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快响应化学气相沉积金刚石软X射线探测器的研制 被引量:2
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作者 李芳 侯立飞 +2 位作者 苏春晓 杨国洪 刘慎业 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1404-1406,共3页
利用高品质化学气相沉积(CVD)金刚石,采用微带线结构研制了CVD金刚石软X射线探测器。利用脉宽为10 ps的激光器进行了探测器响应时间的测量,获得半宽度为115 ps的信号,经过计算得到CVD金刚石探测器的上升时间为49 ps。在激光原型装置实验... 利用高品质化学气相沉积(CVD)金刚石,采用微带线结构研制了CVD金刚石软X射线探测器。利用脉宽为10 ps的激光器进行了探测器响应时间的测量,获得半宽度为115 ps的信号,经过计算得到CVD金刚石探测器的上升时间为49 ps。在激光原型装置实验中,通过与软X射线能谱仪测量结果的相互比对,证实所研制的CVD金刚石探测器是一种响应时间快、信噪比高、性能可靠的软X射线探测器。 展开更多
关键词 ICF 化学气相沉积金刚石 软X射线探测器 响应时间 上升时间
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化学气相沉积金刚石X射线探测器相对标定 被引量:2
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作者 侯立飞 李志超 +3 位作者 袁永腾 况龙钰 杨国洪 刘慎业 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期1871-1873,共3页
利用神光Ⅱ激光装置,开展了化学气相沉积金刚石X射线探测器的相对标定技术研究。实验得到了金刚石X射线探测器与已绝对标定的平响应X射线二极管对X射线辐射的测量结果,计算得到金刚石X射线探测器平均灵敏度为1.196×10-5C/J,不同发... 利用神光Ⅱ激光装置,开展了化学气相沉积金刚石X射线探测器的相对标定技术研究。实验得到了金刚石X射线探测器与已绝对标定的平响应X射线二极管对X射线辐射的测量结果,计算得到金刚石X射线探测器平均灵敏度为1.196×10-5C/J,不同发次得到的灵敏度与平均值之间的偏差不大于13%。 展开更多
关键词 化学气相沉积金刚石 标定 X射线辐射测量 灵敏度
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高频激光对化学气相沉积金刚石的大切深实验 被引量:4
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作者 王吉 章鹏 +2 位作者 张天润 曹小文 张文武 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第1期89-95,共7页
为了提高化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石的切深,采用新型的声光调制高重复频率激光器,研究了激光功率、焦点位置、激光重复频率、切割线速度以及激光横膜模式对CVD金刚石切缝宽度、切深以及表面粗糙度的影响。研究... 为了提高化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石的切深,采用新型的声光调制高重复频率激光器,研究了激光功率、焦点位置、激光重复频率、切割线速度以及激光横膜模式对CVD金刚石切缝宽度、切深以及表面粗糙度的影响。研究结果表明:切深和切缝上表面宽随着激光功率的增大而增大;焦点位置随切深的变化下移,可获得最大切深;重复频率的增大伴随着切深的减小和切缝上表面宽的增大;表面粗糙度随着切割线速度的增大先缓慢减小后显著增大;切缝上表面宽随着模式数的增多而增大。综合切深、缝宽和效率,最后在输出基横模下激光功率为12 W,重复频率为6 kHz,切割线速度为1500 mm/min,焦点位置始终位于切割凹面,获得了效率最快、质量最好的结果,即单向切深最大可达7.2 mm,切面表面的粗糙度为0.804μm,切缝上表面宽度为350μm,满足在低切面表面粗糙度下获得CVD金刚石大切深的要求。 展开更多
关键词 激光切割 化学气相沉积金刚石 高频激光 缝宽 切深 表面粗糙度
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金刚石光学窗口钎焊使用钎料研究现状
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作者 盛兰兵 张晓航 +3 位作者 尹东坤 佘春 王小宇 沈元勋 《精密成形工程》 北大核心 2025年第6期1-12,共12页
随着科技的迭代升级,对高性能光学窗口的需求日益凸显,金刚石光学窗口在电子、信息、航天等领域具有巨大的应用前景。目前金刚石窗口面临着性能要求高、连接难度大、传统钎焊材料难以满足需求的难题。本文对CVD金刚石光学窗口钎焊研究... 随着科技的迭代升级,对高性能光学窗口的需求日益凸显,金刚石光学窗口在电子、信息、航天等领域具有巨大的应用前景。目前金刚石窗口面临着性能要求高、连接难度大、传统钎焊材料难以满足需求的难题。本文对CVD金刚石光学窗口钎焊研究现状和发展趋势进行了论述,从金刚石使用的钎焊材料着手,分别介绍了Ni基、Cu基、Ag基3种不同类型的钎焊材料在金刚石钎焊中的应用现状。对Ag基钎料钎焊金刚石光学窗口过程进行了重点阐释,概述了添加不同种类合金成分的Ag基钎料对钎焊过程中组织形成及焊缝性能的影响,并探讨了单步及多步降熔法对减轻银铜基钎焊接头应力集中的作用机制。分析了Ni基与Cu基钎料因钎焊温度较高而容易产生严重的石墨化问题以及因存在较大的残余应力而不适用于窗口钎焊的原因,总结了不同钎料及钎焊工艺在窗口钎焊过程中存在的问题。最后探讨了目前Ag基钎料在钎焊金刚石窗口过程中仍存在的问题并提出了解决方案,并对金刚石窗口钎焊连接的未来发展进行了展望。 展开更多
