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化学还原法制备六方B-C-N化合物
1
作者
孙广
吴庆华
+1 位作者
胡前库
于栋利
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期1067-1069,共3页
采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),选区电子衍射(SAED),电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征.分析结...
采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),选区电子衍射(SAED),电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征.分析结果表明,所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构,其成分为B_(0.5)C_(0.07)N_(0.43).
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关键词
六方B-C-N化合物
化学还原法合成
XRD
电子能量损失谱
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职称材料
题名
化学还原法制备六方B-C-N化合物
1
作者
孙广
吴庆华
胡前库
于栋利
机构
河南理工大学材料科学与工程学院
燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期1067-1069,共3页
基金
国家重点基础研究发展计划(973)(2005CB724400)
国家自然科学基金(50532020)
文摘
采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),选区电子衍射(SAED),电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征.分析结果表明,所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构,其成分为B_(0.5)C_(0.07)N_(0.43).
关键词
六方B-C-N化合物
化学还原法合成
XRD
电子能量损失谱
Keywords
hexagonal B-C-N compound
chemical reduction synthesis method
X-ray diffraction
electron energy loss spectroscopy
分类号
O613 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
化学还原法制备六方B-C-N化合物
孙广
吴庆华
胡前库
于栋利
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
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