氮、磷等污染物,同时具有可生化性差、C/N低的特点,难以直接采用生物方法处理。某高新技术产业园区污水处理厂采用“格栅+曝气沉砂池+高效沉淀池+改良型A^(2)/O+MBR+接触消毒池”的处理工艺,探究了该工艺实际运行5个月期间的进出水水质变化情况。运行结果表明,该处理工艺对进水中污染物均具有较好的去除效果,运行期间出水悬浮物、COD、NH_(4)^(+)-N、TN、TP和氟化物等污染物分别维持在4、26、1、8、0.1、1.5 mg/L以下,始终满足《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB 18918—2002)一级A类标准。此外,水处理电费约0.536元/m^(3),药剂费用约0.220元/m^(3),直接运行成本约0.756元/m^(3)。
关键词
半导体行业废水
氟化物
可生化性
改良型A^(2)/O-MBR
Keywords
semiconductor industry wastewater
fluoride
biodegradability
advanced A^(2)/O-MBR
分类号
X703 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
半导体行业废水的反渗透膜污堵机制与控制策略
被引量：
10
2
作者
徐雨晴
巫寅虎
吴乾元
王文龙
熊江磊
罗嘉豪
肖卓远
胡洪营
机构
清华大学环境学院
清华大学深圳国际研究生院
中国电子系统工程第二建设有限公司
清华苏州环境创新研究院
出处
《环境科学研究》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第3期535-545,共11页
基金
国家自然科学基金重点项目(No.51738005)
国家自然科学基金青年科学基金项目(No.51908317)
国家自然科学基金面上项目(No.52070110)。
文摘
半导体行业是我国大力发展的高精尖产业,废水产生量大、再生处理难度高.半导体行业废水再生处理过程中,反渗透(reverse osmosis,RO)是重要的污染物去除单元,但面临的膜污堵问题严重影响了其效率与经济性.本文梳理了半导体行业废水的种类与典型污染物,总结了半导体行业废水导致反渗透膜污堵的主要机制及控制手段,提出了针对半导体行业废水特点的膜污堵控制策略.半导体生产的不同工序会产生多种废水,包括含氟废水、含磷废水、含氨废水、重金属废水、有机废水与酸碱废水等.废水中污染物种类多且可生化性普遍较差.通常,不同种类废水分类经分质收集后,进行相应的预处理,之后部分合流处理并进入RO系统.半导体行业废水中的金属离子或氟离子易在反渗透膜面形成无机结垢,表面活性剂易形成有机污堵.反渗透膜污堵可通过预处理、膜清洗与运行条件调控等手段进行控制,如超滤、EDTA清洗剂与pH调节等,但大部分现有手段对半导体行业废水造成的污堵控制能力有限.建议未来开发针对关键污染物的预处理技术与定制化的膜清洗方案;并结合半导体生产工序,提出针对污染物关键相互作用关系的废水收集与再生处理整体策略.
关键词
半导体行业废水
反渗透膜
膜污堵
关键污染物
重金属
表面活性剂
Keywords
semiconductor industry wastewater
reverse osmosis
membrane fouling
key pollutants
heavy metal
surfactants
分类号
X1 [环境科学与工程—环境科学]
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职称材料
题名
半导体废水中N-甲基-2-吡咯烷酮的潜在风险及去除特性
3
作者
陈晓雯
巫寅虎
黄南
张倬玮
王琦
王文龙
吴乾元
熊江磊
罗嘉豪
于红
胡洪营
机构
清华大学环境学院
北京工业大学
清华大学深圳国际研究生院
中国电子系统工程第二建设有限公司
江苏中电创新环境科技有限公司
清华苏州环境创新研究院
出处
《工业水处理》
北大核心
2025年第4期10-16,26,共8页
基金
国家自然科学基金面上项目(52070110)
国家自然科学基金重大项目(52293440,52293442)。
文摘
N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)作为半导体行业废水中的典型有机物,具有浓度高、降解难等特点,已成为行业重点关注的污染物,所以探明NMP在废水中的赋存特征、潜在风险及降解特性对行业废水的高效低耗处理具有重要意义。总结了半导体废水中NMP的来源、浓度和毒性风险,梳理了NMP的主要处理工艺、去除效果和降解规律,探讨了现有处理工艺存在的主要问题及解决建议。NMP主要来源于半导体制造过程的清洗剂,在半导体废水中具有较高的浓度和较强的生物毒性。现有技术对NMP的处理包括物理分离、生物处理和化学降解等,但存在去除不彻底、产生高毒性中间产物等问题。建议从NMP脱毒工艺开发及强化去除机理等方面开展研究,并着眼于行业链条,结合源头工艺革新和资源化回收,实现对NMP风险的全过程控制。
关键词
半导体行业废水
N-甲基-2-吡咯烷酮
风险控制
Keywords
semiconductor wastewater
N-methyl-2-pyrrolidone
risk control
分类号
X703 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
半导体行业废水处理工程实例与效果分析
涂凌波
《工业水处理》
CAS
CSCD
北大核心
2024
2
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下载PDF
职称材料
2
半导体行业废水的反渗透膜污堵机制与控制策略
徐雨晴
巫寅虎
吴乾元
王文龙
熊江磊
罗嘉豪
肖卓远
胡洪营
《环境科学研究》
CAS
CSCD
北大核心
2023
10
在线阅读
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职称材料
3
半导体废水中N-甲基-2-吡咯烷酮的潜在风险及去除特性
陈晓雯
巫寅虎
黄南
张倬玮
王琦
王文龙
吴乾元
熊江磊
罗嘉豪
于红
胡洪营
《工业水处理》
北大核心
2025
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