期刊文献+
共找到206篇文章
< 1 2 11 >
每页显示 20 50 100
微波等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜的研究及应用进展
1
作者 刘富成 马莞杰 +3 位作者 黄江涛 张宗雁 韩培刚 何斌 《金刚石与磨料磨具工程》 北大核心 2025年第3期285-299,F0003,共16页
近年来,随着化学气相沉积(CVD)制备金刚石技术的发展,关于金刚石的研究与应用受到越来越多的关注。目前,主要的CVD技术有微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)、热丝化学气相沉积、直流电弧等离子体喷射化学气相沉积和热阴极等离子体化学气... 近年来,随着化学气相沉积(CVD)制备金刚石技术的发展,关于金刚石的研究与应用受到越来越多的关注。目前,主要的CVD技术有微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)、热丝化学气相沉积、直流电弧等离子体喷射化学气相沉积和热阴极等离子体化学气相沉积等。MPCVD技术因其生长的金刚石品质高,被认为是制备大面积、高质量金刚石厚膜的最佳方法。首先介绍MPCVD的基本原理和设备,比较几种主要MPCVD技术的优缺点,并对国内外的研究进展进行总结,包括金刚石生长工艺的研究,特别是国内外单晶/多晶金刚石厚膜的制备研究,然后总结近年来金刚石厚膜在电子、光学、热沉等高新技术领域的应用,最后对金刚石厚膜的发展前景进行展望。 展开更多
关键词 金刚石厚膜 微波等离子体化学沉积(MPcvd) cvd设备
在线阅读 下载PDF
制备参数和退火对激光诱导化学汽相沉积合成纳米硅的粒径和红外光谱的影响 被引量:10
2
作者 梁礼正 张海燕 +3 位作者 何艳阳 陈可心 王卫乡 刘颂豪 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2001年第5期382-386,共5页
用激光诱导化学汽相沉积 (LICVD)法制备纳米硅 ,发现 :激光强度存在低限阈值 ,SiH4的流速存在着高限阈值 ,二者正相关 ,以维持SiH4 裂解所需的高温。为了使纳米硅粒小而均匀 ,应加大激光强度 ,并相应加快SiH4 的流速 ,以提高纳米硅粒的... 用激光诱导化学汽相沉积 (LICVD)法制备纳米硅 ,发现 :激光强度存在低限阈值 ,SiH4的流速存在着高限阈值 ,二者正相关 ,以维持SiH4 裂解所需的高温。为了使纳米硅粒小而均匀 ,应加大激光强度 ,并相应加快SiH4 的流速 ,以提高纳米硅粒的成核率 ,减少每一个纳米硅核所吸收的硅原子数 ,并缩短每一个纳米硅核的生长期。纳米硅制取后退火脱H ,纳米硅的红外吸收光谱发生变化 :4条特征吸收带的位置、强度和形状各有改变。这是因为纳米硅的表面积很大 ,表面氧化使组态改变。为了减轻这样的氧化 ,纳米硅应在Ar气氛中而不是在空气中退火 ,并且开始退火的温度低于 30 0℃。 展开更多
关键词 激光诱导 化学沉积 纳米硅粉 红外光谱 粒径 退火
在线阅读 下载PDF
中温化学气相沉积(MTCVD)工艺技术及超级涂层材料的研究 被引量:14
3
作者 李建平 高见 +1 位作者 曾祥才 马文存 《工具技术》 北大核心 2004年第9期72-75,共4页
采用MT CVD工艺技术 ,用CH3 CN等含有C/N原子团的有机化合物 ,在 70 0~ 90 0℃沉积组织致密、层间结合强度好、柱状结晶的超级TiCN涂层。研究了沉积温度、压力、不同气体流量等工艺参数对TiCN涂层组织结构及性能的影响规律 ;分析了超... 采用MT CVD工艺技术 ,用CH3 CN等含有C/N原子团的有机化合物 ,在 70 0~ 90 0℃沉积组织致密、层间结合强度好、柱状结晶的超级TiCN涂层。研究了沉积温度、压力、不同气体流量等工艺参数对TiCN涂层组织结构及性能的影响规律 ;分析了超级涂层材料设计机理和结构 ,给出了在经过改造的高温化学气相沉积 (HT CVD)设备上应用HT CVD和MT 展开更多