关键词 化学沉积(CVD)金刚石 光学窗口 钎焊 银铜 活性元素
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ECR等离子体刻蚀增强机械抛光CVD金刚石 被引量:4
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作者 潘鑫 马志斌 +2 位作者 高攀 李国伟 曹为 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期174-178,共5页
采用电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光化学气相沉积(CVD)金刚石,运用扫描电镜、Raman光谱观察、分析了刻蚀与抛光后金刚石的表面形貌和质量变化,并与单纯的机械抛光相比较,研究了等离子体刻蚀对后续机械抛光的... 采用电子回旋共振(ECR)等离子体刻蚀与机械抛光相结合的方法抛光化学气相沉积(CVD)金刚石,运用扫描电镜、Raman光谱观察、分析了刻蚀与抛光后金刚石的表面形貌和质量变化,并与单纯的机械抛光相比较,研究了等离子体刻蚀对后续机械抛光的影响,结果发现:金刚石经ECR等离子体刻蚀后非晶碳含量有一定程度降低,刻蚀过程在金刚石晶面形成的疏松表面有利于机械抛光,金刚石表面平均粗糙度更加快速降低。对比实验表明等离子体刻蚀对机械抛光前期的抛光效率的增强效果更为明显,在ECR等离子体刻蚀后的金刚石样品经10min机械抛光后粗糙度从7.284下降到1.054μm,而直接机械抛光30min时金刚石的表面粗糙度为1.133μm,在机械抛光的初始阶段,等离子体刻蚀后的机械抛光效率是单纯机械抛光效率的3倍。最终,经过三次重复刻蚀后机械抛光,金刚石表面粗糙度降为0.045μm。 展开更多
关键词 刻蚀 机械抛光 电子回旋共振等离子体 化学气相沉积金刚石
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工艺条件对热丝CVD金刚石薄膜电学性能的影响 被引量:2
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作者 刘健敏 夏义本 +2 位作者 王林军 张明龙 苏青峰 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期1018-1024,共7页
采用不同的沉积条件,通过HFCVD方法制备了四种不同质量、不同取向的CVD金刚石薄膜.讨论了薄膜退火前后的介电性能.研究了不同沉积条件和退火工艺与介电性能之间的联系.通过扫描电镜SEM、Raman光谱、XRD、I-V特性曲线以及阻抗分析仪表... 采用不同的沉积条件,通过HFCVD方法制备了四种不同质量、不同取向的CVD金刚石薄膜.讨论了薄膜退火前后的介电性能.研究了不同沉积条件和退火工艺与介电性能之间的联系.通过扫描电镜SEM、Raman光谱、XRD、I-V特性曲线以及阻抗分析仪表征CVD金刚石薄膜的特性.结果表明,退火工艺减少了薄膜吸附的氢杂质,改善了薄膜质量.获得的高质量CVD金刚石薄膜具有好的电学性能,在50V偏压条件下电阻率为1.2×1011Ω·cm,频率在2MHz条件下介电常数为5.73,介电损耗为0.02. 展开更多
关键词 退火工艺 化学气相沉积金刚石薄膜 沉积条件
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应用CVD金刚石涂层工具研磨单晶蓝宝石 被引量:7
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作者 卢文壮 杨斌 +2 位作者 冯伟 杨旭 蔡文俊 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期540-546,共7页
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了具有球状晶结构、棱锥形晶结构和棱柱形晶结构等3种不同表面特征的化学气相沉积(CVD)金刚石涂层工具,以提高其研磨效率。通过正交实验法研究了金刚石涂层晶粒形态、载荷、工作台转速、研磨时间等4... 通过热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了具有球状晶结构、棱锥形晶结构和棱柱形晶结构等3种不同表面特征的化学气相沉积(CVD)金刚石涂层工具,以提高其研磨效率。通过正交实验法研究了金刚石涂层晶粒形态、载荷、工作台转速、研磨时间等4个工艺参数对蓝宝石材料去除率和表面粗糙度的影响。结果表明:金刚石涂层的晶粒形态对材料去除率和表面粗糙度影响较大;球状晶结构金刚石涂层切向力较小,棱柱形晶结构金刚石涂层切向力较大;选择棱柱形晶CVD金刚石涂层工具研磨蓝宝石,在研磨加工参数为载荷0.15 MPa、转速100 r/min、研磨时间3 min时,其材料去除率为0.397μm/min,表面粗糙度为0.354μm。结果表明:提出的CVD金刚石涂层工具可用于进一步加工、研磨蓝宝石切片,去除其表面划痕,从而改善工件表面质量。 展开更多
关键词 化学沉积(CVD)金刚石涂层 研磨 蓝宝石 晶粒形态
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Structural and electronic properties of nitrogen-doped ultrananocrystalline diamond films grown by microwave plasma CVD
