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化学气相沉积碳化硅平面反射镜的高精度超光滑加工 被引量:2
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作者 康念辉 李圣怡 +1 位作者 郑子文 戴一帆 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期69-73,共5页
针对化学气相沉积碳化硅平面反射镜的材料特性与技术要求,制定了"传统研抛+离子束抛光"的工艺方法,并在一块口径为100mm的试件上进行了验证。首先基于加工效率和亚表面损伤选择合理的工艺参数,并采用磁流变抛光斑点法测量各... 针对化学气相沉积碳化硅平面反射镜的材料特性与技术要求,制定了"传统研抛+离子束抛光"的工艺方法,并在一块口径为100mm的试件上进行了验证。首先基于加工效率和亚表面损伤选择合理的工艺参数,并采用磁流变抛光斑点法测量各道工序的亚表面损伤,并以此为依据规划下一道工序的材料去除量;然后分析抛光表面粗糙度的影响因素,在此基础上对抛光工艺参数进行优化,获得表面粗糙度均方根方差值为0.584nm的超光滑表面,并控制工件的面形误差;最后采用离子束抛光进行精度提升,使工件的低频和中频误差均大幅下降,最终工件的面形精度均方根方差值达到0.007λ(λ=632.8nm),表面粗糙度均方根方差值为0.659nm。 展开更多
关键词 化学气相沉积碳化硅 超光滑 亚表面损伤 离子束抛光
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化学气相沉积碳化硅超光滑抛光机理与表面粗糙度影响因素
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作者 康念辉 李圣怡 郑子文 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期89-94,共6页
为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了... 为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了系统的试验研究。研究结果表明:化学气相沉积碳化硅的稳定抛光过程是磨粒对碳化硅表面的塑性域划痕过程;CVD SiC的晶粒不均匀与表面高点会降低最终所能达到的表面质量;表面粗糙度在一定范围内随磨粒粒度增加呈近似线性增长,随抛光模硬度的增加而增长;抛光压强对表面粗糙度的影响规律与抛光模的变形行为相关,当抛光模处于弹性或弹塑性变形阶段时,表面粗糙度随抛光压强的增加呈小幅增长,而当抛光模包含塑性变形之后,表面粗糙度基本与抛光压强无关;此外,抛光速度和抛光液pH值对表面粗糙度的影响不大。研究结论为CVD SiC超光滑抛光的工艺参数优化选择提供了定量的试验依据。 展开更多
关键词 化学气相沉积碳化硅 纳米划痕试验 抛光机理 表面粗糙度
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应用在线电解修整磨削和磁流变光整加工组合工艺进行碳化硅的纳米加工 被引量:1
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作者 尹韶辉 陈逢军 +3 位作者 盛晓敏 大森整 林伟民 上原嘉宏 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第21期2547-2550,2560,共5页
利用在线电解修整镜面磨削和磁流变光整加工技术对化学气相沉积碳化硅反射镜进行纳米级精度的加工。首先进行在线电解修整磨削,使反射镜面高效率加工成形,并获得较好的形状精度和表面质量;然后利用磁流变技术进行光整加工,以减少反射镜... 利用在线电解修整镜面磨削和磁流变光整加工技术对化学气相沉积碳化硅反射镜进行纳米级精度的加工。首先进行在线电解修整磨削,使反射镜面高效率加工成形,并获得较好的形状精度和表面质量;然后利用磁流变技术进行光整加工,以减少反射镜的亚表面损伤,提高表面质量,并通过修正加工,显著提高了工件表面的形状精度。对化学气相沉积碳化硅进行了一系列的加工试验,高效率地得到Rq=2.4nm(均方根偏差)的表面粗糙度和21.2nm的形状精度,并且对在线电解修整镜面磨削与磁流变光整加工所生成的表面特性进行了分析比较。 展开更多
关键词 化学气相沉积碳化硅 在线电解修整镜面磨削 磁流变光整加工 超精密加工 形状精度 表面粗糙度
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SiC/Mo-Si复合涂层C/SiC复合材料的氧化性能 被引量:4
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作者 闫志巧 熊翔 +3 位作者 肖鹏 陈峰 刘根山 黄伯云 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期124-128,共5页
采用化学气相沉积法(CVD)和刷涂法在C/SiC复合材料表面制备抗氧化涂层。该涂层由致密的CVDSiC层和多孔的Mo-Si层交替组成,其结构从里到外为:CVDSiC层→Mo-Si层→CVDSiC层→Mo-Si层→CVDSiC层。涂层试样于1400℃的氧化实验和1400℃100℃... 采用化学气相沉积法(CVD)和刷涂法在C/SiC复合材料表面制备抗氧化涂层。该涂层由致密的CVDSiC层和多孔的Mo-Si层交替组成,其结构从里到外为:CVDSiC层→Mo-Si层→CVDSiC层→Mo-Si层→CVDSiC层。涂层试样于1400℃的氧化实验和1400℃100℃的热震实验结果表明:在氧化和热震过程中,涂层均保持完整,没有出现脱落和掉块等失效现象。经1400℃、150h氧化后,涂层试样的失重率仅为0.25%,失重速率为6.61×10-6g.cm-.2h-1。在热震过程中,涂层试样基本保持氧化增重。经25次和50次热震后,涂层试样的弯曲强度保持率分别为95.73%和81.61%。SiC/Mo-Si复合涂层具有优异的抗氧化和抗热震性能,可对C/SiC复合材料提供1400℃、长时间的氧化防护。 展开更多
关键词 C/SIC复合材料 化学气相沉积碳化硅 刷涂 抗氧化涂层 抗热震性能
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Chemical vapor deposition of SiC at different molar ratios of hydrogen to methyltrichlorosilane 被引量:1
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作者 杨艳 张伟刚 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2009年第5期730-737,共8页
Chemical vapor deposition(CVD) of SiC from methyltrichlorosilane(MTS) was studied at two different molar ratios of H2 to MTS(n(H2) /n(MTS) ) . The total pressure was kept as 100 kPa and the temperature was varied from... Chemical vapor deposition(CVD) of SiC from methyltrichlorosilane(MTS) was studied at two different molar ratios of H2 to MTS(n(H2) /n(MTS) ) . The total pressure was kept as 100 kPa and the temperature was varied from 850 to 1 100 ℃ at a total residence time of 1 s. Steady-state deposition rates as functions of reactor length and of temperature,investigated at different n(H2) /n(MTS) values,show that hydrogen exhibits strongly influences on the deposition rate. Especially,the deposition of Si co-deposit can be obtained in broader substrate length and at higher temperatures with increasing hydrogen partial pressure. Influence of hydrogen on the deposition process was also studied using gas phase composition and deposit composition analysis at various n(H2) /n(MTS) . SEM micrographs directly show the variation of surface morphologies at various n(H2) /n(MTS) . It can be found that the crystal grain of the deposit at 1 100 ℃ is better developed and the crystallization is also improved with increasing n(H2) /n(MTS) . 展开更多
关键词 METHYLTRICHLOROSILANE silicon carbide H2 MTS
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