近日，宏力半导体制造有限公司发布其先进的0．18微米RFCMOS工艺设计工具包（PDK）。该PDK是与Sentinel IC Technologies（Sentinel）独家合作提供的。这个PDK建立在先进的模型与模拟平台上，集成了具备射频领域核心特性的创新的、完全...近日，宏力半导体制造有限公司发布其先进的0．18微米RFCMOS工艺设计工具包（PDK）。该PDK是与Sentinel IC Technologies（Sentinel）独家合作提供的。这个PDK建立在先进的模型与模拟平台上，集成了具备射频领域核心特性的创新的、完全可扩展参数的设计单元（PCELLS）。这一组合使设计者能够最大限度地提高芯片性能和降低芯片尺寸，同时大大缩短设计周期。展开更多
文摘近日，宏力半导体制造有限公司发布其先进的0．18微米RFCMOS工艺设计工具包（PDK）。该PDK是与Sentinel IC Technologies（Sentinel）独家合作提供的。这个PDK建立在先进的模型与模拟平台上，集成了具备射频领域核心特性的创新的、完全可扩展参数的设计单元（PCELLS）。这一组合使设计者能够最大限度地提高芯片性能和降低芯片尺寸，同时大大缩短设计周期。
文摘对一种适用于106.68cm PDP扫描驱动IC的HV-PMOS器件进行了分析研究。通过使用TCAD软件对HV-PMOS进行了综合仿真,得到了器件性能最优时的结构参数及工艺参数。HV-PMOS器件及整体扫描驱动IC在杭州士兰集成电路公司完成流片。PCM(Process control module)片上的HV-PMOS击穿电压达到了185V,阈值为6.5V。整体扫描驱动芯片的击穿电压达到了180V,满足了设计要求。