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作者 Venkateswara Rao Sodisetti Somnath Bhattacharyya 《新型炭材料(中英文)》 北大核心 2025年第5期1169-1183,I0058-I0064,共22页
Nitrogen doping in chemical vapor deposition-derived ultrananocrystalline diamond(UNCD)films in-creases the electronic conductivity,yet its microstructural effects on electron transport are insufficiently understood.W... Nitrogen doping in chemical vapor deposition-derived ultrananocrystalline diamond(UNCD)films in-creases the electronic conductivity,yet its microstructural effects on electron transport are insufficiently understood.We investigated the formation of nitrogen-induced diaph-ite structures(hybrid diamond-graphite phases)and their role in changing the conductivity.Nitrogen doping in a hy-drogen-rich plasma environment promotes the emergence of unique sp^(3)-sp^(2)bonding interfaces,where diamond grains are covalently integrated with graphitic domains,facilitating a structure-driven electronic transition.High-resolution transmis-sion electron microscopy and selected area electron diffraction reveal five-fold,six-fold and twelve-fold symmetries,along with an atypical{200}crystallographic reflection,confirming diaphite formation in 5%and 10%N-doped UNCD films,while high-er doping levels(15%and 20%)result in extensive graphitization.Raman spectroscopy tracks the evolution of sp^(2)bonding with increasing nitrogen content,while atomic force microscopy and X-ray diffraction indicate a consistent diamond grain size of~8 nm.Cryogenic electronic transport measurements reveal a conductivity increase from 8.72 to 708 S/cm as the nitrogen dop-ing level increases from 5%to 20%,which is attributed to defect-mediated carrier transport and 3D weak localization.The res-ulting conductivity is three orders of magnitude higher than previously reported.These findings establish a direct correlation between diaphite structural polymorphism and tunable electronic properties in nitrogen-doped UNCD films,offering new ways for defect-engineering diamond-based electronic materials. 展开更多
关键词 CVD diamond Nitrogen doping Diamond-graphene composite 3D Weak Localization Diamond electronics
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薄膜材料与器件
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《中国光学》 EI CAS 2000年第1期71-72,共2页