关键词 涂层材料 cvd TiCN涂层 中温 硬质合金刀片 化学沉积 工艺参数 工艺技术 结晶 研究
在线阅读 下载PDF
常压化学汽相沉积TiO_x纳米光学薄膜及其用于太阳电池减反射膜的研究 被引量:5
4
作者 杨宏 王鹤 +3 位作者 于化丛 奚建平 胡宏勋 陈光德 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期437-440,共4页
报道了用常压化学汽相沉积 (APCVD)工艺制备TiOx 纳米光学薄膜的研究结果 ,讨论了衬底温度对薄膜结构及折射率的影响 ,实验验证了太阳电池对光学减反射膜的理论要求 ,优化了工艺条件 ,制备的TiOx 纳米光学薄膜性能稳定 ,大面积颜色均匀... 报道了用常压化学汽相沉积 (APCVD)工艺制备TiOx 纳米光学薄膜的研究结果 ,讨论了衬底温度对薄膜结构及折射率的影响 ,实验验证了太阳电池对光学减反射膜的理论要求 ,优化了工艺条件 ,制备的TiOx 纳米光学薄膜性能稳定 ,大面积颜色均匀一致。采用该工艺制备的TiOx 减反射膜能使单晶硅太阳电池光电转换效率平均增加 10 %。 展开更多
关键词 常压化学沉积 光学薄膜 减反射膜 钛氧化合物 太阳能电池
在线阅读 下载PDF
聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合 被引量:7
5
作者 孙霞容 浦鸿汀 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第3期54-56,53,共4页
采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了... 采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了底物温度和沉积舱压力等主要因素对膜沉积率的影响和膜的一些主要性能,并讨论了典型的Parylene N膜的光氧降解性能。 展开更多
关键词 聚对苯撑二甲基膜 化学沉积 cvd 光氧降解性能 化学结构 高分子材料
在线阅读 下载PDF
光化学汽相沉积中光激活物质的理论解析 被引量:3
6
作者 李培咸 孙建诚 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第1期78-81,共4页
基于光激活物质空间迁移长度的概念,推导出方形反应空间中到达基片上单位面积的光激活物质总数的解析表达式,对光化学汽相沉积中淀积速率和基片位置的关系进行了模拟和分析. 模拟结果同实验结果符合良好.
关键词 迁移长度 半导体 光激活物质 化学沉积
在线阅读 下载PDF
激光化学汽相沉积球面微透镜的研究
7
作者 姚惠贞 宋国瑞 蒋中钢 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1995年第8期43-47,共5页
本文介绍了一种新颖的利用激光化学汽相沉积(LCV)球面微透镜的技术。我们建立了一套LCVD的实验装置,用该装置在平面石英玻璃衬底上,成功地沉积生成了平凸型氨化硅球面微透镜。同时,还对沉积成的微透镜的参量进行了测试。在... 本文介绍了一种新颖的利用激光化学汽相沉积(LCV)球面微透镜的技术。我们建立了一套LCVD的实验装置,用该装置在平面石英玻璃衬底上,成功地沉积生成了平凸型氨化硅球面微透镜。同时,还对沉积成的微透镜的参量进行了测试。在实验中还摸索了LCVD的沉积工艺。实验结果表明,通过控制源气体的化学配比与浓度,调节激光功率与衬底上的聚焦激光光斑尺寸,选择沉积时间,可以获得不同直径、透明、表面光滑的平凸型氮化硅球面微透镜。 展开更多
关键词 化学沉积 微透镜 球面微透镜 激光
在线阅读 下载PDF
TiN 类薄膜的激光化学汽相沉积
8
作者 张鸿俭 夏德顺 张鹤 《导弹与航天运载技术》 1998年第6期32-37,共6页
