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图案表面粗糙度对有机分子区域选择性生长的影响
1
作者
聂青苗
石亮
+5 位作者
汪长超
蒋悦
陈乃波
胡来归
王文冲
鄢波
《浙江工业大学学报》
北大核心
2025年第1期52-57,共6页
区域选择性生长(ASG),即有机分子在预图案表面上的自组装技术,在有机微/纳米图案化方面具有巨大的发展潜力。为了研究图案表面粗糙度在ASG中的明确作用,在粗粒化各向异性相互作用的动力学蒙特卡罗(KMC)模型中引入了无序强度参数描述图...
区域选择性生长(ASG),即有机分子在预图案表面上的自组装技术,在有机微/纳米图案化方面具有巨大的发展潜力。为了研究图案表面粗糙度在ASG中的明确作用,在粗粒化各向异性相互作用的动力学蒙特卡罗(KMC)模型中引入了无序强度参数描述图案表面粗糙度,进一步模拟了有机分子在不同表面粗糙度图案上的沉积行为。研究结果表明图案表面粗糙度会影响有机分子沉积形貌:表面越光滑,图案顶部生长的薄膜越厚;相反,当图案表面变得更粗糙时,粒子更倾向于以台阶边缘诱导的方式生长在图案的间隔处,与实验结果高度吻合。由此可见粗糙度可用于控制有机图案的成核分配,以实现不同的应用,如全彩显示器和微透镜阵列。
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关键词
区域选择性生长
动力学蒙特卡罗
有机分子
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职称材料
题名
图案表面粗糙度对有机分子区域选择性生长的影响
1
作者
聂青苗
石亮
汪长超
蒋悦
陈乃波
胡来归
王文冲
鄢波
机构
浙江工业大学理学院
复旦大学信息科学与技术学院
明斯特大学纳米技术物理研究所和中心
出处
《浙江工业大学学报》
北大核心
2025年第1期52-57,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(62074040)
上海市自然科学基金资助项目(20ZR1404000)。
文摘
区域选择性生长(ASG),即有机分子在预图案表面上的自组装技术,在有机微/纳米图案化方面具有巨大的发展潜力。为了研究图案表面粗糙度在ASG中的明确作用,在粗粒化各向异性相互作用的动力学蒙特卡罗(KMC)模型中引入了无序强度参数描述图案表面粗糙度,进一步模拟了有机分子在不同表面粗糙度图案上的沉积行为。研究结果表明图案表面粗糙度会影响有机分子沉积形貌:表面越光滑,图案顶部生长的薄膜越厚;相反,当图案表面变得更粗糙时,粒子更倾向于以台阶边缘诱导的方式生长在图案的间隔处,与实验结果高度吻合。由此可见粗糙度可用于控制有机图案的成核分配,以实现不同的应用,如全彩显示器和微透镜阵列。
关键词
区域选择性生长
动力学蒙特卡罗
有机分子
Keywords
area-selective growth
Kinetic Monte Carlo
organic molecules
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TN304.5 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
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1
图案表面粗糙度对有机分子区域选择性生长的影响
聂青苗
石亮
汪长超
蒋悦
陈乃波
胡来归
王文冲
鄢波
《浙江工业大学学报》
北大核心
2025
0
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