O484.1 2000010458激光辅助化学气相沉积金刚石薄膜实验研究=Synthesisof diamond films by laser-assistedchemical vapour deposition[刊,中]/任德明,胡孝勇,刘逢梅,赵景山,王楠楠,马祖光(哈尔滨工业大学光电子技术研究所.黑龙江,哈... O484.1 2000010458激光辅助化学气相沉积金刚石薄膜实验研究=Synthesisof diamond films by laser-assistedchemical vapour deposition[刊,中]/任德明,胡孝勇,刘逢梅,赵景山,王楠楠,马祖光(哈尔滨工业大学光电子技术研究所.黑龙江,哈尔滨(150001))//光电子·激光.—1998,9(6).—446-449采用激光辅助化学气相沉积法合成了厚度为15μm的金刚石薄膜。实验结果表明:以丙酮为碳源气体,并用XeCl(308 nm)准分子激光解离,H<sub>2</sub>用灯丝进行预先解离,适当选择和控制各种实验参数,可获得高质量的金刚石薄膜。还讨论了衬底温度以及灯丝温度等实验参数对薄膜生长速率与薄膜质量的影响。图9表1参8(郑锦玉)O484.2 2000010459离化团束沉积中的分子动力学模拟=Molecular dynamicssimulation in ionized clusterbeams deposition[刊,中]/张豪,夏宗宁(清华大学材料科学与工程系.北京(100084))//人工晶体学报.—1998,27(4). 展开更多
关键词 化学气相沉积金刚石薄膜 分子动力学模拟 薄膜材料 化学沉积 激光辅助 人工晶体 离化团束沉积 实验参数 实验研究 激光解离
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应用于微波电磁场FDTD数值模拟的吸收边界条件 被引量:1
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作者 柴中林 唐伟忠 +1 位作者 李安贵 单欣颖 《北京工商大学学报(自然科学版)》 CAS 2003年第3期61-64,共4页
在应用FDTD方法模拟复杂空间中微波电磁场分布时,不仅要考虑入射电磁波的贡献,还要考虑反射电磁波的影响。对于后者,一般常采用吸收边界条件的方法予以处理。针对TEM电磁波的传播特点,推导出了一种新的吸收边界条件的表达式,并利用其对... 在应用FDTD方法模拟复杂空间中微波电磁场分布时,不仅要考虑入射电磁波的贡献,还要考虑反射电磁波的影响。对于后者,一般常采用吸收边界条件的方法予以处理。针对TEM电磁波的传播特点,推导出了一种新的吸收边界条件的表达式,并利用其对微波法金刚石膜沉积系统沉积室中电磁场的分布进行了数值模拟。 展开更多
关键词 微波电磁场 FDTD方法 数值模拟 吸收边界条件 金刚石化学沉积 电磁波
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Preparation of diamond/Cu microchannel heat sink by chemical vapor deposition 被引量:2
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作者 刘学璋 罗浩 +1 位作者 苏栩 余志明 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第3期835-841,共7页
A Ti interlayer with thickness about 300 nm was sputtered on Cu microchannels, followed by an ultrasonic seeding with nanodiamond powders. Adherent diamond film with crystalline grains close to thermal equilibrium sha... A Ti interlayer with thickness about 300 nm was sputtered on Cu microchannels, followed by an ultrasonic seeding with nanodiamond powders. Adherent diamond film with crystalline grains close to thermal equilibrium shape was tightly deposited by hot-filament chemical vapor deposition(HF-CVD). The nucleation and growth of diamond were investigated with micro-Raman spectroscope and field emission scanning electron microscope(FE-SEM) with energy dispersive X-ray detector(EDX). Results show that the nucleation density is found to be up to 1010 cm-2. The enhancement of the nucleation kinetics can be attributed to the nanometer rough Ti interlayer surface. An improved absorption of nanodiamond particles is found, which act as starting points for the diamond nucleation during HF-CVD process. Furthermore, finite element simulation was conducted to understand the thermal management properties of prepared diamond/Cu microchannel heat sink. 展开更多
关键词 chemical vapor deposition microchannel nanoseeding Ti interlayer Cu substrate
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