在Ti和Ti合金表面镀上一层薄膜以提高它的硬度、耐磨性及耐蚀性等是很有意义的。研究了用激光化学汽相沉积的方法在Ti和Ti-6Al-4V基体材料上沉积TiN、TiC、Ti(C.N)薄膜的工艺,并获得了良好膜层的最佳工艺... 在Ti和Ti合金表面镀上一层薄膜以提高它的硬度、耐磨性及耐蚀性等是很有意义的。研究了用激光化学汽相沉积的方法在Ti和Ti-6Al-4V基体材料上沉积TiN、TiC、Ti(C.N)薄膜的工艺,并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学汽相沉积(LCVD)方法制备成功的TiN类薄膜颜色金黄,成份均匀,其平均显微硬度为2500HK,耐磨性比基体材料提高6倍。 展开更多
关键词 薄膜 钛合金 化学沉积 氮化钛
在线阅读 下载PDF
利用等离子增强化学汽相沉积生长初期快速结晶的纳米晶硅(英文) 被引量:2
9
作者 金聖雄 金原奭 +2 位作者 柳在一 李禹奉 李貞烈 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期433-438,共6页
成功地利用传统的等离子增强化学汽相沉积技术制备了纳米晶硅。为了提高生长初期的结晶速度,在PECVD设备和干法刻蚀设备中,利用H2/SF6等离子体对Si Nx薄膜表面进行处理。在制备纳米/微米晶粒结晶硅时常用的氢气稀释条件下,沉积得到了纳... 成功地利用传统的等离子增强化学汽相沉积技术制备了纳米晶硅。为了提高生长初期的结晶速度,在PECVD设备和干法刻蚀设备中,利用H2/SF6等离子体对Si Nx薄膜表面进行处理。在制备纳米/微米晶粒结晶硅时常用的氢气稀释条件下,沉积得到了纳米晶硅。利用XRD和TEM观察了氢化纳米晶硅(nc-Si∶H)的微结构,发现实验成功得到了小于10 nm的晶体硅。为了检测结构和电学特性,测试了纳米晶硅薄膜的亮态和暗态电导率。室温下,电导率从非晶硅的10-10S/cm增加到10-5S/cm。 展开更多
关键词 薄膜 纳米晶硅 等离子增强化学沉积 电导率
在线阅读 下载PDF
用化学气相沉积(CVD)法制备硫化锌(ZnS)体块材料中晶体缺陷和生长工艺的研究 被引量:10
10
作者 闫泽武 王和明 +3 位作者 蔡以超 杨耀源 东艳苹 范志达 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期111-113,共3页
本文报道了用化学气相沉积 (CVD)法制备高质量红外光学体块材料硫化锌 (ZnS)的制备工艺 ,研究了晶体缺陷对其光学性能的影响。XRD ,XEM及IR表明 ,采用优化的沉积工艺和热等静压后处理 ,减少晶体中杂质、微孔、六方结构ZnS及Zn H键的形... 本文报道了用化学气相沉积 (CVD)法制备高质量红外光学体块材料硫化锌 (ZnS)的制备工艺 ,研究了晶体缺陷对其光学性能的影响。XRD ,XEM及IR表明 ,采用优化的沉积工艺和热等静压后处理 ,减少晶体中杂质、微孔、六方结构ZnS及Zn H键的形成 ,使生长的CVDZnS具有高的红外透过率 。 展开更多
关键词 cvd 制备 体块材料 晶体缺陷 晶体生长工艺 研究 化学沉积 硫化锌 热等静压 红外透过率
在线阅读 下载PDF
化学气相沉积(CVD)工艺对ZnS力学性能影响的研究 被引量:1
11
作者 李冬旭 魏乃光 +8 位作者 蒋立朋 黎建明 杨海 张鹏飞 牛延星 田智瑞 郭立 杨建纯 刘晓华 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2019年第8期1430-1437,共8页
介绍了化学气相沉积法(CVD)制备ZnS过程中,CVD工艺对材料相关力学性能的影响和控制方法。通过X射线衍射分析、扫描电镜和金相显微镜等手段研究了不同工艺下制备的ZnS样品材料的内部结构和缺陷,提出了ZnS生长过程中晶粒尺寸和材料缺陷的... 介绍了化学气相沉积法(CVD)制备ZnS过程中,CVD工艺对材料相关力学性能的影响和控制方法。通过X射线衍射分析、扫描电镜和金相显微镜等手段研究了不同工艺下制备的ZnS样品材料的内部结构和缺陷,提出了ZnS生长过程中晶粒尺寸和材料缺陷的控制方法。研究结果表明,设计合理的喷嘴结构,营造稳定的CVD生长环境,提高CVDZnS毛坯一致性,抑制材料缺陷形成,有助于提升ZnS材料力学相关性能。 展开更多
