-
题名半导体制程设备铝合金涂层腐蚀失效行为研究进展
- 1
-
-
作者
赵阳
王宇航
张涛
王福会
-
机构
东北大学数字钢铁全国重点实验室
-
出处
《东北大学学报(自然科学版)》
北大核心
2025年第3期28-45,共18页
-
基金
国家自然科学基金资助项目(52371055).
-
文摘
在半导体制程设备中,在高温、真空、强腐蚀气体及其等离子体耦合作用下,铝合金涂层极易发生失效.在氯基等离子体中,阳极氧化涂层极易被刻蚀去除,Y_(2)O_(3)涂层的刻蚀速率约为阳极氧化涂层的1/50;在氟基等离子体中,阳极氧化涂层和Y_(2)O_(3)涂层均存在氟化物层剥落导致的颗粒问题.通过调节电解液的成分/温度、制备纯铝层可提高阳极氧化涂层的耐蚀性能,提高Y_(2)O_(3)涂层的致密性同样可降低涂层的刻蚀速率,结合远程等离子体清洗技术,避免带电粒子轰击腔室材料,可显著减少反应腔室中颗粒的产生.在刻蚀和薄膜沉积过程中,腔室表面成分发生变化,进而改变等离子体状态,将引发多种工艺缺陷.
-
关键词
半导体制程设备
阳极氧化涂层
Y_(2)O_(3)涂层
腐蚀失效行为
卤素气体
等离子体
-
Keywords
semiconductor fabrication equipment
anodized coating
Y_(2)O_(3)coating
corrosion fatigue behavior
halogen gas
plasma
-
分类号
TG178
[金属学及工艺—金属表面处理]
-
