期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
4
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
基于SEMI标准的半导体工艺设备功能仿真系统设计
被引量:
3
1
作者
王巍
邹龙庆
+3 位作者
徐华
李搏
贾培发
李垒
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期599-604,共6页
设计实现了一个基于SEMI标准的半导体工艺设备仿真平台,该平台具有通用可配置特性。在该平台的基础上,构建了一套基于SEMI标准的气路功能仿真系统,该气路仿真系统包含了功能层、逻辑层和外部通信接口层,既能满足单独设备的功能仿真需求...
设计实现了一个基于SEMI标准的半导体工艺设备仿真平台,该平台具有通用可配置特性。在该平台的基础上,构建了一套基于SEMI标准的气路功能仿真系统,该气路仿真系统包含了功能层、逻辑层和外部通信接口层,既能满足单独设备的功能仿真需求,也能对整个系统的功能进行仿真验证。该系统实现了对物理气相沉积(PVD)系统中,气路中阀门的闭合动作及气流变化等的实时仿真分析。
展开更多
关键词
功能仿真
物理气相沉积系统
半导体工艺设备
SEMI标准
在线阅读
下载PDF
职称材料
半导体工艺设备的最新动向
2
作者
郑国强
《电子工业专用设备》
1995年第4期48-54,共7页
本文概述了美、日、韩三国的半导体产业的发展情况。重点阐述半导体工艺设备的最新发展动向及与此相对应的VLSI器件技术。1995年,半导体工艺设备发展的特点是;大口径化,设备标准化,生产成本的降低等。
关键词
半导体工艺设备
大直径圆片
设备
标准化
在线阅读
下载PDF
职称材料
碳化硅工艺炉过温保护系统设计与研究
3
作者
文正
黄心沿
+3 位作者
杨金
盛旭
禹庆荣
黄影
《电子工业专用设备》
2023年第3期10-14,共5页
半导体材料加工的过程中,温度作为非常重要的因素将直接影响工艺质量及设备的稳定性与安全性。半导体工艺设备为防止超温,设计了过温保护系统。通过详述过温保护系统的工作原理、核心线路、控制回路与产品验证的相关过程,证明该过温保...
半导体材料加工的过程中,温度作为非常重要的因素将直接影响工艺质量及设备的稳定性与安全性。半导体工艺设备为防止超温,设计了过温保护系统。通过详述过温保护系统的工作原理、核心线路、控制回路与产品验证的相关过程,证明该过温保护系统性能良好,能安全、稳定、高效的运行。
展开更多
关键词
碳化硅
过温保护系统
半导体
材料
半导体工艺设备
在线阅读
下载PDF
职称材料
晶片级封装获得发展动力
4
作者
田惠娟
《电子与封装》
2001年第2期50-52,共3页
1引言 半导体封装正朝着晶片级发展,因为晶片级封装可降低封装产品的成本.标准的半导体工艺设备,使其生产周期缩短而不易被淘汰并具有良好的性能和较低的成本.
关键词
半导体工艺设备
成本
DRAM
CSP
财政管理
倒装芯片
封装技术
晶片
焊盘
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
基于SEMI标准的半导体工艺设备功能仿真系统设计
被引量:
3
1
作者
王巍
邹龙庆
徐华
李搏
贾培发
李垒
机构
重庆邮电大学光电工程学院
清华大学清华信息科学与技术国家实验室
出处
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第4期599-604,共6页
基金
02号国家科技重大专项(2009ZX02001-003)
国家自然科学基金(60875073)
文摘
设计实现了一个基于SEMI标准的半导体工艺设备仿真平台,该平台具有通用可配置特性。在该平台的基础上,构建了一套基于SEMI标准的气路功能仿真系统,该气路仿真系统包含了功能层、逻辑层和外部通信接口层,既能满足单独设备的功能仿真需求,也能对整个系统的功能进行仿真验证。该系统实现了对物理气相沉积(PVD)系统中,气路中阀门的闭合动作及气流变化等的实时仿真分析。
关键词
功能仿真
物理气相沉积系统
半导体工艺设备
SEMI标准
Keywords
device function simulation
physical vapor deposition (PVD) system
semiconductor manufacturing equipment
SEMI standard
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TP39 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
半导体工艺设备的最新动向
2
作者
郑国强
机构
电子工业部第
出处
《电子工业专用设备》
1995年第4期48-54,共7页
文摘
本文概述了美、日、韩三国的半导体产业的发展情况。重点阐述半导体工艺设备的最新发展动向及与此相对应的VLSI器件技术。1995年,半导体工艺设备发展的特点是;大口径化,设备标准化,生产成本的降低等。
关键词
半导体工艺设备
大直径圆片
设备
标准化
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
碳化硅工艺炉过温保护系统设计与研究
3
作者
文正
黄心沿
杨金
盛旭
禹庆荣
黄影
机构
中国电子科技集团公司第四十八研究所
湖南红太阳光电科技有限公司
出处
《电子工业专用设备》
2023年第3期10-14,共5页
文摘
半导体材料加工的过程中,温度作为非常重要的因素将直接影响工艺质量及设备的稳定性与安全性。半导体工艺设备为防止超温,设计了过温保护系统。通过详述过温保护系统的工作原理、核心线路、控制回路与产品验证的相关过程,证明该过温保护系统性能良好,能安全、稳定、高效的运行。
关键词
碳化硅
过温保护系统
半导体
材料
半导体工艺设备
Keywords
SiC
Over-tempprotectionsystem
Semiconductormaterial
Semiconductorprocessequipment
分类号
TN304.05 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
晶片级封装获得发展动力
4
作者
田惠娟
出处
《电子与封装》
2001年第2期50-52,共3页
文摘
1引言 半导体封装正朝着晶片级发展,因为晶片级封装可降低封装产品的成本.标准的半导体工艺设备,使其生产周期缩短而不易被淘汰并具有良好的性能和较低的成本.
关键词
半导体工艺设备
成本
DRAM
CSP
财政管理
倒装芯片
封装技术
晶片
焊盘
分类号
TN305.94 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于SEMI标准的半导体工艺设备功能仿真系统设计
王巍
邹龙庆
徐华
李搏
贾培发
李垒
《电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
半导体工艺设备的最新动向
郑国强
《电子工业专用设备》
1995
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
碳化硅工艺炉过温保护系统设计与研究
文正
黄心沿
杨金
盛旭
禹庆荣
黄影
《电子工业专用设备》
2023
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
晶片级封装获得发展动力
田惠娟
《电子与封装》
2001
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部