关键词 化学沉积法(cvd) 晶粒尺寸 喷射结构 力学性能
在线阅读 下载PDF
化学汽相沉积制作氧化锡电热薄膜研究
12
作者 苑平 王学铭 《郑州轻工业学院学报》 1996年第3期31-33,共3页
利用化学汽相沉积原理,使用简单设备制作氧化锡半导体薄膜。
关键词 化学沉积 化合物半导体 掺杂 氧化锡 电热薄膜
在线阅读 下载PDF
化学气相沉积(CVD)法制晶体金刚石的机理
13
作者 K.E.Spear M.Frenklach 立早 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 1990年第2期60-61,共2页
引言现在正用低压气体来制造晶体金刚石而不是过去传统考虑的高温高压。生产金刚石的气相沉积过程所用的温度和压力条件对碳来说其稳定形式是石墨。然而。
关键词 化学沉积 晶体 金刚石 cvd
在线阅读 下载PDF
第三届化学气相沉积(CVD)学术会议征集论文
14
《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1989年第1期70-70,共1页
根据中国真空学会薄膜专业委员会一九八九年工作计划的安排,将于一九八九年十月在湖南召开全国第三届化学气相沉积(CVD)学术会议。薄膜专业委员会主持召开的第一届化学气相沉积(CVD)学术会议于一九八五年在上海举行。
关键词 化学沉积 cvd 学术会议 薄膜技术 中国真空学会 生长机理 非晶半导体 绝缘膜 一九 专题述评
在线阅读 下载PDF
三正丁基膦稳定的铜(Ⅰ)β-二酮配合物的合成、表征以及作为前驱物用化学汽相沉积法生长铜膜(英文)
15
作者 沈应中 Marion Leschke +3 位作者 Stefan E. Schulz Ramona Ecke Thomas Gessner Heinrich Lang 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1257-1264,共8页
合成了一系列三正丁基膦辅助配体稳定的铜髣β鄄二酮配合物,对合成的配合物用元素分析、红外、核磁共振以及热重和差热等手段进行了表征。筛选出性能优良的配合物为前驱物用化学汽相沉积(CVD)的方法生长出金属铜膜,用SEM和EDX等手段对... 合成了一系列三正丁基膦辅助配体稳定的铜髣β鄄二酮配合物,对合成的配合物用元素分析、红外、核磁共振以及热重和差热等手段进行了表征。筛选出性能优良的配合物为前驱物用化学汽相沉积(CVD)的方法生长出金属铜膜,用SEM和EDX等手段对生长的铜膜进行了表征。 展开更多
关键词 三正丁基膦 铜配合物 Β-二酮 合成 前驱物 化学沉积 铜膜 热分析 扫描电镜 ×-射线能量散射
在线阅读 下载PDF
石墨烯的化学气相沉积法制备及其表征 被引量:25
16
作者 邹鹏 石文荣 +1 位作者 杨书华 黄德欢 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期264-267,共4页
石墨烯是由sp2杂化的碳原子键合而成的具有六边形蜂窝状晶格结构的二维原子晶体,其具有电学、力学和光学等方面一系列优良性能,使得它在各个领域的应用一直被人们所关注。然而,石墨烯的工业化制备仍然面临着巨大的挑战。本文采用化学气... 石墨烯是由sp2杂化的碳原子键合而成的具有六边形蜂窝状晶格结构的二维原子晶体,其具有电学、力学和光学等方面一系列优良性能,使得它在各个领域的应用一直被人们所关注。然而,石墨烯的工业化制备仍然面临着巨大的挑战。本文采用化学气相沉积法(CVD)制备石墨烯,并用拉曼光谱、高分辨率扫描电镜和X射线多晶衍射对其进行了分析和表征。研究结果表明,用CVD法制备石墨烯具有工业化的可能。 展开更多
关键词 石墨烯 化学沉积法(cvd) 制备 表征
在线阅读 下载PDF
