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题名静态混合器在十二烷基硫酸铵生产中应用
被引量：1
- 1
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作者
黄风琴
连雅玲
张军会
唐东亮
王金山
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机构
长治澳尼克合成化学有限公司
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出处
《日用化学工业》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第3期72-74,共3页
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文摘
介绍了连续生产十二烷基硫酸铵的生产工艺 ,并与间歇法生产的工艺及产品质量指标作了对比 ,叙述了利用静态混合器生产十二烷基硫酸铵的优越性。
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关键词
静态混合器
十二烷基硫酸铵
弱酸性
阴离子表面活性剂
生产
应用
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Keywords
surfactant
fatty alcohol ammonium sulfate,motionless mixer
production
application
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分类号
TQ423.11
[化学工程]
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题名氨基磺酸法合成十二烷基硫酸铵
被引量：1
- 2
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作者
姚志钢
张越慧
雷小平
刘伯平
肖勇华
黄多生
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机构
湖南省邵阳高专化轻系
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出处
《日用化学工业》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期53-60,共8页
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文摘
十二烷基硫酸铵，化学结构式为：Ｃ１２Ｈ２５－ＯＳＯ３ＮＨ４，简称为ＬＳＡ，若采用天然椰油醇为原料所得产品也简称为ＬＳＡ。这种产品为弱酸性温和型阴离子表面活性剂，与十二烷基硫酸钠（ＡＳ或称Ｋ１２）相比，它具有刺激性低、溶解性好、泡沫丰富、脱脂率低等特点...
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关键词
氨基磺酸法
十二烷基硫酸铵
硫酸铵
表面活性剂
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分类号
TQ423.11
[化学工程]
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题名碱性铜精抛液中表面活性剂ADS对平坦化效果的影响
被引量：6
- 3
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作者
王彦
王胜利
王辰伟
田胜骏
腰彩红
田骐源
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机构
河北工业大学电子信息工程学院
天津市电子材料与器件重点实验室
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出处
《半导体技术》
CSCD
北大核心
2017年第11期838-843,共6页
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基金
国家科技重大专项子课题资助项目(2016ZX02301003-004-007)
河北省自然科学基金青年基金资助项目(F2015202267)
河北工业大学优秀青年科技创新基金资助项目(2015007)
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文摘
研究了阴离子表面活性剂十二烷基硫酸铵(ADS)在弱碱性铜抛光液中对晶圆平坦化效果的影响。对不同质量分数的阴离子表面活性剂ADS下的抛光液表面张力、铜去除速率、抛光后铜膜的碟形坑高度、晶圆片内非均匀性和表面粗糙度进行了测试。实验结果表明,当阴离子表面活性剂ADS的质量分数为0.2%时,抛光液的表面张力降低,铜的去除速率为202.5 nm·min^(-1),去除速率片内非均匀性减小到4.15%,抛光后铜膜的碟形坑高度从132 nm降低到68.9 nm,表面粗糙度减小到1.06 nm。与未添加表面活性剂相比,晶圆表面的平坦化效果得到改善。
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关键词
铜精抛液
化学机械抛光(CMP)
十二烷基硫酸铵(ADS)
片内非均匀性(WIWNU)
平坦化
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Keywords
copper precise polishing
chemical mechanical polishing （CMP）
ammonium dodecyl sulfate （ADS）
within-wafer non-uniformity （WIWNU）
planarization
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分类号
TN305.2
[电子电信—物理电子学]
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