铝表面化学气相沉积SiO_x膜层的显微结构和性能 被引量:4
17
作者 张际亮 郦剑 +3 位作者 沃银花 王幼文 沈复初 甘正浩 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期961-966,共6页
采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层。使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能。结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层... 采用低温常压化学气相沉积(CVD)方法在铝基底上制备了硅氧化物陶瓷膜层。使用SEM、XPS、AFM、XRD、HRTEM和UV VIS等技术分析了膜层的形貌、成分和组织结构特征,测试了膜层的孔隙率、光学和显微力学性能。结果表明:硅氧化物SiOx陶瓷膜层在铝基表面以气相反应沉积硅氧化物颗粒—颗粒嵌镶堆垛—融合长大的方式生成,大部分膜层为非晶态区域,其中包含少量局部有序区域,SiOx中的硅氧原子比为1∶1.60~1∶1.75,膜层疏松多孔,具有很高的紫外可见光吸收率,膜层与基底具有很好的结合性。 展开更多
关键词 化学沉积(cvd) 铝基 SiOx膜层 性能
在线阅读 下载PDF
化学气相沉积传质现象的研究与反应器设计、工艺参数的优化 被引量:3
18
作者 赵康 鄢君辉 +1 位作者 刘正堂 郑修麟 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期13-15,共3页
介绍了化学气相沉积(CVD)中的传质现象研究的最新进展,从传质方程的建立到边界条件确定都进行了详细的介绍,并举例说明了数值分析的结果对反应器设计与工艺参数的优化的指导作用。
关键词 化学沉积 传质现象 cvd 反应器设计
在线阅读 下载PDF
化学气相沉积金刚石薄膜的摩擦学性能研究进展 被引量:7
19
作者 李红轩 胡丽天 陈建敏 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2003年第1期143-146,共4页
介绍了化学气相沉积金刚石薄膜的主要方法 ,着重讨论了金刚石薄膜的摩擦学性能研究 ,简要分析了化学气相沉积金刚石薄膜中存在的问题。
关键词 化学沉积 金刚石薄膜 摩擦学性能 cvd 制备
在线阅读 下载PDF
偏压对低气压等离子体增强化学气相沉积TiO_2薄膜的结构和性能的影响 被引量:4
20
作者 刘伟 李岩 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期103-107,共5页
使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP(Ti(OC3H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉... 使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP(Ti(OC3H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉冲偏压的情况下成膜的比较.在沉积的过程中,利用USB-2000型光纤光谱仪对等离子体的发射光谱进行测量,定性分析等离子体沉积过程中的成分组成.用UV-1901探讨薄膜的光学特性,发现紫外和近紫外区域有一定吸收;用扫描电镜分析薄膜表面形貌的变化,可以看到偏压下的薄膜致密无孔,而远离偏压下的薄膜形貌粗糙;用红外光谱分析薄膜的结构组成,可以看到明显的Ti—O吸收峰.脉冲偏压下得到的薄膜在化学、光学以及电学方面有很好应用前景. 展开更多
关键词 TiO2 等离子体 脉冲偏压 等离子体增强化学沉积(PE—cvd)
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 11 下一页 到第
使用帮助 返回顶部